专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]等离子体装置和基板处理装置-CN201280047361.0有效
  • 张鸿永;李镇远 - 韩国科学技术院;威特尔有限公司
  • 2012-10-02 - 2014-06-04 - H05H1/36
  • 本发明涉及一种等离子体生成装置以及基板处理装置。等离子体生成装置包括:多个介电管,所述多个介电管分别安装在形成于真空容器中的多个通孔中;天线,基于所述天线在所述真空容器中的布置对称性,所述天线被划分成第一天线组以及第二天线组,并分别安装在所述介电管外部;第一RF功率源,所述第一RF功率源用于向所述第一天线组供应功率;第二RF功率源,所述第二RF功率源用于向所述第二天线组供应功率;以及第一功率分配单元,所述第一功率分配单元布置在所述第一天线组与所述第一RF功率源之间,以将来自所述第一RF功率源的功率分配到所述第一天线组。
  • 等离子体装置处理
  • [发明专利]等离子处理装置及等离子处理方法-CN200810100302.0有效
  • 黄太亨;张鸿永 - 三星电子株式会社;韩国科学技术院
  • 2008-02-05 - 2008-09-17 - H05H1/46
  • 本发明涉及等离子处理装置及处理方法,其产生均匀等离子以对大面积基板能够实施匀化处理。该等离子处理装置包含:真空腔;配置于真空腔内部下侧、由多个块件形成的下部电极;配置于真空腔内部上侧、呈接地状态的上部电极;向真空腔内部提供工艺气体的工艺气体供给部;与下部电极连接、并施加电源功率的电源功率供给部;与下部电极的各块件分别连接、向各块件单独提供偏置功率的偏置功率供给部;及计算施加于下部电极各块件的偏置功率、并控制偏置功率供给部的控制部。
  • 等离子处理装置方法
  • [发明专利]使用混合耦合等离子体的装置-CN200410068892.5有效
  • 权奇淸;张鸿永;李容官 - 周星工程股份有限公司
  • 2004-07-14 - 2005-02-09 - H01L21/00
  • 一种混合耦合等离子体型装置,包括:一具有一注气单元的腔室;一位于该腔室中的静电夹盘;一位于该注气单元上的绝缘盘;一高频产生器;一连接到该高频产生器的阻抗匹配电路;以并联方式连接到该阻抗匹配电路的第一和第二天线,该高频产生器的一功率被提供到该第一和第二天线;一以串联方式连接到该第一和第二天线中的一个上的板形电极,该高频产生器的该功率被提供到该电极;和一位于该高频产生器与该第一和第二天线中的一个之间的功率分配器。
  • 使用混合耦合等离子体装置

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