专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]启动加注处理方法以及启动加注处理装置-CN201310376565.5有效
  • 宫崎文宏;中满孝志;山崎刚;鬼塚靖之;永田义寿 - 东京毅力科创株式会社;平田机工株式会社
  • 2010-06-28 - 2013-12-25 - C03C17/00
  • 本发明提供一种能够更大程度地减少在启动加注处理中使用的清洗液、缩短干燥处理时间以及延长清洗处理用工具和/或干燥处理用工具的使用寿命的启动加注处理方法以及启动加注处理装置。该启动加注处理装置在启动加注辊(14)的周围沿旋转方向配置有具有清洗垫(20)的粗清洗处理部(18)、具有双流体喷嘴(42)的精清洗处理部(38)、具有擦拭垫(52)的液滴去除部(48)、和包括间隙(58)以及气体喷嘴(60)的干燥送风部(50)。利用清洗垫移动机构(24)以及擦拭垫移动机构(56)在清洗垫(20)以及擦拭垫(52)与启动加注辊(14)的外周面接触的第1位置、和清洗垫(20)以及擦拭垫(52)自启动加注辊(14)退避的第2位置之间切换清洗垫(20)以及擦拭垫(52)的位置。
  • 启动加注处理方法以及装置
  • [发明专利]涂敷膜形成装置和涂敷膜形成方法-CN201210076863.8有效
  • 宫崎文宏;元田公男;大塚庆崇 - 东京毅力科创株式会社
  • 2012-03-21 - 2012-09-26 - H01L21/027
  • 本发明提供涂敷膜形成装置和涂敷膜形成方法。通过使用两个喷嘴提高基板的涂敷处理的生产节拍时间并抑制成本。涂敷膜形成装置包括:喷嘴保持部件(12),其保持沿基板输送方向前后配置的第1喷嘴(16)和第2喷嘴(17);喷嘴移动部件(11),其使喷嘴保持部件沿基板输送方向移动;控制部件(40),其进行第1喷嘴及上述第2喷嘴的驱动控制、上述喷嘴移动部件的驱动控制,上述控制部件控制上述喷嘴移动部件以便将上述第1喷嘴和上述第2喷嘴配置在基板输送路径上的同一个涂敷位置,并进行控制以便利用该喷嘴移动部件使上述喷嘴保持部件移动,利用配置在上述同一个涂敷位置的上述第1喷嘴和第2喷嘴中的任一个喷嘴向上述基板喷出处理液。
  • 涂敷膜形成装置方法
  • [发明专利]浮起式涂敷装置-CN201210071525.5有效
  • 稻益寿史;宫崎文宏 - 东京毅力科创株式会社
  • 2012-03-16 - 2012-09-19 - C03C15/00
  • 本发明提供一种浮起式涂敷装置,在浮起台加大划分浮起台组块的边界(接缝)的台阶的容许度,能够简便并且短时间进行浮起面的高度位置调整作业。在浮起台(10)中,左端的搬入用浮起台组块(SBA)搭载配置多个仅有喷出口(12)的第一粗略浮起区域(MIN)。在中间的浮起台组块(SBB)局部搭载在输送方向(X方向)的两端部设置多个仅有喷出口(12)的上推浮起区域(MP、MQ),并且在这些之间搭载混合多个配置喷出口(12)和吸引口(14)的精密浮起区域(MCT)。此外,在右端的搬出用浮起台组块(SBC)搭载配置多个仅有喷出口(12)的第二粗略浮起区域(MOUT)。
  • 浮起式涂敷装置
  • [发明专利]悬浮式涂敷装置-CN201210050161.2有效
  • 稻益寿史;宫崎文宏 - 东京毅力科创株式会社
  • 2012-02-29 - 2012-09-19 - B05C5/02
