专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]积液引流装置及其引流储液组件-CN201220251909.0有效
  • 陈淑珍;李薇薇;奚小土;丁邦晗;唐光华;邓秋迎 - 陈淑珍;李薇薇;奚小土;丁邦晗;唐光华;邓秋迎
  • 2012-05-31 - 2013-01-16 - A61M1/00
  • 本实用新型公开了一种积液引流装置,其包括插入式导管、与所述插入式导管一端固定连接的第一接头、与所述第一接头密封对接的第二接头、其一端与所述第二接头固定连接的引流管、与所述引流管另一端连接的储液袋。引流管和插入式导管通过第一接头和第二接头可以快速卡接或旋接实现连接,连接简单容易,无需预备消毒,连接或更换储液袋都非常简单快捷,而且积液引流装置以无菌形式保存备用,在进行胸腔或者腹腔置管引流时,能够节约置管前备物的时间。本实用新型公开了一种引流储液组件,其可与具有螺纹连接部的插入式导管进行螺接,组合使用实现对胸腹腔积液进行引流,可以单独制造生产,以无菌模式单独封装备用,方便更换。
  • 积液引流装置及其组件
  • [实用新型]具有干燥鼓风及通氮气保护功能的真空烘箱-CN201220165970.3有效
  • 朱美芳;张须臻;陈龙;孙宾;周哲;胡泽旭;孟思;刘洋;李薇薇 - 东华大学
  • 2012-04-19 - 2012-11-07 - F26B25/06
  • 一种具有干燥鼓风及通氮气保护功能的真空烘箱,其特征在于:包括烘箱,烘箱的抽真空端通过真空缓冲瓶与真空泵相连,在烘箱的进气端及出气端上分别连接有进气口阀门及出气口阀门,进气口阀门与干燥器相连,于燥器连接鼓风机,鼓风机的进气端与和出气口阀门相连的出气管道汇流后连接总阀,烘箱的保护气体端口通过氮气气流控制阀与氮气瓶相连。本实用新型能够保持真空烘箱的优势,并且在原有的基础上可以针对不同的烘干对象选择真空烘箱、鼓风干燥烘箱和氮气保护烘箱不同的功能。该装置充分综合各种烘箱的优势,对样品进行彻底的干燥,并有效保护各种类的加热对象,对于实验操作的实际应用具有很高的灵活性。
  • 具有干燥鼓风氮气保护功能真空烘箱
  • [发明专利]一种人造微管的制备方法及其做为微马达的应用-CN201210006974.1无效
  • 贺强;吴志光;李薇薇 - 哈尔滨工业大学
  • 2012-01-11 - 2012-09-19 - B81C99/00
  • 一种人造微管的制备方法及其做为微马达的应用,本发明涉及人造微管的制备方法及其应用。本发明是要解决现有的电化学沉积法合成微纳米马达的方法成本高且一次合成数量较小、粒子束喷射法操作要求难度大的技术问题。本方法:一、制备金属催化粒子;二、将聚电解质层层组装至模板的孔中;三、组装金属催化粒子,得到人造微米管。人造微管做为微马达的应用,是将人造微管放入过氧化氢溶液中,其通过催化过氧化氢产生氧气,利用气泡作为推动力,进而实现马达游动作用。本发明操作简单,尺寸可控,成本低廉,而且一次合成数量多。本发明的人造微管可作为微马达用于医学领域中。
  • 一种人造微管制备方法及其做为马达应用
  • [发明专利]高稀释比和高稳定性的硅片化学机械抛光组合物-CN201210046522.6无效
  • 李薇薇 - 南通海迅天恒纳米科技有限公司
  • 2012-02-28 - 2012-08-01 - C09G1/02
  • 本发明提供了一种高稀释比和高稳定性的硅片化学机械抛光组合物,包括以下成分:磨料、盐、pH调节剂、螯合剂、活性剂和缓冲体系。本发明的高稀释比和高稳定性的硅片化学机械抛光组合物,具有如下技术效果:1)选用科学合理的缓冲体系,不盲目提高抛光组合物的pH,抛光过程中pH值变化幅度小,抛光后,硅片表面质量较好,没有表面划伤以及其他缺陷;2)在配制抛光组合物时,增加稳定硅溶胶粒子的物质,可使抛光组合物在配制过程中粒子间保持高度的平衡;增加特定缓冲体系可增加稀释液的pH缓冲性能,使得抛光组合物pH维持在一定的水平,稳定抛光速率;3)抛光组合物配制工艺简单,易操作,适于工业生产;可降低抛光组合物的使用成本。
  • 稀释稳定性硅片化学机械抛光组合
  • [发明专利]一种快速合成钛酸钡纳米粉的方法-CN201210039766.1无效
  • 施利毅;赵尹;李薇薇;袁帅;王竹仪;方建慧 - 上海大学
  • 2012-02-22 - 2012-07-18 - C04B35/468
  • 本发明涉及一种快速制备钛酸钡纳米粉末的方法,属于电子材料的制备技术领域。本发明采用的是微波辅助水热法,即将自制PTA溶胶和氢氧化钡溶液相混合,将混合溶液放入微波制样系统的密闭高温反应釜中,在低温条件下,通过短时间微波作用得到纳米级钛酸钡和碳酸钡混合物。将得到的产物以一定浓度的酸溶液超声清洗、去离子水渗析,最后烘干,即可制得纯度高、结晶度高的钛酸钡纳米粉,该方法结合了水热和微波两种方法的优势。所得粉体粒径在100nm之内,制备过程中没有引入表面活性剂,无需高温煅烧,所制得粉体在电子陶瓷及光催化等领域有广泛的应用前景。
  • 一种快速合成钛酸钡纳米方法
