“朴大然”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果12个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种光刻胶及图案化方法-CN202110716154.0有效
发明人：张腾;刘洪雷;胡凡华;朴大然;卢克军;张宁 -专利权人：北京北旭电子材料有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司
申请日： 2021-06-25 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本申请提供一种光刻胶及图案化方法，属于光刻技术领域。光刻胶包括酚醛树脂和感光剂，感光剂包括第一感光物质和第二感光物质，第一感光物质为多环芳烃与2‑叠氮‑1‑萘酚‑5‑磺酰氯和/或多环芳烃与2‑叠氮‑1‑萘酚‑4‑磺酰氯取代反应的产物，第二感光物质为酚醛树脂四聚体与2‑叠氮‑1‑萘酚‑5‑磺酰氯和/或酚醛树脂四聚体与2‑叠氮‑1‑萘酚‑4‑磺酰氯取代反应的产物。该酚醛树脂型光刻胶能够兼具较好的分辨率以及抗干刻性能。
一种光刻图案方法

[发明专利]一种光刻胶组合物、制备方法及图案化方法-CN201910933465.5有效
发明人：张腾;卢克军;朴大然;胡凡华 -专利权人：北京北旭电子材料有限公司
申请日： 2019-09-29 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及光刻胶领域，尤其涉及一种光刻胶组合物、制备方法及图案化方法。所述光刻胶组合物，包括以下组分：1～10wt％的感光剂；10～20wt％的酚醛树脂；0.1～5.5wt％的添加剂；75～88wt％的溶剂；其中，所述感光剂包括：20～70wt％的式(1)所示的第一感光化合物，20～70wt％的式(2)所示的第二感光化合物，以及1～35wt％的式(3)所示的第三感光化合物。本发明的光刻胶组合物同时保证了分辨率以感度，以满足实际生产的需求。经过试验测试，本发明的光刻胶组合物的分辨率低于2.5微米，且最小分辨率可以达到1.5微米，同时感度较快，有利于精确图案化，提高OLED显示面板的产率。
一种光刻组合制备方法图案

[发明专利]一种稳定性优良的正型光刻胶组合物-CN202111460811.6在审
发明人：吴瑞;卢克军;朴大然;张腾;胡凡华;霍建辉;张宁 -专利权人：北京北旭电子材料有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司
申请日： 2021-12-02 - 公布日： 2022-02-15 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本申请提供了一种正型光刻胶组合物，其包含酚醛树脂、感光化合物以及混合溶剂，其中，混合溶剂包含第一溶剂和第二溶剂，第一溶剂选自乳酸乙酯、3‑乙氧基丙酸乙酯、4‑甲基‑2‑戊酮和2‑庚酮中的至少一种；第二溶剂选自乙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇甲醚乙酸酯、乙酸乙酯和乙酸正丁酯中的至少一种。本申请提供的光刻胶组合物，其稳定性优于使用单一溶剂的光刻胶组合物，可以更好的应用于有机电致发光显示器中。
一种稳定性优良光刻组合

[发明专利]一种正性光刻胶组合物-CN202111145605.6在审
发明人：何卿;胡凡华;朴大然;卢克军;张宁 -专利权人：北京北旭电子材料有限公司;北旭（湖北）电子材料有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司
申请日： 2021-09-28 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： G03F7/016 文献下载
摘要：本申请提供了一种正性光刻胶组合物，基于所述正性光刻胶组合物的总重量，所述正性光刻胶组合物包括：酚醛树脂10‑20wt％，感光化合物4‑6wt％，交联剂5‑10wt％，流平剂0.05‑0.10wt％，粘附性促进剂0.05‑0.10wt％，溶剂65‑80wt％；其中，所述酚醛树脂为线性酚醛树脂，结构式如式I所示，其中，n1为自然数，85≤n1≤170。本申请提供的正性光刻胶组合物，具有高耐热的特性，耐热温度可达到230‑250℃，可用于具有高温工艺的生产流程，在曝光工艺中能够形成良好的图形形貌，同时具有良好的均一性，用于外围电路时，能够有效减少磨边时崩坏不良的发生。
一种光刻组合

[发明专利]树脂组合物、光刻胶组合物及图案化方法-CN202110930729.9在审
发明人：胡凡华;张腾;何卿;刘洪雷;方兵;朴大然;卢克军;张宁 -专利权人：北京北旭电子材料有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司
申请日： 2021-08-13 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本申请提供一种树脂组合物、光刻胶组合物及图案化方法，属于光刻技术领域。树脂组合物按质量百分比计包括20～50％的第一树脂和50～80％的第二树脂；第一树脂的结构如式Ⅰ所示；第二树脂的结构如式II‑1或者式II‑2所示。树脂组合物中，含有至少两种二甲酚结构单元质量百分比不同的第二树脂，且二甲酚结构质量百分比≥30％的第二树脂的质量百分占比＜60％。光刻胶组合物按质量百分比计包括：70～85％的溶剂、1～10％的感光剂以及10～20％的树脂组合物；感光剂包括G线感光剂和I线感光剂。该树脂组合物应用于光刻胶中，能够使得光刻胶兼具较高的分辨率和较快的感度。
树脂组合光刻图案方法