  • 本发明提供悬浮式涂敷装置。本发明的课题是以短时间简便地进行可分解的悬浮台的再组装作业中的高度调整。在该抗蚀剂涂敷装置的悬浮台(10),出口侧的工作台块(SBa)通过多个支柱(18)和调节器(20)被安装在能够独立输送的台座(FLA)上。中间的三个工作台块(SBb)、(SBc)、(SBd)通过多个支柱(22)、(24)、(26)和调节器(28)、(30)、(32)被分别安装在能够独立输送的台座(FLB)上。出口侧的工作台块(SBe)通过多个支柱(34)和调节器(36)被安装在能够独立输送的台座(FLC)上。
  • 悬浮式涂敷装置
  • [发明专利]狭缝喷嘴清扫装置以及涂覆装置-CN201110041215.4有效
  • 元田公男;宫崎文宏;太田义治;川内拓男 - 东京毅力科创株式会社
  • 2011-02-17 - 2011-08-24 - B05B15/02
  • 本发明提供一种在抑制颗粒的产生的同时、自动且有效率地清扫狭缝喷嘴的狭缝内部的狭缝喷嘴清扫装置以及涂覆装置。狭缝喷嘴清扫装置(70)包括:喷嘴清扫单元(56)、用于使整个启动加注处理部在基板输送方向(X方向)上移动的X方向移动部(54)以及用于在壳体(44)中使喷嘴清扫单元在喷嘴长度方向(Y方向)移动的Y方向移动部(60)。喷嘴清扫单元(56)包括:能够自外部向狭缝喷嘴(32)的狭缝(32a)内插入或者从狭缝(32a)内拔出的薄板状的刮板(74)、用于保持该刮板的保持部(76)、用于使刮板与保持部(76)一体地在狭缝喷嘴的喷出方向上移动的升降机构(78)以及用于使刮板旋转的旋转机构(82)。
  • 狭缝喷嘴清扫装置以及
  • [发明专利]基板输送装置及基板输送方法-CN201110025022.X有效
  • 大塚庆崇;宫崎文宏;中满孝志 - 东京毅力科创株式会社
  • 2011-01-21 - 2011-08-17 - H01L21/683
  • 本发明提供基板输送装置及基板输送方法,在以张的形式1张1张地水平输送被处理基板的基板处理装置中缩短了从基板搬入到输送开始的生产节拍时间并提高了生产率。该基板输送装置具有:悬浮用载物台,其使被处理基板悬浮;一对导轨,其平行配置在悬浮用载物台的左右侧方;多个基板载持件,其能分别沿着一对导轨移动,能从下方吸附保持基板的边缘部;对准部件,其相对于被搬入到悬浮用载物台的基板搬入位置的基板从待机位置到规定位置自由进退,与基板接触而将该基板配置在规定位置;基板支承部件,其在悬浮用载物台的基板搬入位置处从该基板的下方支承被对准部件配置在规定位置的基板;控制部,其控制基板载持件、对准部件及基板支承部件的动作。
  • 输送装置方法
  • [发明专利]基板输送装置以及基板输送方法-CN201010268514.7有效
  • 大塚庆崇;宫崎文宏;中满孝志;高木贵生 - 东京毅力科创株式会社
  • 2010-08-30 - 2011-04-06 - H01L21/677
  • 本发明提供一种基板输送装置以及基板输送方法,不用停止基板的输送而将其从浮起台运出,抑制产生对基板的被处理面的转印痕,能够提高生产能力。该基板输送装置具有将基板(G)以浮起的状态输送的浮起输送部(2A)以及配置在所述浮起输送部的后段,从所述浮起输送部取得所述基板,由输送滚体输送的滚动输送部(2B)。所述浮起输送部具有:使所述基板浮起的浮起台(3);与所述浮起台的左右侧方平行配置并延伸到所述滚动输送部的左右侧方的导轨(5);以及、沿所述导轨分别能够移动地设置,能够从下方吸附保持所述基板的缘部的基板载体(6),所述基板由所述基板载体吸附保持,沿所述导轨输送,所述基板的前端到达所述滚动输送部的规定位置时,解除基板载体的吸附。
  • 输送装置以及方法

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