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[发明专利]薄膜晶体管液晶显示器用彩色抗蚀剂剥离液组合物-CN200710001267.2有效
发明人：张锡唱;尹锡壹;郑世桓;金柄郁 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2007-01-11 - 公布日： 2007-07-18 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种，为了再利用TFT－LCD彩色滤光片的制造过程中产生的不良基板，去除彩色抗蚀剂及涂层的薄膜晶体管液晶显示器用彩色抗蚀剂剥离液组合物，具体涉及一种包括：(a)1－50w％的选自无机碱氢氧化物、烷基氢氧化铵及苯基烷基氢氧化铵的氢氧化物，所述烷基氢氧化铵包含C1－C4的烷基；(b)5－30w％的极性硫化物；(c)5－35w％的烷撑二醇醚，所述烷撑二醇醚包含C1－C4的烷基；(d)2－30w％的烷撑二醇二烷基醚，所述烷撑二醇二烷基醚包含C1－C4的烷基；(e)2－30w％的水溶性胺化合物；(f)残余量水的彩色抗蚀剂用剥离液组合物。
薄膜晶体管液晶显示器用彩色抗蚀剂剥离组合

[发明专利]抗蚀剂剥离剂组合物及抗饰剂去除方法-CN200710000702.X有效
发明人： 尹锡壹;金圣培;郑宗铉;许舜范;金柄郁 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2007-01-10 - 公布日： 2007-07-18 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种抗蚀剂剥离剂组合物，尤其涉及一种含有内酯类化合物，而且对图形化金属膜上所残留的抗蚀剂具有优秀的剥离效果，并在高温下，其因挥发而引起的成分变化及药液疲劳度极小，且能将对图形化金属膜的腐蚀降到最低。
抗蚀剂剥离组合抗饰剂去除方法

[发明专利]用于去除光刻胶的组合物-CN200580014564.X有效
发明人：金柄郁;尹锡壹;金圣培;金玮溶;张锡唱;郑宗铉 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2005-05-06 - 公布日： 2007-04-18 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种在制作电路或显示器件图形中使用的光刻胶去除剂组合物，更具体地说，涉及一种含有胺、溶剂和防腐剂的光刻胶去除剂组合物，所述防腐剂为选自包括三唑化合物、巯基化合物、含有羟基的有机酚化合物及其混合物的组的至少一种化合物。本发明的光刻胶去除剂组合物能够容易快速地去除光刻胶膜，并且能够使图形化的金属电路的腐蚀降低至最小。
用于去除光刻组合

[发明专利]用于去除光刻胶的组合物-CN200580014563.5无效
发明人：金柄郁;尹锡壹;金圣培;金玮溶;张锡唱;郑宗铉 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2005-05-06 - 公布日： 2007-04-18 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种在制作电路或显示装置图形中使用的光刻胶去除剂组合物，更具体而言，涉及一种含有胺和溶剂的光刻胶去除剂组合物，其中，所述胺为环胺化合物。本发明的光刻胶去除剂组合物可容易并快速地去除光刻胶膜，并可使形成图形的金属电路的腐蚀最小化。
用于去除光刻组合

[发明专利]用于去除半导体器件的改性光刻胶的光刻胶去除剂组合物-CN200610128676.4有效
发明人： 尹锡壹;金圣培;郑宗铉;朴熙珍;金柄郁 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2006-09-04 - 公布日： 2007-03-07 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于在制造诸如集成电路(IC)、大规模集成电路(LSI)、超大规模集成电路(VLSI)等的半导体器件的过程中去除光刻胶的光刻胶去除剂组合物，该光刻胶去除剂组合物包括：(a)0.1～10wt％的过氧化氢或过氧化氢衍生物；(b)5～50wt％的有机溶剂；(c)0.5～30wt％的有机胺；(d)5～60wt％的水；(e)0.0001～20wt％的铵盐；(f)0.4～10wt％的防腐剂；和(g)0.5～30wt％的过氧化氢或过氧化氢衍生物的稳定剂。本发明的包括过氧化氢或过氧化氢衍生物的光刻胶去除剂组合物可在短时间内、在高温或低温下有效去除通过硬性烘烤(hardbaking)、干法刻蚀、灰化和/或离子注入硬化并改性的光刻胶膜和通过从光刻胶膜下的金属膜刻蚀出的金属副产品改性的光刻胶膜，并同时将光刻胶膜下的金属布线的腐蚀减到最少。
用于去除半导体器件改性光刻组合

