专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]氧化石墨烯膜、石墨烯膜及其制备方法和应用-CN201210034061.0有效
  • 韩宝航;王涛;周鼎;承倩怡;崔义 - 国家纳米科学中心
  • 2012-02-15 - 2013-08-21 - C01B31/04
  • 本发明提供了氧化石墨烯膜、石墨烯膜及其制备方法和应用。所述制备氧化石墨烯膜的方法包括:1)采用常规方法由石墨制备氧化石墨的水溶液或有机溶剂溶液;2)向所述氧化石墨的水溶液或有机溶剂溶液中加入有机溶剂或水,进行第一次超声处理和第一次离心处理,取固体,然后向所述固体加入由水和有机溶剂组成的混合溶剂,进行第二次超声处理和第二次离心处理,取上清液,即为氧化石墨烯溶液;3)采用Langmuir-Blodgett方法将所述氧化石墨烯溶液滴加在水面上,使水-空气界面上形成氧化石墨烯膜,然后将所述氧化石墨烯膜转移至基底上。
  • 氧化石墨及其制备方法应用
  • [发明专利]形成石墨烯氧化物图案和石墨烯图案的方法-CN201110052417.9无效
  • 韩宝航;王涛;吴冲;周鼎;承倩怡;孙树清 - 国家纳米科学中心
  • 2011-03-04 - 2012-09-05 - B41M1/12
  • 本发明提供了一种形成石墨烯氧化物图案及其石墨烯图案的方法,该方法按照以下(A)和(B)两种方式之一进行:(A)将石墨烯氧化物溶液与图案化聚二甲氧基硅烷印章接触1-500min,干燥;然后将干燥后的图案化聚二甲氧基硅烷印章与基底在外力为0-5N的条件下接触1-500min,移开印章,从而在基底上形成石墨烯氧化物图案;(B)将图案化聚二甲氧基硅烷印章与连接剂接触,然后与基底在外力为0-5N的条件下接触,移开印章,得到接触后的基底;将接触后的基底与石墨烯氧化物溶液接触,干燥,从而在基底上形成石墨烯氧化物图案。本发明的方法成本低廉,操作过程简单,开拓了新的形成石墨烯氧化物图案的方法。
  • 形成石墨氧化物图案方法
  • [发明专利]一种负载药物的水凝胶体系及其制备方法-CN201010593408.6有效
  • 韩宝航;承倩怡 - 国家纳米科学中心
  • 2010-12-09 - 2012-07-11 - A61K9/06
  • 本发明提供一种负载药物的水凝胶体系,该水凝胶体系包括被嵌段共聚物修饰的石墨烯和/或石墨烯氧化物、药物分子和环糊精水凝胶。本发明还提供该水凝胶体系的制备方法,包括1)向石墨烯和/或石墨烯氧化物水溶液中加入嵌段共聚物,反应得到被嵌段共聚物修饰的石墨烯和/或石墨烯氧化物的水溶液;2)向步骤1)制得的水溶液中加入药物分子,将药物分子负载到石墨烯和/或石墨烯氧化物上;3)向步骤2)制备的溶液中加入环糊精水溶液,得到负载药物的水凝胶体系。本发明提供的水凝胶体系不仅具有超分子水凝胶的特性,而且凝胶结构中含有石墨烯纳米结构,可以对药物释放过程进行调节,该水凝胶体系具有较好的药物缓释效果。
  • 一种负载药物凝胶体系及其制备方法
  • [发明专利]形成石墨烯氧化物图案和石墨烯图案的方法-CN201010616356.X有效
  • 孙树清;吴冲;承倩怡;韩宝航 - 国家纳米科学中心
  • 2010-12-30 - 2012-07-11 - C01B31/04
  • 本发明的形成石墨烯氧化物图案的方法包括:(1)准备基底;(2)在基底的至少一个表面上形成疏水的自组装单分子膜;(3)用掩模覆盖所述疏水的自组装单分子膜后采用紫外线灯曝光,并在曝光后去除掩模,得到该至少一个表面含有图案化的自组装单分子膜模板的基底;(4)用石墨烯氧化物的水溶液覆盖所述图案化的自组装单分子膜模板,干燥,从而在基底的该至少一个表面上形成石墨烯氧化物图案。本发明还提供了一种形成石墨烯图案的方法。本发明的方法开拓了制备石墨烯氧化物图案的新的思路。
  • 形成石墨氧化物图案方法
  • [发明专利]形成石墨烯氧化物图案和石墨烯图案的方法-CN201010616632.2有效
  • 韩宝航;承倩怡;吴冲;周鼎;孙树清 - 国家纳米科学中心
  • 2010-12-30 - 2012-07-04 - C01B31/04
  • 本发明的形成石墨烯氧化物图案的方法包括:(1)准备基底;(2)在基底的至少一个表面上制备疏水的自组装单分子膜;(3)用掩模覆盖所述疏水的自组装单分子膜后采用紫外线灯曝光,并在曝光后去除掩模,得到该至少一个表面含有图案化的自组装单分子膜模板的基底;(4)用石墨烯氧化物量子点的水溶液覆盖所述图案化的自组装单分子膜模板,干燥,从而在基底的该至少一个表面上形成石墨烯氧化物图案。本发明克服了现有技术中所制备的石墨烯氧化物图案不具有特征光学性质的缺陷,制备得到了具有激发依赖荧光特性的石墨烯氧化物图案。本发明的方法开拓了制备石墨烯氧化物图案的新的思路。
  • 形成石墨氧化物图案方法
  • [发明专利]一种石墨单层片溶液及其制备方法-CN201010542472.1无效
  • 韩宝航;周鼎;承倩怡 - 国家纳米科学中心
  • 2010-11-11 - 2012-05-23 - C01B31/04
  • 本发明的石墨单层片溶液含有有机溶剂和石墨单层片,所述有机溶剂为酰胺溶剂和/或烷酮溶剂,所述石墨单层片的浓度为0.06-0.6mg/mL。本发明的制备石墨单层片溶液的方法包括,在密闭条件下,将浓度为0.1-1mg/mL的石墨单层片氧化物有机相溶液在90-200℃下加热2-12小时,进行热处理。本发明的石墨单层片溶液中的石墨单层片的浓度大于0.06mg/mL,较现有技术中的不加入稳定剂获得石墨单层片溶液的浓度大大提高。本发明的方法通过采用酰胺和/或烷酮溶剂作为有机溶剂,在还原石墨单层片氧化物的有机相溶液的过程中不需要额外引入还原剂或稳定剂分子即可获得石墨单层片溶液,在石墨单层片材料和器件领域具有广泛应用前景。
  • 一种石墨单层溶液及其制备方法

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