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- [实用新型]等离子体源增强沉积设备-CN03211548.2无效
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李国卿;关秉羽;李剑锋;牟宗信
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大连理工大学
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2003-02-20
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2004-08-11
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C23C14/32
- 等离子体源增强沉积设备属于等离子体表面物理气相沉积技术领域。等离子体源增强沉积设备由真空系统、加热系统、偏压电源、供气系统、工件传动系统以及等离子体源与真空弧、磁控溅射组成，由等离子体源提供气体离化的等离子体，在偏压作用下，载能离子清洗、活化和强化材料表面，并与真空弧、磁控溅射产生的金属离子合成薄膜，实现等离子体源强化－镀膜一体化技术。本实用新型设备设计适合工业应用的等离子体源，利于产业化技术。应用于机械，信息，建筑装璜等领域。尤其适用于深层强化和表面处理的工模具。
- 等离子体增强沉积设备
- [发明专利]高真空磁过滤弧源-CN03111072.X无效
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李国卿;关秉羽;李剑锋;牟宗信
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大连理工大学
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2003-02-20
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2003-12-03
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C23C14/35
- 高真空磁过滤弧源属于等离子体和材料表面技术领域，包括弧源屏蔽1、阴极靶2、引弧磁体3、触发机构4、水冷阳极7、主弧电源11、辅助阳极电源5、辅助阳极10、磁场线圈6、离化阳极8和离化电源9，真空度为10－1Pa～10－3Pa量级，启动触发机构4产生金属弧斑，启动辅助阳极10及电源5产生预备弧等离子体，启动主弧电源11产生稳定的等离子体，在磁场线圈6产生的磁过滤磁场的引导下经过离化电源9施加的电场的作用，二次离化和过滤金属液滴。阴极靶2由阴极、阳极与触发极组成，阳极外绕有磁场线圈6。本发明的有益效果是液滴滤除90％，真空度达到10－3Pa量级，适合于镀膜、离子注入等设备，广泛用于电子、工具、建筑玻璃和装饰的高级镀膜领域。
- 真空过滤
- [实用新型]植物浆汁美容器-CN98223637.9无效
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李国卿
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李国卿
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1998-04-06
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1999-08-18
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A61H15/02
- 本实用新型公开一种植物浆汁美容器。是由一个美容按摩头(1)和植物浆汁挤出器组成。其特征在于所述的美容按摩头(1)是一个按摩面为球形凸起面或平面的柔软体,浆汁挤出器包括一个底部有漏孔的筒状物(3)和一个与该筒状物开口螺纹连接的旋压盖(5),挤出的浆汁渗出到柔软体按摩面。本实用新型可以十分方便的实现用植物浆汁美容过程。其美容成本低,效果好,无化学刺激,具有拆装清洗方便,结构合理,价格低廉优点。
- 植物浆汁容器
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