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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]电感耦合等离子体处理装置-CN201921410229.7有效
发明人：李昌根;朴宇钟 -专利权人： INVENIA有限公司
申请日： 2019-08-28 - 公布日： 2020-08-18 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：电感耦合等离子体处理装置包括：至少一个窗口；窗框，支撑至少一个窗口；腔室，收纳窗口和窗框，并以窗框为基准分隔成第一腔室和第二腔室，该第一腔室形成有以真空氛围对基板进行工艺处理的工艺空间，该第二腔室形成有以大气压氛围收纳天线的收纳空间；盖，用于覆盖第二腔室的开放区域，该开放区域用于向收纳空间引入天线或从收纳空间引出天线；多个支架，一侧连接到窗框，另一侧以可结合及可分离方式与盖连接，用于限制窗口和窗框因自重而下垂；多个结合件，从盖的外部贯通盖，能够分别结合于多个支架或从支架解除结合，当通过解除多个结合件的结合而使盖与多个支架分离时，盖从多个支架分离并从第二腔室脱离，以使收纳空间通过开放区域暴露。
电感耦合等离子体处理装置

[实用新型]等离子体处理装置-CN201721267777.X有效
发明人： 朴宇钟;崔正秀 -专利权人： INVENIA有限公司
申请日： 2017-09-29 - 公布日： 2018-08-24 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：本实用新型实施例中的等离子体处理装置包含：收容被处理基板的处理室、与被收容在所述处理室内的所述被处理基板相对地配置的天线结构体、在所述天线结构体和所述处理室之间配置的窗及支承所述窗的框架结构体，所述天线结构体包含包含第一外侧边部、与所述第一外侧边部形成台阶并与所述第一外侧边部相比位于内侧的第一内侧边部及连接所述第一外侧边部和所述第一内侧边部的第一边部连接部的第一天线导线，所述第一边部连接部位于所述框架结构体的上部。
外侧边部天线结构体等离子体处理装置被处理基板框架结构体内侧边部配置的边部收容本实用新型连接部位天线导线支承室内

[实用新型]用于产生等离子体的天线结构体-CN201721744926.7有效
发明人： 朴宇钟;崔正秀 -专利权人： INVENIA有限公司
申请日： 2017-12-14 - 公布日： 2018-07-20 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型实施例中的用于产生等离子体的天线结构体是被施加高频电力并在处理室内生成等离子体的用于产生等离子体天线结构体，包含以形成至少一个角部的方式弯曲地形成的天线导线，所述角部以与所述角部的两侧连接的边部形成钝角的方式折弯地形成。
等离子体角部天线结构体等离子体天线本实用新型高频电力天线导线结构体边部钝角折弯施加室内

[实用新型]等离子体处理装置-CN201721533870.0有效
发明人：崔正秀;朴宇钟 -专利权人： INVENIA有限公司
申请日： 2017-11-16 - 公布日： 2018-07-20 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：本实用新型的实施例中的等离子体处理装置包含：收容被处理基板的处理室、与被收容在所述处理室内的所述被处理基板相对地配置的天线结构体及在所述天线结构体和所述处理室之间配置的窗，所述天线结构体包含由天线导线在与所述窗的上面相对的两个不同的虚拟平面之间以螺旋状形成的天线部，所述天线部形成为，其所述两个不同的虚拟平面之间的距离为在所述两个不同的虚拟平面中与所述窗邻近的平面和所述窗的下面之间的距离的两倍以上。
天线结构体虚拟平面等离子体处理装置被处理基板配置的天线部收容本实用新型天线导线螺旋状邻近室内

[发明专利]等离子体发生模块及包含该模块的等离子体处理装置-CN201711097790.X在审
发明人：韩垈昊;朴宇钟;崔正秀 -专利权人： INVENIA有限公司
申请日： 2017-11-09 - 公布日： 2018-05-22 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：本发明为了提供一种可以应对基板大型化且可以确保等离子体密度均匀性的等离子体发生模块及包含该模块的等离子体处理装置，包含供给高频电力的高频电源、以所述高频电力为基础向工序空间产生等离子体的天线及被配置在所述工序空间和所述天线之间的非磁性体，所述天线和所述非磁性体的间隔根据区域而不同，其中，所述区域根据可以使在所述工序空间产生的所述等离子体的密度均匀而设定。从而，本发明可以处理大型基板，使生成更加均匀的等离子体成为可能，具有可以制造品质优良的基板的效果。
等离子体发生模块包含处理装置

[实用新型]用于产生感应耦合等离子体的天线-CN201721106183.0有效
发明人：崔正秀;朴宇钟;韩垡昊 -专利权人： INVENIA有限公司
申请日： 2017-08-31 - 公布日： 2018-05-01 - 主分类号： H01Q1/22 文献下载
摘要：本实用新型的实施例中的用于产生感应耦合等离子体的天线包含一对沿第一方向相互平行地配置的第一天线部及一对沿与所述第一方向垂直的第二方向相互平行地配置的第二天线部，所述第一天线部及所述第二天线部各自由天线导线沿与平行于所述第一方向及所述第二方向的虚拟平面垂直的径向卷绕成螺旋状而形成，所述第一天线部的第一方向长度比所述第二天线部的第二方向长度短。
用于产生感应耦合等离子体天线

[实用新型]用于产生等离子体的天线结构体和使用所述天线结构体的等离子体处理装置-CN201721207728.7有效
发明人： 朴宇钟;崔正秀 -专利权人： INVENIA有限公司
申请日： 2017-09-20 - 公布日： 2018-05-01 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本实用新型涉及等离子体产生用天线和使用所述天线的等离子体处理装置，本实用新型实施例中的用于产生等离子体的天线结构体是被施加高频电力并在处理室内生成等离子体的用于产生等离子体的天线结构体，包含以形成至少一个角部的方式弯曲地形成的天线导线，上述天线导线以上述形成角部的部分相对于其他部分位于外侧的方式形成。
用于产生等离子体天线结构使用处理装置

[实用新型]真空腔-CN201220201550.6有效
发明人： 朴宇钟;朴希侦 -专利权人：丽佳达普株式会社
申请日： 2012-05-07 - 公布日： 2012-12-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及的真空腔包括：外壳，具有用于收容或移送被处理体的空间；排气槽，形成在所述外壳的内侧面上；排气孔，形成在所述排气槽的一面上，并贯穿所述外壳；以及排气泵，与所述排气孔连接，用于排出所述外壳内部的气体。本实用新型可降低腔体的制造成本且提高排气效率。
空腔

[发明专利]光驱的随机序列块高速记录方法及其装置-CN200510112444.5无效
发明人： 朴宇钟 -专利权人：上海乐金广电电子有限公司
申请日： 2005-12-30 - 公布日： 2007-07-04 - 主分类号： G11B20/10 文献下载
摘要：本发明涉及到光驱的随机序列块(Random序列块)高速记录方法。其包含以下步骤：当记录命令从主机计算机中传送来时，搜索与记录命令一起传送的数据记录地址是否连续的步骤；当上述数据记录地址的连续性终止的时候，对当前连续申请记录的数据记录地址的开始地址和结束地址进行储存的步骤；在当前储存着的数据记录地址中，从记录开始地址最小的地址起，进行数据记录的步骤。
光驱随机序列高速记录方法及其装置

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