  • [发明专利]摆动挤压制备梯度材料技术-CN201110148220.5无效
  • 李洪洋;李薇薇;陈成;张妍婧 - 北京理工大学
  • 2011-06-03 - 2012-03-14 - B21C23/02
  • 本发明叫做摆动挤压,摆动挤压是一种局部剪切挤压。在挤压过程中,通过对挤压变形过程中变形区金属施加不同高度的垂直于挤压轴方向的剪切应力,促使金属多晶体在变形过程中形成以挤压轴为中心的摆动剪切变形。结合材料进出模具所承受的正反两次剧烈塑性剪切作用以达到细化多晶体晶粒改善材料的微观组织结构的目的。由于变形前后材料的几何形状不发生变化,可以通过反复变形积累塑性应变不断细化微观组织直至平均晶粒直径至饱和值,最终使材料沿厚度方向形成一种性能梯度,如强度沿厚度方向不断提高。
  • 摆动挤压制备梯度材料技术
  • [发明专利]一种上行链路自适应编码调制方法及实现该方法的基站-CN201010199478.3无效
  • 李薇薇 - 中兴通讯股份有限公司
  • 2010-06-12 - 2011-12-14 - H04L1/00
  • 本发明公开了一种上行链路自适应编码调制方法及实现该方法的基站。其中方法包括以下处理过程:基站在本地配置上行SINR与上行调制编码方式之间的对应关系;由测量获得上行SINR;对该上行SINR进行滤波平滑处理,获得上行SINR平滑值;利用该平滑值及上述对应关系确定上行链路使用的调制编码方式。基站包括:配置上行SINR与上行调制编码方式之间的对应关系模块、上行SINR滤波处理模块、调制编码方式映射模块、误块率Bler统计模块、外环调整值计算模块、调制编码方式修正模块。采用本发明所述技术方案解决了吞吐量波动问题,还可以利用外环误块率Bler的调整值真实地反映信道状况并快速做出响应。
  • 一种上行自适应编码调制方法实现基站
  • [发明专利]扭转剪切复合挤压制备钛合金微/纳米块体方法-CN201110147144.6无效
  • 李洪洋;陈成;李薇薇;张妍婧 - 北京理工大学
  • 2011-06-02 - 2011-11-09 - C22F1/18
  • 本发明涉及一种扭转剪切复合挤压制备钛合金微/纳米块体方法,属于钛合金微纳米块体制备技术领域。通过将扭转挤压剧烈塑性成形与剪切挤压剧烈塑性成形工艺的复合,发挥两种工艺挤压方向变形前后一致,变形区材料承受静水压力,修复微观材料缺陷,同时扭转挤压为以挤压轴为中心的轴对称剪切变形,剪切挤压为垂直于挤压轴的剪切变形,两种塑性变形剪切方向不同,具有细化晶粒的互补性,通过对两种挤压加工道次的优化组合,制备高性能微纳米钛合金块体材料,在此基础上进行剪切挤压变形,对拉长的旋转型细晶进行垂直于挤压轴方向的反复剪切变形,形成进一步的细化晶粒。
  • 扭转剪切复合挤压制备钛合金纳米块体方法
  • [发明专利]用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物-CN201010576406.6无效
  • 仲跻和;李薇薇 - 江苏海迅实业集团股份有限公司
  • 2011-01-25 - 2011-05-18 - C09G1/02
  • 本发明提供了一种用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物,其特征在于,按照重量百分比包括:二氧化硅磨料30-40wt%、有机碱0.01-5wt%、复合表面活性剂0.01-0.5wt%、切水剂0.01-0.5wt%,余量为去离子水。本发明具有如下技术效果:在不同的抛光参数条件下对精细玻璃基板进行抛光可有效去除精细玻璃基板表面吸附的灰尘、油渍等,避免了传统氧化铈抛光后磨料粒子的残留给后期玻璃镀膜工艺中造成的膜层附着力不好的影响,抛光组合物中的磨料及抛光产物可快速脱离精细玻璃基板表面,形成洁净表面,可直接用于镀膜,提高了生产效率,经检测膜层的附着力,临界载荷为10N以上,附着力较好。
  • 用于精细玻璃镀膜处理抛光组合
  • [发明专利]具有特殊缓冲体系的硅片化学机械抛光液-CN201010576414.0无效
  • 仲跻和;李薇薇 - 江苏海迅实业集团股份有限公司
  • 2010-12-07 - 2011-04-27 - C09G1/02
  • 本发明提供了一种具有特殊缓冲体系的硅片化学机械抛光液,按照重量百分比包括下列组分:二氧化硅磨料25-40wt%,酸式盐0.1-0.6wt%,pH调节剂0.1-3.0wt%,碱性螯合剂0.01-0.8wt%,余量为水,本发明具有如下技术效果:1)选用科学合理的缓冲体系,不盲目提高抛光液的pH,抛光过程中PH值变化幅度小,抛光后,硅片表面质量较好,没有表面划伤以及其他缺陷;2)在配制抛光液时,增加自主研发的螯合剂后可增加抛光液的抛光速率并提高了抛光液的缓冲能力,使得循环使用过程中PH值仅下降0.2-0.25;3)抛光液配制工艺简单,易操作,适于工业生产;可降低抛光液的使用成本。
  • 具有特殊缓冲体系硅片化学机械抛光

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