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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]电源装置、以及，电源装置的控制方法-CN201780002702.5有效
发明人： 小林义则;山下和郎 -专利权人：新电元工业株式会社
申请日： 2017-08-04 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： H03K19/018 文献下载
摘要：本发明的电源装置包括：输出电路，由电源提供给电力，并输出电流；驱动电路，对输出电路的电流输出运作进行控制；过电流检测电路，一旦检测出输出电路的过电流，将检测信号输出至第一节点；固定关闭电路，根据被输入至第一节点的检测信号，将用于在不受制于控制信号的情况下强制关闭输出电路的输出运作的固定关闭信号从输出节点输出至驱动电路；以及控制部，通过将用于控制输出电路的输出运作的控制信号输出至驱动电路，从而在通过驱动电路控制输出电路的输出运作的同时，被输入检测信号。
电源装置以及控制方法

[发明专利]电力转换装置、以及半导体装置-CN201580060832.5有效
发明人： 小林义则 -专利权人：新电元工业株式会社
申请日： 2015-08-28 - 公布日： 2019-03-12 - 主分类号： H02M1/00 文献下载
摘要：电力转换装置，包括：配置在基板上的半导体元件；热敏电阻元件，配置在基板上，其一端与接地侧节点相连接，其另一端与基板的检测节点相连接，用于检测基板的温度；电流检测用电阻，其一端与接地侧节点相连接，其另一端接地；第一电压检测部，对电流检测用电阻的另一端的第一电位以及接地侧节点的第二电位进行检测，并且输出第一检测信号；控制部，基于第一检测信号，对半导体元件进行控制；温度检测用电阻，其一端与基准电位相连接，其另一端与检测节点相连接；以及温度检测部，基于检测节点的第三电位对温度进行检测，并且输出包含检测出的温度信息的温度信息信号。
电力转换装置以及半导体

[发明专利]光刻系统-CN200810144924.3无效
发明人：奥山隆志;小林义则 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2008-08-07 - 公布日： 2009-02-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻系统。该光刻系统具有至少一个空间光调制器、构造成使曝光区域相对于目标对象沿扫描方向运动的扫描机构、多个存储器(第1个至第N个存储器)、数据处理器和曝光控制器。该曝光区域限定为所述空间光调制器的投射区域。所述多个存储器与通过划分所述曝光区域而限定的多个局部曝光区域对应。所述数据处理器根据曝光定时在每个存储器中连续地写入曝光数据，所述曝光控制器基于所述曝光区域的相对位置控制所述多个光调制元件。所述数据处理器在第1存储器中写入新生成的曝光数据，并使存储在第1个至第N－1个存储器中的曝光数据分别移位至第2个至第N个存储器。
光刻系统

[发明专利]曝光绘图装置-CN200810088523.0有效
发明人：野中纯;李德;小林义则 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2008-03-27 - 公布日： 2008-10-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光绘图装置，搭载着少数光源和多个作为空间光调制组件的DMD组件，确保高的运转率，且可确认此光源的光量。曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射包含紫外线的光；有孔构件(20)，设有用于将光源分离成第一光束和第二光束的第一开口窗(21)及第二开口窗(21)、以及光量检测用的检测窗(29)；第一及第二光学组件(22)，将通过第一开口窗及第二开口窗的第一光束及第二光束分别反射；第一光量传感器(SS11)，配置在第一及第二光学组件的附近，检测出从光源通过检测窗的光量。
曝光绘图装置

[发明专利]曝光装置-CN200710149283.6无效
发明人： 小林义则 -专利权人：株式会社ORC制作所
申请日： 2007-09-11 - 公布日： 2008-03-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供以不降低绘制分辨率而扩大带宽的曝光装置，或不会使曝光资料演算处理复杂化而在绘制分辨率高的状态下进行曝光的曝光装置。曝光装置包括DMD、成像光学系统以及绘制部，其中成像光学系统具有投影部，其包括将从在DMD中的开启状态的微型反射镜反射的光所构成的中间投影像聚集在对于主扫描方向xx形成一定倾斜角度θ的第一方向x上的第一方向圆筒状镜片、以及在和第一方向x垂直的第二方向y之间形成一定倾斜角度的副扫描方向yy上分割及聚集光的副扫描方向圆筒状镜片群或在第二方向y上分割及聚集光的第二方向圆筒状镜片群。绘制部在曝光时，由DMD经由成像光学系统、投影像被投影，在主扫描方向xx移动。
曝光装置

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