“朴恩雨”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果6个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]气体供应单元和包括所述气体供应单元的基板处理装置-CN202211679601.0在审
发明人： 朴恩雨;姜钟和;李隅滥;李晟圭;朴崠云;赵容大;姜东勋;严基象 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种用于基板处理的装置。基板处理装置包括：处理基板的处理单元；以及气体供应单元，所述气体供应单元将气体供应至所述处理单元，其中所述气体供应单元包括第一壳体、第二壳体以及气体供应管道，所述第一壳体具有与所述处理单元的处理空间流体连通的第一内部空间，所述第二壳体设置在所述第一内部空间中并具有与所述第一内部空间流体连通的第二内部空间，所述气体供应管道将气体供应至所述第二内部空间。
气体供应单元包括处理装置

[发明专利]用于处理基板的装置和用于处理基板的方法-CN202210806372.8在审
发明人：卢尚垠;朴恩雨 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-07-08 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。具体地，用于处理基板的装置可以包括：液体处理腔室，该液体处理腔室配置为液体处理基板；和控制器，该控制器配置为控制液体处理腔室，其中，液体处理腔室包括：处理容器，在处理容器中具有处理空间；支承单元，该支承单元配置为在处理空间中支承并旋转基板；液体供应单元，该液体供应单元配置为将液体供应至基板上；以及升降单元，该升降单元配置为调整处理容器与支承单元之间的相对高度，并且控制器控制升降单元，以便在通过在旋转基板的情况下将液体供应至基板上进行基板处理时，根据支承在支承单元上的基板的翘曲状态调整处理容器与支承单元之间的相对高度。
用于处理装置方法

[发明专利]无线压力检测器、无线压力测量系统和压力测量方法-CN201780080832.0有效
发明人：金相模;李东彦;李学庚;林浩进;朴恩雨;朴俊昱 -专利权人：康宁股份有限公司
申请日： 2017-12-26 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： G01L1/14 文献下载
摘要：提供了一种无线压力检测器。无线压力检测器包括：支撑基材；布置在支撑基材上的多个压力传感器，所述多个压力传感器中的每一个构造成响应施加到其的压力输出信号；以及传输器，其构造成基于来自所述多个压力传感器的信号输入进行无线传输。
无线压力检测器测量系统测量方法

[发明专利]用于处理基板的装置-CN202010653813.6在审
发明人： 朴恩雨;金大城 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-07-08 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供一种用于处理基板的装置。所述用于处理基板的装置包括：基板支承构件，其将基板安置在所述基板支承构件上；处理碗，其围绕所述基板支承构件；基部板，其设置成面向安置在所述基板支承构件上的所述基板的底表面；和边缘喷嘴构件，其安装在所述基部板上、以将处理液体喷洒到安置在所述基板支承构件上的所述基板的底边缘部分。所述边缘喷嘴构件包括：主体，其安装在所述基部板上；喷嘴臂，其将边缘喷嘴安装在所述喷嘴臂上、以在所述主体上可滑动地移动；和固定构件，其将所述喷嘴臂保持在所述主体上的设定位置处。
用于处理装置

[发明专利]用于处理基板的装置和方法-CN202010542971.4在审
发明人：金大城;朴恩雨 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-06-15 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于处理基板的装置和方法。装置包括：具有处理空间的多个工艺腔室，所述工艺腔室配置为在处理空间中处理基板；以及排气单元，其用于从处理空间排出气体。所述排气单元包括多个单独排气管，其直接连接到一个工艺腔室或多个工艺腔室中的处理空间；主排气管，其连接到所述多个单独排气管；减压构件，其安置在所述主排气管中以减小所述处理空间的压力；以及阻尼器构件，其安装在各所述单独排气管中以调节通过所述单独排气管排出的气体的量。所述阻尼器构件包括第一阻尼器，其调节从所述处理空间排出的气体的量，以及第二阻尼器，其布置在所述第一阻尼器下游以缓冲通过调节第一阻尼器引起的压力变化。
用于处理装置方法

[发明专利]用于处理基板的装置-CN202010525555.3在审
发明人：金大城;朴恩雨 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-06-10 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于处理基板的装置，其包括：处理容器，在所述处理容器中具有处理空间；基板支承单元，所述基板支承单元支承所述处理空间中的所述基板；以及液体分配单元，所述液体分配单元将处理液体分配到放置在所述基板支承单元上的所述基板上。液体分配单元包括处理液体管，所述处理液体流动通过所述处理液体管；恒温水管，恒温水流动通过所述恒温水管，并且所述恒温水管围绕所述处理液体管，其中所述恒温水将流动通过所述处理液体管的所述处理液体维持在设定温度；恒温水供应管，所述恒温水供应管将所述恒温水供应至所述恒温水管；和活化构件，所述活化构件安装在所述恒温水供应管中并且活化所述恒温水中的离子。
用于处理装置

1
共 6 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top