专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种Ti3-CN202111294130.7有效
  • 黄海萌;杨笑言;应国兵;张建峰 - 河海大学
  • 2021-11-03 - 2023-05-12 - C01B32/921
  • 本发明公开了一种Ti3C2Tx基电极材料及其制备方法和应用,该制备包括以下步骤:(1)将Ti3C2Tx超声离心后稀释;(2)将Ti3C2Tx和多壁碳纳米管(MWNT)置于烧杯中,稀释后超声搅拌,加入浓盐酸震荡均匀;(3)倒入四氯化碳与苯胺的混合溶液;(4)在混合溶液中加入过硫酸铵,充分反应后,离心、水洗、冷冻干燥,得到Ti3C2Tx/MWNT/PANI粉体;(5)Ti3C2Tx/MWNT/PANI粉体分散在乙醇中,并加入炭黑和PTFE,涂覆于衬底上,烘干后即得到Ti3C2Tx/MWNT/PANI基电极材料。本发明制备得到的电极材料比表面积大,吸附容量高达258 mg·g‑1,Ti3C2Tx提供离子运输通道并缩短离子运输路径,实现了高容量、快速率,制备方法简单,为Ti3C2Tx在海水淡化领域的应用提供了前景。
  • 一种tibasesub
  • [发明专利]一种聚合物/Ti3-CN202010756758.3在审
  • 张建峰;杨笑言 - 河海大学
  • 2020-07-31 - 2020-11-06 - C02F1/469
  • 本发明公开了一种聚合物/Ti3C2Tx基电极材料及其制备方法,该材料包括Ti3C2Tx基体、插入Ti3C2Tx层间的球形聚吡咯以及用于粘结聚吡咯和Ti3C2Tx基体的聚苯胺,Ti3C2Tx基体沉积在衬底上;该材料的制备方法包括以下步骤:(1)制备Ti3C2Tx分散液;(2)制备聚吡咯粉体;(3)将Ti3C2Tx分散液与聚吡咯粉体混合,并加入苯胺单体,在惰性气体条件下加入过硫酸铵,并在冰水浴中搅拌至反应完全,离心、清洗、烘干后即获得PANI/Ti3C23Tx/PPY粉体;(4)将PANI/Ti3C2Tx/PPY粉体分散在乙醇中,并加入炭黑,涂覆于衬底上,烘干、压片后即得到聚合物/Ti3C2Tx基电极材料。该材料比表面积高,比电容高达412F/g,材料的稳定性好,层间电子传输速率及离子的吸脱附速率提高,制备方法简单、绿色环保。
  • 一种聚合物tibasesub
  • [发明专利]一种卷式纳米填充反渗透膜元件-CN202010611765.4在审
  • 张建峰;葛梦妮;杨笑言;王笑影 - 河海大学
  • 2020-06-30 - 2020-10-02 - B01D63/00
  • 本发明公开了一种卷式纳米填充反渗透膜元件,包括中心产水管和包裹在中心产水管上的反渗透膜片组,反渗透膜片组包括原水导流网和逐层附着在原水导流网上的原水活性炭纤维毡、纳米改性反渗透膜片、产水活性炭纤维毡和产水导流网,产水导流网和中心产水管,纳米改性反渗透膜片为g‑C3N4纳米改性聚酰胺反渗透膜片。该元件选用高性能低成本g‑C3N4纳米材料改性反渗透膜片,g‑C3N4纳米材料粒径小、分散性高,原料来源广泛,制备过程简单,能够实现大规模生产;元件在提高反渗透膜水通量和分离效率的同时,能够有效实现反渗透膜元件的耐氯氧化和耐污染性能,提高元件使用效率,延长使用寿命;制备简单易操作,成本低廉,能够应用于反渗透膜水处理中,实现工业化生产。
  • 一种纳米填充反渗透元件
  • [发明专利]一种用于自动研磨抛光机的研磨抛光装置-CN201510419293.1有效
  • 张建峰;李柏涛;李改叶;吴玉萍;杨笑言;张欣 - 河海大学
  • 2015-07-16 - 2017-05-24 - B24B37/27
  • 本发明的用于自动研磨抛光机的研磨抛光装置,包括修盘环和载样盘,所述修盘环为上下分离式结构,上修盘环的重量小于所述下修盘环的重量,修盘环表面设置有若干固定孔,固定孔在所述修盘环表面呈中心对称分布,或者其中一个固定孔设置于修盘环的中心,剩余的固定孔呈中心对称分布;下修盘环的底部设置有外径小于修盘环底部的凹槽,在修盘环底部的四周设置有若干排液槽,所述的载样盘与所述修盘环的固定孔保持间隙配合。本发明可同时研磨抛光多个小样品,既大大提高了效率,又避免了修盘环齿韧的磨损和样品侧歪而导致的抛光面不平,同时当研磨抛光硬度较大的样品时可以使用增重体用来提高研磨效率和质量。
  • 一种用于自动研磨抛光机抛光装置

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