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- [发明专利]真空阀及推断装置-CN202110958305.3有效
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小崎纯一郎
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株式会社岛津制作所
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2021-08-20
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2023-05-23
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F16K31/02
- 本发明提供一种真空阀及推断装置，可精度良好地推断测量延迟量，从而可更适当地进行调压控制。真空阀包括：阀主体，装设于真空泵与真空腔室之间；调压控制部，基于由真空计测量的真空腔室的压力测量值，对阀主体的阀体开度进行控制；以及推断部，基于包含压力测量值的二阶微分项且表示真空排气系统相对于真空腔室的有效排气速度与压力测量值的关系的排气式子、以及在使阀体开度阶段变化时的压力响应中测量的压力测量值，推断相对于真空腔室的压力的压力测量值的测量延迟时间，调压控制部基于由推断部推断的测量延迟时间，对阀体开度进行控制。
- 真空推断装置
- [发明专利]推断装置以及阀控制装置-CN201910911072.4有效
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小崎纯一郎
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株式会社岛津制作所
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2019-09-25
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2023-05-02
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G05D7/06
- 本发明提供一种推断装置以及阀控制装置，其推断真空阀的调压时所使用的实效排气速度。推断装置(5)包括：激振部(52)，使开度信号(θs)与激振信号重叠，开度信号(θs)用于驱动自动压力控制阀(1)的阀体(11)，激振信号用于对阀体(11)进行激振，所述自动压力控制阀(1)设置在对腔室(3)进行排气的真空泵(4)与腔室(3)之间；以及推断部(51)，根据激振时的腔室内压力的压力响应，推断与经由自动压力控制阀(1)而被排气的气体相关的实效排气速度(Se)。
- 推断装置以及控制
- [发明专利]阀控制装置以及真空阀-CN201911079529.6有效
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小崎纯一郎
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株式会社岛津制作所
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2019-11-07
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2022-04-08
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F16K31/04
- 本发明提供一种阀控制装置，其可在切换成反馈控制后，使腔室压力迅速地朝目标压力收敛。阀控制装置(2)包括：设定压力生成部(20)，生成设定压力(Pset1)；以及开度控制部(21)，根据目标压力(Ps)来进行作为第一开度控制的打开控制，在第一开度控制之后，进行根据设定压力(Pset1)与真空腔室的压力(Pr)的差(ε)来实施反馈控制的第二开度控制；设定压力生成部(20)根据以规定的时间常数，从自第一开度控制向第二开度控制的切换时的真空腔室的压力朝目标压力(Ps)收敛的设定压力轨道，生成设定压力(Pset1)。
- 控制装置以及真空
- [发明专利]阀控制装置以及真空阀-CN201911373128.1有效
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小崎纯一郎
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株式会社岛津制作所
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2019-12-27
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2022-03-22
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F16K3/02
- 本发明提供一种能够缩短调压时间的阀控制装置以及真空阀。阀控制装置(2)具备：关闭控制部(21)，基于目标压力(Ps)生成利用关闭控制的开度控制信号即开度设定输出(Δθ)；以及开度增量产生部(22)，与真空腔室(3)的压力(Pr)达到目标压力(Ps)的时机t1同步地，基于真空阀的开度(θr)、压力(Pr)、目标压力(Ps)以及开度(θ)与实效排气速度(Se)的相关关系Se(θ)、Gp(θ)生成开度增量(Δθblow)，并将所述开度增量(Δθblow)与开度控制信号(Δθ)相加。
- 控制装置以及真空
- [发明专利]真空阀门-CN201910864400.X有效
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小崎纯一郎
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株式会社岛津制作所
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2019-09-12
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2021-12-28
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F16K1/00
- 本发明提供一种真空阀门及阀门控制装置，能够实现微调性能的提高。真空阀门(4)是对阀体(40)以相对于阀门开口(410)进行升降驱动，而进行阀门开闭动作的真空阀门，所述阀体(40)是与阀门开口(410)相向配置，所述真空阀门(4)包括：粗调驱动部(43)，对阀体(40)以第一最小驱动可能量进行升降驱动；以及微调驱动部(44)，对阀体(40)以第二最小驱动可能量进行升降驱动，所述第二最小驱动可能量小于第一最小驱动可能量。
- 真空阀门
- [发明专利]推断器以及真空阀-CN202110176503.4在审
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小崎纯一郎
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株式会社岛津制作所
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2021-02-09
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2021-09-14
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G05D16/20
- 本发明提供一种推断器及真空阀，所述推断器不论校正用气体的气体种类如何，均可求出腔室容积。推断器(1)包括获取多个包含阀(3)的阀体开度(θ)与所述阀体开度(θ)中的腔室压力(Pm)的数据对(θ、Pm)的获取部、以及对气体种类特性值(a0)及腔室容积推断值(V0)进行运算的运算部(11)。运算部(11)基于表示实效排气速度、被导入的气体的流量(Qin)、腔室容积及腔室压力之间的关系的排气的式子，已获取的多个数据对(θ、Pm)，以及与规定已知气体相关的阀体开度(θj)和实效排气速度(Se)的关联数据(Se(θj))，对气体种类特性值(a0)及腔室容积推断值(V0)进行运算。
- 推断以及真空
- [发明专利]温度控制装置以及涡轮分子泵-CN201611191535.7有效
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小崎纯一郎
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株式会社岛津制作所
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2016-12-21
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2021-06-18
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F04D19/04
- 本发明提供能够通过发出与反应生成物堆积相关的警报而进行适当的维护，并且能够实现转子寿命延长与维护期间延长的温度控制装置。温度控制装置(2)为涡轮分子泵的温度控制装置，所述涡轮分子泵包括：定子，设置于基底；泵转子，相对于定子旋转驱动；加热器(5)，对基底进行加热；基底温度传感器(6)，对基底(3)的温度进行检测；以及转子温度传感器(8)，检测泵转子(4a)的转子温度(Tr)，所述温度控制装置包括：温度控制部(21)，基于转子温度传感器(8)的检测值来控制加热器(5)对基底(3)的加热；以及显示部(23)及输出部(26)，在基底温度传感器(6)的检测温度为规定温度(T2)以下的情况下发出警报。
- 温度控制装置以及涡轮分子
- [发明专利]阀控制装置-CN201711167307.0有效
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平田伸幸;小崎纯一郎;中谷敦夫;中村雅哉
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株式会社岛津制作所
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2017-11-21
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2021-06-18
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G05D16/20
- 本发明提供一种能够实现真空阀的调压性能提高的阀控制装置。阀控制器(2)输入有与真空阀(1)连接的真空腔室(3)的压力计测值Pr、真空腔室(3)的压力目标值Ps与真空阀(1)的开度计测值θr，基于压力计测值Pr与压力目标值Ps的偏差来控制真空阀(1)的开度θ，所述阀控制器(2)包括：存储部(23)，存储有真空阀(1)的开度与包含真空阀(1)的系统的流导的相关；以及开度设定部(21)，基于所述相关，求出所输入的开度计测值θr中的流导相对于开度变化的变化率(dS/dθ)，将所述变化率的倒数设定为修正增益，且所述阀控制器(2)基于偏差与修正增益来控制真空阀(1)的开度。
- 控制装置
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