[发明专利]光刻胶组合物及其制备方法-CN202010460924.5在审
发明人：胡凡华;卢克军;朴大然;张腾;何卿 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京北旭电子材料有限公司
申请日： 2020-05-27 - 公布日： 2020-08-07 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开一种光刻胶组合物及其制备方法。该光刻胶组合物包括酚醛树脂组合物、感光化合物和有机溶剂。其中酚醛树脂组合物包括：第一线性酚醛树脂、第二线性酚醛树脂和第三线性酚醛树脂。第一线性酚醛树脂具有较高的感光度，第二线性酚醛树脂和第三线性酚醛树脂具有较高的耐热温度。三种酚醛树脂相互配合，协同作用，能够使得光刻胶组合物具有较高的耐热温度的同时，还具有较高的感光度。
光刻组合及其制备方法

[发明专利]一种光刻胶组合物-CN202010305848.0在审
发明人：霍建辉;卢克军;朴大然;张腾;胡凡华;吴瑞;何卿 -专利权人：北京北旭电子材料有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2020-04-17 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种光刻胶组合物，光刻胶组合物包括：酚醛树脂、丙烯酸树脂和感光化合物，感光化合物包括第一感光化合物、第二感光化合物中的至少一个。在半色调掩膜版工艺中，利用双组分成膜树脂酚醛树脂和丙烯酸树脂，利用酚醛树脂和丙烯酸树脂溶解速率的差异性，产生“双重对比度”，解决了半保留区域的膜厚度很难达到较好的均一性问题，在一定范围内的曝光能量下，使得半保留区域的膜厚度具有较好的均一性，能够满足半色调掩膜版工艺的要求。
一种光刻组合

[发明专利]光致抗蚀剂组合物-CN200710096935.4有效
发明人：金东敏;金柄郁;朴大然;金周赫;崔基植;金贞元;李起范;卞哲基;金纹秀;金炳厚;边滋勋;申在浩 -专利权人：株式会社东进世美肯
申请日： 2007-04-19 - 公布日： 2007-11-14 - 主分类号： G03F7/016 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于制备液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体地涉及一种包含（a）由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、（b）重氮类感感光性化合物、（c）有机溶剂的光致抗蚀性组合物。在上述化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明所涉及的光致抗蚀性组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，因而具有可提高光致抗蚀性的耐热性及图案均匀性的效果。所述酚醛清漆树脂由间甲酚、对甲酚、间苯二酚及邻苯甲醛缩合而成。
光致抗蚀剂组合

[发明专利]光致抗蚀剂组合物-CN200710096934.X有效
发明人：金东敏;金柄郁;朴大然;金周赫;崔基植;金贞元;李起范;卞哲基;金纹秀;金炳厚;边滋勋;申在浩 -专利权人：株式会社东进世美肯
申请日： 2007-04-19 - 公布日： 2007-11-14 - 主分类号： G03F7/016 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于制造液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体地涉及一种包含(a)由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、(b)重氮类感光性化合物、(c)有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。在化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明所涉及的光致抗蚀剂组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，因而具有可提高光致光致抗蚀剂的耐热性及图案均匀性的效果。所述酚醛清漆树脂由间甲酚、对甲酚、及邻羟苯甲醛缩聚合而成。
光致抗蚀剂组合

[发明专利]光致抗蚀剂组合物-CN200710096933.5无效
发明人：金东敏;金柄郁;朴大然;金周赫;崔基植;金贞元;李起范;卞哲基;金纹秀;金炳厚;边滋勋;申在浩 -专利权人：株式会社东进世美肯
申请日： 2007-04-19 - 公布日： 2007-11-14 - 主分类号： G03F7/016 文献下载
摘要：本发明涉及一种适于制造液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体涉及一种包含由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、重氮类感光性化合物、有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。上述化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明的光致抗蚀剂组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，具有优异的耐热性及分辨率，且可提高图案均匀性。所述酚醛清漆树脂由芳香族醇聚合而成，所述芳香族醇包含间甲酚、对甲酚、间苯二酚。
光致抗蚀剂组合

[发明专利]光刻胶组合物-CN200610140353.7无效
发明人：金柄郁;金东敏;朴大然;金周赫;崔基植;金贞元;李起范;卞哲基;金纹秀 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2006-11-27 - 公布日： 2007-06-06 - 主分类号： G03F7/016 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于制造液晶显示元件的电路、半导体集成电路等微细电路的光刻胶组合物，具体地涉及一种包含(a)酚醛清漆树脂、(b)重氮类感光性化合物、(c)流动性改善剂、(d)灵敏度增进剂、及(e)有机溶剂的感光性组合物。本发明所提出的光刻胶组合物通过使用流动性改善剂及灵敏度增进剂，防止了强真空干燥引起的图案变形，并提高了图案的均匀性，且具有感光速度、残膜率、显影对比度、分辨率、高分子树脂的溶解性、与基板的粘合性，及电路线宽均匀性均优异的特点。
光刻组合

[发明专利]光致抗蚀剂组合物-CN200510080628.8有效
发明人：姜勋;李承昱;全雨植;朴大然;金周赫;金柄郁 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2005-07-04 - 公布日： 2006-01-18 - 主分类号： G03F7/022 文献下载
摘要：本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，更具体地，本发明提供了包含以下物质的光致抗蚀剂组合物：a)酚醛清漆树脂、b)二叠氮化合物和c)包含丙二醇甲基醚乙酸酯(PGMEA)和2，2，4－三甲基－1，3－戊二醇单异丁基酯(TMPMB)的溶剂。本发明的光致抗蚀剂组合物在涂布后具有优异的涂布均匀性和污染抑制性能，使得它容易适用于实际工业场合，并且在大规模生产时，由于消耗量的降低和生产所需时间的缩短等，该光致抗蚀剂组合物可以改善作业环境。
光致抗蚀剂组合

1
共 12 条