[发明专利]用于去除透明导电膜及光致抗蚀剂的剥离液组合物-CN200610111383.5有效
发明人：金柄郁;尹锡壹;金玮溶;许舜范 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2006-08-24 - 公布日： 2007-02-28 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于去除光致抗蚀剂和透明导电膜的剥离液组合物。具体地，本发明提供一种能去除半导体装置上透明导电膜的有机酸类透明导电膜去除剂及由有机胺及溶剂组成的双组分以上的剥离液组合物中包含上述去除剂的剥离液组合物。该组合物还可再含有作为抗离析剂使用的乙二醇醚化合物。本发明组合物中含有有机酸类透明导电膜去除剂，由此可去除透明导电膜。而且，上述透明导电膜去除剂中含有硫磺，也可作为防腐剂使用，可防止下部金属膜的金属布线的腐蚀，由此在保存由目前的LCD制备过程所制作出的金属图案的条件下，可以去除已形成图案的光致抗蚀剂，并有选择地或全部地去除涂敷在金属布线上光致抗蚀剂上的透明电极和位于金属布线上的透明电极。
用于去除透明导电光致抗蚀剂剥离组合

[发明专利]用于去除光敏树脂的稀释剂组合物-CN200480015004.1有效
发明人： 尹锡壹;全雨植;朴熙珍 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2004-05-17 - 公布日： 2006-07-05 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于去除在半导体装置或液晶显示装置的制造过程中被使用的光致抗蚀剂的稀释剂组合物，并且更具体地涉及一种包括a)丙二醇单烷基醚；b)烷基乙酸酯；和c)环酮的稀释剂组合物。本发明的稀释剂组合物可以进一步包括选自包括d)基于聚环氧乙烷的表面活性剂和e)氟化丙烯酸共聚物的组的至少一种化合物。本发明的用于去除光致抗蚀剂的稀释剂组合物能够在短时间内有效地去除粘在制造液晶显示装置或有机EL显示装置中使用的玻璃衬底或晶片的边缘和背面的不需要的光致抗蚀剂，减小界面处的间隙，并且特别地，防止渗透到光致抗蚀剂的界面中。所以，该稀释剂组合物可以用于多种方法中以提供经济上的利益，简化制造工艺，并且提高生产率。
用于去除光敏树脂稀释剂组合

[发明专利]光阻剂剥离液组合物-CN200510102849.0有效
发明人： 尹锡壹;金圣培;金玮溶;郑宗铉;许舜范;金柄郁 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2005-09-13 - 公布日： 2006-04-12 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种光阻剂剥离液组合物，提供一种包含环形胺、溶剂及剥离促进剂的光阻剂剥离液组合物。并且，本发明还提供一种包含环形胺、溶剂、防腐剂及剥离促进剂的光阻剂剥离液组合物。本发明光阻剂剥离液组合物不仅在适用于现有LCD模块制备中包括异丙醇(以下简称“IPA”)清洗阶段的一般工程时，而且在适用于最近省略IPA清洗阶段的工程时，不存在对金属布线多余的腐蚀影响，特别是可大大提高剥离能力。
光阻剂剥离组合

[发明专利]用于剥离光刻胶的组合物及薄膜晶体管阵列面板制造方法-CN200510105132.1有效
发明人：朴弘植;郑宗铉;尹锡壹;金圣培;金玮溶;许舜范;金柄郁 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2005-09-22 - 公布日： 2006-03-29 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻胶剥离剂，包括：约5wt％至20wt％的醇胺、约40wt％至70wt％的乙二醇醚、约20wt％至40wt％的N－甲基吡咯烷酮、以及约0.2wt％至6wt％的螯合剂。
用于剥离光刻组合薄膜晶体管阵列面板制造方法

[发明专利]用于去除(光致)抗蚀剂的组合物-CN200510077285.X有效
发明人：金柄郁;金圣培;尹锡壹;张锡唱 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2005-06-21 - 公布日： 2005-12-28 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种组合物，该组合物用于去除电路或显示设备的金属布线构图所用的抗蚀剂。本发明组合物含有一种碳酸亚烃酯、并可任选地含有一种叔胺或一种氧化剂。本发明组合物可以高效去除残留在已构图的金属膜上的抗蚀剂，在高温下由蒸发引起的组成变化和化学疲劳小，并且能将已构图的金属膜的腐蚀降到最低。
用于去除抗蚀剂组合

