专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种基于深紫外线光斑照明的倾斜物体成像系统-CN202110359007.2有效
  • 林子棋;朱俊 - 合肥市纳诺半导体有限公司
  • 2021-04-02 - 2023-06-16 - G01N21/88
  • 本发明涉及光学成像技术领域,尤其涉及一种基于深紫外线光斑照明的倾斜物体成像系统,采用深紫外线光斑照明光学系统,其光源采用深紫外波段的激光器,激光器的波长选择范围是190~280nm,激光器生成照明光路的光轴,激光器出射的激光通过激光传输光学元件入射到线光斑发生器上,线光斑发生器将入射的激光转换成一条线斑生成在待检测物体的表面上,经过大量的模拟仿真计算,线光斑发生器的出射光轴与待测物体表面法线的角度选择范围是45°到80°。本发明达到了提高物体表面散射光检测技术灵敏度和速度的目的,采用了独特的光学结构布局,使该成像系统的光路与待测物面法线最大的角度为70°,其最高空间分辨率小于1微米。
  • 一种基于深紫外线光斑照明倾斜物体成像系统
  • [发明专利]一种深紫外斜入射高分辨率暗场照明光学系统-CN202011162660.1在审
  • 林子棋 - 江苏三米科思半导体设备有限公司
  • 2020-10-27 - 2021-01-01 - G02B21/10
  • 本发明涉及光学系统技术领域,尤其涉及一种深紫外斜入射高分辨率暗场照明光学系统,包括光源、扩束镜、波片、光束偏转器、中继镜、物镜和工作台,光源负责提供照明光源,光源可以选择激光或者气体放电灯,该光源的辐射波长为0.19~0.28微米范围内,可以包含单色光或者复色光,其辐射方式可以使用脉冲辐射或者连续辐射,扩束镜负责将光束扩束到一定尺寸。本发明能够满足纳米级的散射光暗场检测精度对照明光学系统的需求,而且使用了0.19~0.28微米波长的光源,聚焦光斑小于0.68微米,在光轴方向上的工作距离超过了50mm,并具有结构紧凑、高像质、低畸变、高分辨率等特点,能够满足不同应用场景下的使用需求。
  • 一种深紫入射高分辨率暗场照明光学系统

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