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[发明专利]晶圆定位的补偿值测算方法、装置及晶圆定位补偿系统-CN202211480869.1在审
发明人：陈文源;张光日 -专利权人：苏州华兴源创科技股份有限公司
申请日： 2022-11-24 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本申请涉及晶圆定位的补偿值测算方法、装置及晶圆定位补偿系统。一个实施例中，通过相机获得晶圆的图像，并根据该图像以相机为基准建立变位坐标系，再结合晶圆在驱动坐标系中的参考图像，可以建立转换矩阵，进而通过计算得到定位需要的补偿值。这样，可以将相机设在晶圆工作空间的上方，通过相机获取晶圆位置，无需在晶圆工作空间内安装光传感器，更加方便晶圆的取放和搬运。此外，通过相机一次采集便可以确认晶圆位置，无需旋转晶圆，节省了单次定位补偿的时间，并且后续可以根据晶圆在相机坐标系中的位置结合转换矩阵实现其他晶圆的定位补偿，进一步缩短了后续晶圆定位补偿的时间，大大提高了工作效率，降低了时间成本。
定位补偿测算方法装置系统

[实用新型]一种晶圆剥离装置-CN202122054819.4有效
发明人：陈文源;张光日 -专利权人：苏州华兴源创科技股份有限公司
申请日： 2021-08-27 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型实施例公开了一种晶圆剥离装置，包括旋转载台，用于固定载体晶圆；剥离机构，用于向待剥离晶圆施加剥离力以将待剥离晶圆由载体晶圆上剥离；设置于所述旋转载台一侧的清洁机构，用于清洁晶圆剥离后遗留在旋转载台上的胶粒；所述清洁机构包括：具有内腔的清洁臂，清洁臂的底面形成有与所述清洁臂的内腔连通的吸附口；连接于清洁臂一端的转动轴，所述清洁臂可绕所述转动轴的轴线旋转；与所述转动轴的背离清洁臂的一端连接固定的真空管路，该真空管路的另一端被配置为可连接外部真空设备；所述转动轴内部中空，与所述清洁臂的内腔连通；所述清洁臂上所包括的吸附口被配置为用以对所述旋转载台表面进行清洁。
一种剥离装置

[实用新型]一种用于半导体的涂布装置-CN202121475811.9有效
发明人：陈文源;张光日 -专利权人：苏州华兴源创科技股份有限公司
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： B08B1/00 文献下载
摘要：本实用新型实施例公开了一种用于半导体的涂布装置，包括承载机构；以及清洁机构；所述承载机构包括可旋转的用以承载待清洁产品的转盘；所述清洁机构包括：壳体；位于所述壳体内第一转轴和第二转轴；以及清洁带；所述清洁带套设在所述第一转轴上，该清洁带的起始端卷绕在所述第二转轴上；所述壳体上包括有镂空部，清洁带包括有可由所述镂空部暴露出的作用部；作用部位于与所述转盘的侧方位置；所述清洁带可随着所述第二转轴的转动自第一转轴经镂空部卷绕到所述第二转轴上。本实用新型解决了清洁剂清洁受污染物与清洁剂反应性限制导致清洁不彻底的问题，提高了工作效率以及工程收率。
一种用于半导体装置

[发明专利]一种基板剥离系统、剥离刀片检测方法、装置及计算设备-CN202111151376.9在审
发明人：陈文源;张光日 -专利权人：苏州华兴源创科技股份有限公司
申请日： 2021-09-29 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种基板剥离系统、剥离刀片检测方法、装置及计算设备，包括接收拍摄设备所捕捉的刀刃图像；提取刀刃图像中的刀刃线数据；将所提取的刀刃线数据与存储的标准数据进行对比，输出结果值；根据结果值判断剥离刀片是否损坏，若损坏，则控制基板剥离装置停止运转；若没有损坏，则控制基板剥离装置继续运行。有效避免了因剥离刀片的损坏而导致的基板破裂问题，避免了生产费用的损失。
一种剥离系统刀片检测方法装置计算设备

[实用新型]一种粘合剂废液分离过滤装置-CN202023042020.5有效
发明人：陈文源;张光日 -专利权人：苏州华兴源创科技股份有限公司
申请日： 2020-12-16 - 公布日： 2021-10-19 - 主分类号： C02F1/00 文献下载
摘要：本申请实施例公开一种粘合剂废液分离过滤装置，装置包括：储液桶；可拆卸地悬置于储液桶内部的废液沉浸容器；位于储液桶侧壁上的第一液面传感器和第二液面传感器；第一液面传感器位于第二液面传感器的上方位置；储液桶的顶壁上包括有废液进口；储液桶底部的侧壁上包括有废液出口；本装置还包括有位于储液桶外的与废液出口连接的排出泵；第一液面传感器被配置为可在被触发后控制排出泵开启；第二液面传感器被配置为可在被触发后控制排出泵关闭。本实用新型所提供装置能够将涂层工程中产生的粘合剂废液进行有效的分离过滤，防止粘合剂废液排出时堵塞排管，解决因粘合剂废液逆流产生的产品不良以及工程设备污染等问题。
一种粘合剂废液分离过滤装置

