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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]制备太阳能电池的方法-CN201010622348.6无效
发明人： 朴根周;金基洪 -专利权人：森美材料有限公司
申请日： 2010-12-30 - 公布日： 2012-04-04 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：制备太阳能电池的方法，该方法包括通过在太阳能电池晶片的整个表面上注入等离子体来进行绒面化；通过在已绒面化的太阳能电池晶片上将固体源扩散来形成发射极层；在太阳能电池晶片上形成钝化层，所述太阳能电池晶片上已经形成了发射极层；以及形成电极。避免在太阳能电池晶片上形成PSG(磷硅玻璃)层。
制备太阳能电池方法

[发明专利]等离子体织构化反应装置-CN201010573481.7无效
发明人： 朴根周;金基洪 -专利权人：森美材料有限公司
申请日： 2010-11-30 - 公布日： 2012-04-04 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：一种等离子体织构化反应装置，包括：腔室，包括介质窗和腔室本体并且容纳待织构化的太阳能电池晶片；多边形感应线圈，设置在所述介质窗的外侧上部以产生用于产生等离子体的磁场；高频低功率供应单元，向所述腔室的阴极供应与处理条件相对应的高频功率；以及高频源功率供应单元，向多边形感应线圈供应高频功率。
等离子体织构化反应装置

[发明专利]用于太阳能电池的等离子体织构化装置-CN201010516616.6无效
发明人： 朴根周;金容甲;金基洪;朴健 -专利权人：森美材料有限公司
申请日： 2010-10-18 - 公布日： 2012-01-11 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种用于太阳能电池的等离子体织构化装置包括：基座，具有啮合突出部，当在阴极上方使晶片对准以用于等离子体织构化时，所述啮合突出部用于防止安装在基座内的晶片向外滑动或来回移动；聚焦环，当进行等离子体织构化工序时，聚焦环用于约束等离子体；以及夹具，该夹具以具有向下的斜面的方式放置于聚焦环的内表面上，并且具有连接至聚焦环的一端以及背对该端的另一端，夹具形成尖角并用于挤压和支撑晶片的周边部分。
用于太阳能电池等离子体化装

[发明专利]等离子反应器及使用其进行蚀刻的方法-CN201010590674.3有效
发明人：张赫眞;金珉植;李洸旼;高诚庸;蔡焕国;朴根周;金起铉;李元默 -专利权人：显示器生产服务株式会社
申请日： 2010-12-07 - 公布日： 2011-08-17 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子反应器和利用其进行蚀刻的方法。该方法包括第一改变步骤来改变连接到RF电源供应装置的多组电感线圈的数量和结构设置，一个应用RF电源和产生高密度等离子的应用步骤，第一蚀刻步骤蚀刻工件第一蚀刻目标层，第一停止步骤来停止RF电源的提供，第二改变步骤来改变多组电感线圈的数量或结构设置，一个向相应的电感线圈提供RF电源和产生低密度等离子的应用步骤，第二蚀刻步骤蚀刻工件第二蚀刻目标层，和第二停止步骤来停止RF电源的提供。
等离子反应器使用进行蚀刻方法

[发明专利]等离子反应内室的侧部气体喷射器-CN201010284827.1有效
发明人：金珉植;高诚庸;蔡焕国;朴根周;金起铉;李元默 -专利权人：显示器生产服务株式会社
申请日： 2010-09-09 - 公布日： 2011-04-27 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种等离子反应内室的侧部气体喷射器。该侧部气体喷射器一块圆形均匀板和一块盖板。所述的圆形均匀板包括一个注入反应气体的喷射孔和一个分布反应气体的均匀通道部件，该均匀通道部件使从喷射孔进入的反应气体呈辐射状同时注入到均匀板的内圆周表面上多个位置处。所述的盖板与均匀板顶部相连，密封了均匀通道部件的顶部。
等离子反应内室气体喷射器

[发明专利]等离子反应器的静电夹头装置-CN200910208243.3有效
发明人：李元默;蔡焕国;朴根周;高诚庸;金珉植;金起铉 -专利权人：显示器生产服务株式会社
申请日： 2009-10-17 - 公布日： 2010-06-16 - 主分类号： H01J37/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种等离子反应器中的静电夹头装置。该装置设有一个静电夹头，一个静电夹头盖环和一个阴极装置盖环。该静电夹头设有一个主体部分和一个突起部分。所述的主体部分为一个具有第一直径的圆形。所述的突起部分整个从主体部分中形成，并从主体部分中伸出，其为一个具有第二直径的圆形，其中第二直径小于第一直径。所述的静电夹头盖环沿突起部分的外圆周环绕地设置。所述的阴极装置盖环沿静电夹头盖环的一个外圆周和主体部分的一个外圆周环绕地设置在阴极装置的上部。
等离子反应器静电夹头装置

