专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种基于风能及太阳能的新能源充电装置-CN202210254459.9在审
  • 朱序飞;崔博垚 - 朱序飞
  • 2022-03-15 - 2022-06-24 - B60L53/51
  • 本发明公开了一种基于风能及太阳能的新能源充电装置,包括智能自动充电控制器,所述智能自动充电控制器设于交通设备上,并与设于交通设备上的电瓶装置电性连接,用于给所述电瓶装置充电;风力发电机组,所述风力发电机组设于交通设备的迎风面处,并与所述智能自动充电控制器电性连接;光伏太阳能电池板,所述光伏太阳能电池板设于交通设备的向阳面上,并与所述智能自动充电控制器电性连接。本发明中充分利用车辆行进过程中的相对风速及照射的太阳能,将上述清洁能源转化成电能,有效提高了交通设备的续航里程,方案设计具有清洁环保的优点,降低碳排放,提升新能源车辆的竞争力,具有良好的市场推广价值。
  • 一种基于风能太阳能新能源充电装置
  • [发明专利]一种插入InGaN层改善非极性GaN材料质量的外延生长方法-CN201910548899.3有效
  • 韩军;崔博垚;邢艳辉;赵佳豪 - 北京工业大学
  • 2019-06-24 - 2021-11-19 - H01L21/02
  • 一种插入InGaN层改善非极性GaN材料质量的外延生长方法属于GaN材料外延技术领域,利用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术,生长的低位错密度非极性GaN材料,外延结构从下向上依次为:r面蓝宝石衬底,低温GaN成核层;高压、高V/III比(V族与III族源摩尔流量比)生长条件生长的高温三维GaN层;第一次低压、低V/III比生长条件生长的高温二维GaN层;InGaN插入层;第二次低压、低V/III比生长条件生长的高温二维GaN层。本发明的特点是在二维GaN层中插入InGaN插入层,其能够缓解应力,并且阻挡了部分蓝宝石衬底与GaN失配产生的穿透位错的传递。本发明改善了现有技术的不足,能够减小非极性GaN材料位错密度,改善材料表面形貌,提高外延片的质量。
  • 一种插入ingan改善极性gan材料质量外延生长方法
  • [发明专利]一种插入InGaN/GaN超晶格结构改善非极性GaN材料质量的外延生长方法-CN201910639441.9有效
  • 韩军;赵佳豪;邢艳辉;崔博垚 - 北京工业大学
  • 2019-07-16 - 2021-10-26 - H01L21/02
  • 本发明提供一种插入InGaN/GaN超晶格结构改善非极性GaN材料外延质量的方法,是一种减小非极性GaN材料位错密度,改善外延片表面形貌,从而提高材料质量的外延生长方法。利用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术,外延结构从下向上依次为,r面蓝宝石衬底,低温GaN成核层;高压、高V/III比(V族与III族源摩尔流量比)生长条件生长的高温三维GaN层;第一次低压、低V/III比生长条件生长的高温二维GaN层;InGaN/GaN超晶格结构插入层;第二次低压、低V/III比生长条件生长的高温二维GaN层。本发明的特点是在二维GaN层中插入InGaN/GaN超晶格结构插入层,其能够缓解应力,并且阻挡部分蓝宝石衬底与外延生长的GaN材料失配产生的穿透位错传递。本发明能够减小非极性GaN材料位错密度,改善表明形貌,提高外延片的质量。
  • 一种插入ingangan晶格结构改善极性材料质量外延生长方法

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