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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]基板处理装置及用于其的混合喷嘴-CN201520636869.5有效
发明人： 尹哲男 -专利权人： K.C.科技股份有限公司
申请日： 2015-08-21 - 公布日： 2016-03-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及基板处理装置及用于其的混合喷嘴，提供一种基板处理装置及用于其的混合喷嘴，其包括：气体供给通道，其包括截面减小区域和排出区域，所述截面减小区域沿着气体的流动方向而截面逐渐减小，所述排出区域从所述截面减小区域延长至排出口；分岔通道(diverged passage)，其与所述气体供给通道在第一位置连通(connected)并供给干冰，从而在所述截面减小区域加速的气体流动与固体状态的干冰共同通过所述排出口得以排出，由此，在不损伤基板的表面的同时，可有效去除较低地固着于表面的边界层下方的异物。
处理装置用于混合喷嘴

[发明专利]基片存放容器的干式清洗装置-CN200610101810.1无效
发明人：金世镐;朴钟秀;尹哲男 -专利权人： K.C.科技股份有限公司
申请日： 2006-07-11 - 公布日： 2007-07-04 - 主分类号： B08B9/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种基片存放容器的干式清洗装置，该干式清洗装置包含：装载部，以用于投入并移送基片存放容器；清洗部，以用于使用干冰粒子清洗所述基片存放容器；卸载部，以用于搬出并移送在所述清洗部完成清洗的所述基片存放容器。依据本发明，因为使用干冰粒子清洗基片存放容器，所以没有被排出的废弃物而具有环保效果。并且，本发明因为使用干冰粒子，所以可以进行微细的清洗并使基片存放容器的变形或破损最小，具有延长使用寿命的效果。并且，本发明与现有的湿式清洗装置相比清洗工艺较简单，因而可以使设备大小显著变小，具有经济效应。
存放容器清洗装置

[发明专利]基板处理装置及其处理方法-CN200510134615.4有效
发明人：金世镐;朴钟秀;尹哲男 -专利权人： K.C.科技株式会社
申请日： 2005-12-13 - 公布日： 2006-07-05 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理装置，其包括：装载部，用于装载形成有物质膜的基板；干冰供给部，供给干冰粒子或二氧化碳；喷射处理部，包括一个以上的喷管，向上述基板上喷射由上述干冰供给部所提供的干冰粒子，或将二氧化碳固化后喷射到基板上，以对物质膜进行初步表面处理；表面处理部，对上述经过初步表面处理的物质膜进行选择性的去除。本发明使用不留残屑的干冰粒子，对物质膜进行改质或部分去除，并通过清洗或蚀刻等表面处理，去除经改质的物质膜，以此可缩短物质膜去除所需工时。
处理装置及其方法

[发明专利]用于清洁表面的喷嘴及使用该喷嘴清洁表面的方法-CN200510073016.6有效
发明人： 尹哲男 -专利权人： K.C.科技株式会社
申请日： 2005-05-27 - 公布日： 2005-12-14 - 主分类号： B05B7/14 文献下载
摘要：本发明提供一种喷射可升华固体颗粒的喷嘴，所述喷嘴可以防止由于极低温度的雪状物而在喷嘴和目标物的表面处形成霜。所述喷嘴包括：一个清洁剂单元，用于使来清洁剂相变至含有可升华固体颗粒的雪状物状态；一个喷嘴单元，用于通过绝热膨胀生长清洁剂雪状物，以及将所生长的清洁剂雪状物喷射至目标物的表面；一个载运气体单元，用于将来载运气体供应至所述喷嘴单元以与所述清洁剂雪状物混合；以及一个加热器，用于加热至少一部分载运气体。另外，本发明可以安装螺线管阀而自动地控制CO₂的供应，并且可以通过在所述载体气体单元和所述喷嘴单元的出口端附加地安装一个热电偶传感器而确定所述自动设备的喷嘴是否在喷射干冰。
用于清洁表面喷嘴使用方法

[发明专利]清洗晶片边缘的装置-CN01820692.1有效
发明人：高世钟;金重琯;尹哲男;李正浩 -专利权人： K·C·科技株式会社
申请日： 2001-12-14 - 公布日： 2004-03-10 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明涉及一种清洗晶片边缘的装置，它建造相对简单，成本低，并可使晶片防止由边缘清洗引起的再污染，因而提高了晶片的生产率。该装置包括一个安置在夹盘侧面部分以向由夹盘夹持并旋转的晶片的侧面和边缘部分喷射微粒态清洗剂(CO₂微粒)的清洗剂喷嘴体，及一个在静止位置和清洗位置之间移动喷嘴体的喷嘴体架。
清洗晶片边缘装置

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