[实用新型]一种基板吸附装置以及电子产品加工设备-CN202021890849.8有效
发明人：陈文源;张光日 -专利权人：苏州华兴源创科技股份有限公司
申请日： 2020-09-02 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型涉及测试技术领域，尤其涉及基板吸附装置及电子产品加工设备。该基板吸附装置包括安装盘、第一减压组件以及第二减压组件，安装盘上开设有多个第一环形槽、多个第二环形槽、第一排气通路以及第二排气通路，多个第一环形槽沿径向间隔排布、与安装盘的中心线同轴设置且与第一排气通路相连通，第一排气通路的第一端与最外侧的第一环形槽以及第一减压组件相连通，多个第二环形槽沿径向间隔排布、与安装盘的中心线同轴设置且与第二排气通路相连通，第二排气通路的第二端与最内侧的第二环形槽以及第二减压组件相连通，实现对中间上凸或中间下凹基板较稳固吸附，基板对安装盘的冲击较小。该电子产品加工设备能够实现对电子产品进行较好的加工。
一种吸附装置以及电子产品加工设备

[实用新型]一种基板剥离系统-CN202021395655.0有效
发明人：陈文源;张光日 -专利权人：苏州华兴源创科技股份有限公司
申请日： 2020-07-15 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型实施例公开了一种基板剥离系统。该基板剥离系统包括：光源、第一平台和机械分离装置；所述光源用于照射待剥离产品，使所述待剥离产品中的粘结层的粘结力弱化，其中，所述待剥离产品包括依次层叠的待剥离基板、粘结层和产品基板；所述第一平台用于固定产品基板；所述机械分离装置用于在所述光源照射所述待剥离产品后向待剥离基板施加剥离力以将所述待剥离基板由所述产品基板上剥离。本实用新型实施例可以避免剥离过程损坏产品基板。
一种剥离系统

[实用新型]一种基板剥离装置-CN202020714396.7有效
发明人：陈文源;张光日 -专利权人：苏州华兴源创科技股份有限公司
申请日： 2020-04-30 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本实用新型实施例公开了一种基板剥离装置。该基板剥离装置包括：移动平台、固定平台、移动滚轴、抬升滚轴和滚轴控制器；移动平台用于固定待剥离基板；固定平台用于固定产品基板；滚轴控制器用于向移动滚轴和抬升滚轴施加设定大小的力，并控制移动滚轴和抬升滚轴沿平行于产品基板表面的方向以及垂直于产品基板表面的方向运动，以在进行待剥离基板剥离时使抬升滚轴位于待剥离基板邻近产品基板的一侧，移动滚轴位于待剥离基板远离产品基板的一侧，并使抬升滚轴和移动滚轴以预设高度差沿平行于产品基板表面的方向运动，以使待剥离基板沿着移动滚轴的移动轨迹由产品基板上剥离。本实用新型实施例实现了精确的控制剥离支点的位置、剥离力度及剥离角度。
一种剥离装置

[发明专利]一种基板剥离装置及方法-CN202010363100.6在审
发明人：陈文源;张光日 -专利权人：苏州华兴源创科技股份有限公司
申请日： 2020-04-30 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种基板剥离装置及方法。该基板剥离装置包括：移动平台、固定平台、移动滚轴、抬升滚轴和滚轴控制器；移动平台用于固定待剥离基板；固定平台用于固定产品基板；滚轴控制器用于向移动滚轴和抬升滚轴施加设定大小的力，并控制移动滚轴和抬升滚轴沿平行于产品基板表面的方向以及垂直于产品基板表面的方向运动，以在进行待剥离基板剥离时使抬升滚轴位于待剥离基板邻近产品基板的一侧，移动滚轴位于待剥离基板远离产品基板的一侧，并使抬升滚轴和移动滚轴以预设高度差沿平行于产品基板表面的方向运动，以使待剥离基板沿着移动滚轴的移动轨迹由产品基板上剥离。本发明实施例实现了精确的控制剥离支点的位置、剥离力度及剥离角度。
一种剥离装置方法

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