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[实用新型]一种光学镀膜机-CN200820030249.7无效
发明人：杭凌侠;弥谦;刘卫国;徐均琪;梁海峰;潘永强;惠迎雪 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2008-09-11 - 公布日： 2009-06-03 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本实用新型涉及光学制造和光电元器件生产设备技术领域，具体涉及一种光学镀膜机。本实用新型要解决现有技术存在的无法满足各种光学薄膜和光电功能多层薄膜以及光电微系统制备的需求，且设备投入成本高的问题。为解决现有技术存在的问题，所提供的技术方案是，一种光学镀膜机，包括真空镀膜室，温度控制系统，膜厚控制系统，气体流量提供、控制系统和薄膜蒸发系统，所述薄膜蒸发系统包括阴极真空电弧发生装置、磁控溅射装置和热蒸发装置。与现有技术相比，本实用新型的优点如下：可以满足各种光学薄膜和光电功能多层薄膜以及光电微系统制备需求，功能全面，减少设备投资成本，同时可大幅提高生产效率。
一种光学镀膜

[发明专利]一种光学镀膜方法以及使用该方法的光学镀膜机-CN200810150923.X无效
发明人：杭凌侠;弥谦;刘卫国;徐均琪;梁海峰;潘永强;惠迎雪 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2008-09-11 - 公布日： 2009-02-04 - 主分类号： G02B1/10 文献下载
摘要：本发明涉及光学制造和光电元器件生产设备技术领域，具体涉及一种光学镀膜方法以及使用该方法的光学镀膜机。本发明要解决现有技术存在的无法满足各种光学薄膜和光电功能多层薄膜以及光电微系统制备的需求，且设备投入成本高的问题。为解决现有技术存在的问题，所提供的技术方案是，一种光学镀膜方法，是将真空阴极电弧镀膜技术、磁控溅射镀膜技术和热蒸发镀膜技术根据薄膜种类进行组合使用，使用中被镀件始终保持在真空状态下，实时进行蒸发源的快速转换。同时提供一种光学镀膜机，包括真空镀膜室，温度控制系统，膜厚控制系统，气体流量提供、控制系统和薄膜蒸发系统，所述薄膜蒸发系统包括阴极真空电弧发生装置、磁控溅射装置和热蒸发装置。
一种光学镀膜方法以及使用

[发明专利]磁约束磁控溅射方法及利用该方法制备的磁控溅射装置-CN200810150947.5无效
发明人：弥谦;杭凌侠;郭忠达;梁海峰;徐均琪;孙国斌;惠迎雪 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2008-09-12 - 公布日： 2009-01-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种磁约束磁控溅射方法及利用该方法制备的磁控溅射装置。由于目前采用平衡磁控溅射和非平衡磁控溅射方式，即使采用永磁铁移动或多组电磁线圈变换，靶材利用率也只能提高到20％～35％，并且存在结构复杂，加工成本高的问题。本发明的一种磁约束磁控溅射方法，是在溅射靶的表面上方空间形成一个总体方向平行于靶面的磁约束磁场，利用该方法所制造磁控溅射装置，包括磁体、导磁体、基片和溅射靶，所述磁体的相反磁极相对固定设置在溅射靶的侧面，磁体产生的磁约束磁场位于基片和溅射靶之间并且两磁极连线平行于靶面。其可以有效克服现有技术存在的靶材利用率低和沉积速率低的问题。
约束磁控溅射方法利用制备装置