“朱义党”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果8个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]在线侦测腔体漏率的方法、半导体工艺机台-CN202010456508.8在审
发明人： 朱义党;解毅 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2020-05-26 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供了一种在线侦测腔体漏率的方法和一种半导体工艺机台。所述方法于在线状态执行检漏程序，所述检漏程序在半导体工艺开始前或者结束后执行，可以实现腔体漏率的实时侦测和监控，同时，腔体于在线状态进行漏率检查，即可以在半导体工艺开始前或者结束后立即执行上述检漏程序，所述腔体所处的环境与实际生产时的情况近似，可以减小漏率的误差，便于及时得到腔体漏率的准确值，可以根据腔体漏率及时调整工艺进程，避免浪费基片，提高生产良率。本发明还提供一种半导体工艺机台。
在线侦测腔体漏率方法半导体工艺机台

[发明专利]一种拆卸管路的方法、外延设备的保养方法-CN201910853119.6在审
发明人： 朱义党;解毅;姜国伟;忻圣波 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2019-09-10 - 公布日： 2019-11-29 - 主分类号： B23P19/00 文献下载
摘要：本发明提供的一种拆卸管路的方法、外延设备的保养方法，所述拆卸管路的方法包括以下步骤：拆卸管路的第一端，并封闭所述第一端；拆卸所述管路的第二端；以及在所述第二端加入干冰，再封闭所述第二端。本发明通过在所述第二端加入干冰，由于干冰是固态的，其从固态变成气态的过程中需要吸收大量的热量，使得第二端处的空气的温度迅速下降，抑制了管路中的混合气体与空气发生反应，使得暴露在空气中的混合气体无法自燃以及爆炸，从而降低了管路的损坏，作业环境的损坏的风险，以及该环境下的人员安全隐患。
拆卸干冰混合气体第一端人员安全外延设备作业环境再封闭自燃保养暴露封闭爆炸吸收

[发明专利]芯片位置校准工具及校准方法、化学气相沉积反应腔室-CN201410080828.2有效
发明人：郑修锋;解毅;何雅彬;朱义党;胡可绿;王华钧;忻圣波 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2014-03-06 - 公布日： 2014-05-21 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：一种芯片位置校准工具及校准方法，化学气相沉积反应腔室，其中，一种芯片位置校准工具设置于化学沉积反应腔室加热器上，加热器顶面具第一凹槽，第一凹槽开口边界大于底面边界，底面边界为圆形；工具包括平面的第一表面，相对的、具有第二凹槽的第二表面，第二凹槽底面与第一凹槽底面相对且加热器顶部被第二凹槽所容纳，第一表面具有至少同一圆形的三条弧线段，圆形边界与底面边界大小相等；具有贯穿于第一表面和第二凹槽底面的至少三个在圆形上的通孔，底面边界与第一表面平行，工具位置符合要求时，通孔露出的第一凹槽底面边界的至少三条弧线段与第一表面的至少三条弧线段首尾连接构成圆形。本发明工具降低芯片被放置难度且提高被放置精准度。
芯片位置校准工具方法化学沉积反应

[发明专利]制程水装置-CN201310204989.3有效
发明人：王华钧;解毅;何雅彬;朱义党;胡可绿;郑修锋;忻圣波 -专利权人：上海宏力半导体制造有限公司
申请日： 2013-05-28 - 公布日： 2013-09-18 - 主分类号： F25D29/00 文献下载
摘要：一种制程水装置，包括：水槽，所述水槽用于承载液体，所述液体用于对半导体制造工艺装置进行热置换；位于水槽内的冷水管道，所述冷水管道部分或全部位于水槽内的液面以下，所述冷水管道用于冷却水槽内的液体；位于所述水槽侧壁的注水口，液体通过所述注水口注入水槽内；固定于所述水槽外壁表面的漏水检测装置，所述漏水检测装置的位置与注水口的位置对应，所述漏水检测装置用于检测所述注水口是否漏水，并在所述注水口漏水达预设量时发出检测信号；控制装置，用于接收所述漏水检测装置发出的检测信号，以停止工艺装置的工作。制程水装置安全性提高。
制程水装置

[发明专利]管路监测装置-CN201210507626.2在审
发明人：胡可绿;解毅;何雅彬;朱义党;郑修锋;王华钧;忻圣波 -专利权人：上海宏力半导体制造有限公司
申请日： 2012-11-30 - 公布日： 2013-03-27 - 主分类号： G01K1/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种管路监测装置，用于管壁外包裹有加热套的多段连续管路，与每段管路对应的加热套均连接有温度监测元件，多个所述温度监测元件串联，并与控制器电连接。本发明提供的管路监测装置，通过与每段管路对应的加热套连接温度监测元件，对每段加热套均进行检测，保证了每段管路内都保持需要的温度。
管路监测装置

[实用新型]气体输送系统-CN201220434914.5有效
发明人：郑修锋;解毅;朱义党;胡可绿;王华钧;忻圣波 -专利权人：上海宏力半导体制造有限公司
申请日： 2012-08-29 - 公布日： 2013-02-27 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体制造装置，尤其是一种气体输送系统，它包括连接至气源的气体入口、连接至反应腔的气体出口；连接于气体入口与气体出口之间的过滤器；连接于过滤器与气体出口之间的流量控制阀；连接于过滤器与流量控制阀之间的止回阀。本实用新型的优点是：止回阀能够阻挡返流气体，使得返流气体不会对过滤器造成影响，能够保证过滤器的性能不受影响，一方面降低由于更换过滤器带来的成本增加，另一方面确保后续生产中气体的纯净，使得其局部放电性能不受影响，保证生产的成品率。
气体输送系统

[发明专利]化学气相沉积机台-CN201210061942.1在审
发明人：胡可绿;解毅;何雅彬;朱义党;郑修锋;王华钧;忻圣波 -专利权人：上海宏力半导体制造有限公司
申请日： 2012-03-09 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明涉及一种化学气相沉积机台，包括标准机械界面、前端部分、机械手臂、缓存处、缓冲区和沉积腔体，其中所述标准机械界面是晶片进入机台的开始位置，所述前端部分一端连接标准机械界面另一端连接缓存处，所述前端部分设有风机过滤机组，所述风机过滤机组包括风扇，所述风扇过滤前端部分的空气，所述缓冲区连接所述缓存处，所述沉积腔体与缓冲区相连接，所述机械手臂用于传输标准机械界面、缓存处和沉积腔体之间的晶片，所述风机过滤机组还包括一个用于检测风扇工作状态的检测装置。本发明在前端部分中的风机过滤机组上增加一个用于检测风扇工作状态的检测装置，避免因风扇不工作后造成的晶片污染，降低低效产品。
化学沉积机台

[发明专利]半导体器件制备过程中的加载互锁装置-CN201110224889.8无效
发明人：王喆;赵洪涛;瞿锋;张杰;朱义党 -专利权人：上海宏力半导体制造有限公司
申请日： 2011-08-08 - 公布日： 2011-11-23 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明涉及一种半导体器件制备过程中的加载互锁装置，包括晶圆承载盘，所述晶圆承载盘的表面设置有晶圆导向件，所述晶圆导向件用于支撑所述晶圆的面为斜面。采用本发明的加载互锁装置，即使所述晶圆因各种原因未能放到所述晶圆导向件的正确位置，所述晶圆也会沿所述斜面滑动到正确的位置，从而避免了晶圆在制备过程中产生横向位移，减小了半导体制备设置发出报警信号的频率，有利于提高生产效率和生产良率。
半导体器件制备过程中的加载互锁装置

1
共 8 条