专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]侧壁形成工艺-CN200980135910.8有效
  • 彼得·西里格里亚诺;海伦·朱;金智洙;S·M·列扎·萨贾迪 - 朗姆研究公司
  • 2009-09-11 - 2017-02-22 - H01L21/3065
  • 提供在图案化的光刻胶掩模下方的蚀刻层。实施多个侧壁形成工艺。每一个侧壁形成工艺包括通过实施多个周期性沉积在所述图案化的光刻胶掩模上沉积保护层。每个周期性沉积包括至少一在所述图案化的光刻胶掩模表面上沉积沉积层的沉积阶段,和在所述沉积层中形成垂直表面的轮廓成型阶段。每个侧壁形成工艺还包括用于相对于所述保护层的垂直表面选择性蚀刻所述保护层的水平表面的贯穿蚀刻。然后蚀刻所述蚀刻层,以形成具有临界尺寸的特征,所述临界尺寸小于所述图案化的光刻胶掩模内的特征的临界尺寸。
  • 侧壁形成工艺

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