[发明专利]等离子反应器-CN200910133994.3无效
发明人： 朴根周;高诚庸;蔡焕国;金起铉;李元默 -专利权人：显示器生产服务株式会社
申请日： 2009-04-22 - 公布日： 2009-11-11 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种等离子化学反应器。所述的反应器包括一个空腔，一个阴极装置和一块挡板。所述的空腔提供了一个等离子反应的空间。所述的阴极装置包括一个阴极支撑杆和一个基托。所述的阴极支撑杆一端与空腔的一个壁面连接，另一端与基托连接。所述的基托用于支撑基板。所述的挡板从外面插入基托并与之连接，挡板上间隔地设有多个穿过挡板的穿孔用来排放反应气体，这些穿孔是不均匀设置的，其中在阴极支撑杆顶侧处的一个穿孔面积要大于远离阴极支撑杆一侧处的一个穿孔面积。
等离子反应器

[发明专利]一种等离子化学反应器-CN200810175816.2有效
发明人：蔡焕国;李东锡;文熙锡;朴根周;金起铉;李元默 -专利权人：显示器生产服务株式会社
申请日： 2008-11-04 - 公布日： 2009-05-27 - 主分类号： C30B33/12 文献下载
摘要：本发明提供了一种等离子化学反应器。所述的反应器包括一个为等离子体反应提供一个空间的反应室；和一个一端与反应室壁面相连，另一端支撑一块基板使基板能够设置于反应室内中间部位，且安装后能够进行高度调节使基板保持一个水平状态的阴极组。
一种等离子化学反应器

[发明专利]端点检测装置和方法以及具有该装置的等离子体反应器-CN200810084662.6无效
发明人： 朴根周;韩光勋;金起铉;李元默;韩暻熏;蔡熙烨 -专利权人：显示器生产服务株式会社
申请日： 2008-03-14 - 公布日： 2009-01-28 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种端点检测装置、一种具有所述端点检测装置的等离子体反应器、以及一种端点检测方法。所述端点检测装置包括OES数据运算单元、数据选择器、乘积发生器、SVM、以及端点测定器。所述OES数据运算单元利用标准化及PCA来处理参考OES数据。所述数据选择器选择一部分所述多个线性参考负载向量并选择一部分经选定的所述多个线性参考负载向量。所述乘积发生器输出至少一参考乘积值。所述SVM作回归并输出预测乘积值。所述端点测定器检测加工晶圆蚀刻或沉积端点并输出检测信号。
端点检测装置方法以及具有等离子体反应器

[发明专利]蚀刻气体控制系统-CN200810095599.6无效
发明人： 朴根周;蔡焕国;李炳日;金起铉;李元默 -专利权人：显示器生产服务株式会社
申请日： 2008-04-29 - 公布日： 2008-11-05 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一蚀刻气体控制系统，此系统包括一气体注射器、一气体供应管、一流量比控制器、及一气体供应单元。该气体注射器安装在一容室内，并供应气体至容室内部。该气体注射器包括一安装于容室顶部的顶部注射器，及一安装于容室一侧的侧部注射器。该气体供应管与该气体注射器连接，并供应气体至该气体注射器。该流量比控制器与该气体供应管连接，并控制气体的供应。该气体供应单元则供应气体至该流量比控制器。
蚀刻气体控制系统

[发明专利]半导体元件的接触孔的形成方法-CN03100159.9有效
发明人： 朴根周 -专利权人：海力士半导体有限公司
申请日： 2003-01-03 - 公布日： 2003-11-19 - 主分类号： H01L21/30 文献下载
摘要：本发明提供一种采用浅形沟槽隔离(STI)方式而在制造逻辑组件制造过程中，用以形成接触孔的方法，对作用区域接触孔的重叠裕度小的接触孔同时在作用区域和隔离区域形成时，即，形成无边缘接触孔时，防止隔离区域的损伤。依照本发明的方法，使用作为蚀刻停止层的氮化硅层以致在STI形成过程，避免半导体元件特性的恶化。
半导体元件接触形成方法

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