[发明专利]感光性树脂去除用的稀释剂组合物-CN200510074042.0有效
发明人： 尹锡壹;朴熙珍;郑宗铉;金柄郁 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2005-05-25 - 公布日： 2005-11-30 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：提供感光性树脂去除用稀释剂组合物，用于液晶显示设备中使用的玻璃基板及半导体制造时所用的晶片的周边和背面部分，短时间内可高效去除附着的没用的感光性树脂。本发明提供感光性树脂去除用稀释剂组合物，其包含a)烷基酰胺；和b)乙酸烷基酯。上述稀释剂组合物优选含有a)烷基酰胺1～99重量份；b)乙酸烷基酯1～80重量份。此外，本发明提供使用上述稀释剂组合物的半导体元件及液晶显示装置的制造方法。
感光性树脂去除稀释剂组合

[发明专利]用于除去与铜相容的抗蚀剂的组合物和方法-CN200410076979.7有效
发明人：曹奎哲;蔡基成;权五楠;李坰默;黄龙燮;金圣培;长锡唱;尹锡壹 -专利权人： LG.菲利浦LCD有限公司;东进瑟弥侃株式会社
申请日： 2004-08-27 - 公布日： 2005-03-09 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于除去与铜相容的抗蚀剂的组合物，该组合物包含：约10重量％～30重量％的胺化合物溶剂，该胺化合物溶剂包含链烷醇胺；约10重量％～80重量％的乙二醇类溶剂；约9.5重量％～79重量％的极性溶剂和约0.5重量％～10重量％的防腐蚀剂。
用于除去相容抗蚀剂组合方法

[发明专利]用于除去感光树脂的稀释剂组合物-CN200410070223.1有效
发明人： 尹锡壹;全雨植;朴熙珍 -专利权人：东进瑟弥侃株式会社
申请日： 2004-07-30 - 公布日： 2005-02-16 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于除去感光树脂的稀释剂组合物，该感光树脂用于制造半导体器件或液晶显示器，更特别地涉及包括a)烷基酰胺和b)酮的稀释剂组合物。稀释剂组合物可进一步包括c)全氟烃基氧化胺。本发明的稀释剂组合物可有效除去在衬底边缘和背面附着的不需要的彩色抗蚀剂，特别是用于制造液晶显示器的大尺寸彩色玻璃衬底。它还除去剩余薄膜并降低边缘的差距，因此有效地清洁衬底。因此，它以经济的优点而用于各种工艺，简化制造工艺并提高产率。
用于除去感光树脂稀释剂组合

[发明专利]去除TFT－LCD制造工艺中彩色抗蚀剂的剥离组合物-CN200410062400.1有效
发明人： 尹锡壹;金圣培 -专利权人：东进瑟弥侃株式会社
申请日： 2004-07-09 - 公布日： 2005-02-09 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种去除TFT－LCD制造工艺中彩色抗蚀剂的剥离组合物，更特别地涉及一种剥离组合物，该剥离组合物在滤色器工艺期间选择性除去质量差的衬底的彩色抗蚀剂，因此能够重复使用衬底。本发明的剥离组合物具有经济的优点，由于它能够实现滤色器衬底的循环使用，而先前该衬底由于彩色抗蚀剂图案难以脱除而被浪费。
去除 tft lcd 制造工艺彩色抗蚀剂剥离组合

[发明专利]光致抗蚀剂移除组合物-CN200310116832.1有效
发明人：朴成焕;李昌奂;曹三永;金玮鎔;尹锡壹 -专利权人：海力士半导体有限公司;东进瑟弥侃株式会社
申请日： 2003-11-28 - 公布日： 2004-10-13 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种用以移除因蚀刻或灰化子处理所产生的光致抗蚀剂残余物的光致抗蚀剂聚合物移除剂组合物。所公开的该光致抗蚀剂聚合物移除剂组合物包括：(a)基于该组合物总重量5％至15％的硫酸、(b)基于该组合物总重量1％至5％的过氧化氢或0.0001％至0.05％的臭氧、(c)基于该组合物总重量0.1％至5％的醋酸、(d)基于该组合物总重量0.0001％至0.5％的氟化铵及(e)余量为水。
光致抗蚀剂移组合