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[发明专利]包含相分离结构的结构体的制造方法-CN201780059252.3有效
发明人：太宰尚宏;山野仁诗;川上晃也;宫城贤 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2017-09-26 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： C08J7/00 文献下载
摘要：一种包含相分离结构的结构体的制造方法，其具有：使用含有嵌段共聚物和离子液体的相分离结构形成用树脂组合物在基板(1)上形成包含嵌段共聚物的层(BCP层)(3)的工序，其中，所述离子液体包含具有阳离子部和阴离子部的化合物(IL)；和使化合物(IL)的至少一部分气化、并且使BCP层(3)发生相分离而得到包含相分离结构的结构体(3’)的工序。
包含分离结构制造方法

[发明专利]被认证物、认证系统以及认证用介质的生成方法-CN202080012429.6在审
发明人：黑泽刚志;宫城贤;太宰尚宏 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2020-01-22 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： G06F21/34 文献下载
摘要：本发明的课题在于以低成本容易且正确地进行认证，提出一种作为由认证系统进行认证的对象的被认证物(C1)，包含与由相分离结构形成用树脂组合物形成在基板上的相分离结构的一部分的图案相关的特征，具备具有由所述认证系统所具备的获取装置获取的认证信息的认证用介质(M1)。
证物认证系统以及介质生成方法

[发明专利]粘接剂组合物以及粘接薄膜-CN200680039580.9有效
发明人：三隅浩一;宫城贤;宫成淳;稻尾吉浩 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2006-10-23 - 公布日： 2008-10-29 - 主分类号： C09J133/06 文献下载
摘要：本发明提供一种粘接剂组合物以及包含此粘接剂组合物的粘接薄膜，所述粘接剂组合物，加热时所产生的气体少(吸湿性低)，耐碱性也高，具有200℃以上的耐热性，并且容易利用剥离液进行剥离。本发明制备一种至少以丙烯酸类聚合物作为主成分的粘接剂组合物，所述丙烯酸类聚合物包含(a)苯乙烯、(b)含环状骨架的(甲基)丙烯酸酯单体以及(c)(甲基)丙烯酸烷基酯单体。另外，利用所述粘接剂组合物来形成粘接薄膜的粘接剂组合物层。
粘接剂组合以及薄膜

[发明专利]层间绝缘膜用感光性树脂组合物及层间绝缘膜的形成方法-CN200710140222.3有效
发明人： 宫城贤;杉本安章;馆野功;中绪卓 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2007-08-03 - 公布日： 2008-02-13 - 主分类号： G03F7/022 文献下载
摘要：本发明提供能够形成高析像度的图案的层间绝缘膜用感光性树脂组合物。所述层间绝缘膜用感光性树脂组合物含有碱可溶性树脂成分(A)和感光剂(B)，所述碱可溶性树脂成分(A)含有具有下述通式(a－1)所示的结构单元(a1)和具有交联性基团的结构单元(a2)的共聚物(A1)。下述通式中，R⁰表示氢原子或甲基，R¹表示单键或碳原子数为1～5的亚烷基，R²表示碳原子数为1～5的烷基，a表示1～5的整数，b表示0或1～4的整数，a+b为5以下。需要说明的是，存在2个以上R²时，各个R²可以相互不同，也可以相同。
绝缘感光性树脂组合形成方法

[发明专利]化学放大型正型光致抗蚀剂组合物-CN200510098173.2无效
发明人：馆俊聪;宫城贤;铃木贵子 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2005-09-12 - 公布日： 2006-03-22 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：一种化学放大型正型光致抗蚀剂组合物，是在一个基板上形成有集成电路和液晶显示部分的基板制造用的化学放大型正型光致抗蚀剂组合物，将全部酚性羟基的至少一部分被酸解离性溶解抑制基所保护的酚醛清漆树脂(A－1)、全部酚性羟基的至少一部分被酸解离性溶解抑制基所保护的聚羟基苯乙烯树脂(A－2)、以及通过放射线的照射产生酸的酸产生剂(B)溶解于有机溶剂而成。
化学大型正型光致抗蚀剂组合

[发明专利]化学放大型正性光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法-CN200480000692.4无效
发明人：丸山健治;栗原政树;宫城贤;新仓聪;嶋谷聪;增岛正宏;新田和行;山口敏弘;土井宏介 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2004-05-19 - 公布日： 2005-11-16 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供了一种化学放大型正性光致抗蚀剂组合物，它具有极好的以抗蚀剂溶液形式在瓶中储存的稳定性。酚醛清漆树脂或羟基苯乙烯树脂与交联剂反应给出微溶于碱或不溶于碱的树脂，它具有在酸存在下可提高其在碱性水溶液中溶解度的这种特性，然后这种树脂溶于有机溶剂，与(B)在射线照射下产生酸的一种化合物一起得到化学放大型正性光致抗蚀剂组合物，其中酸性成分的含量为10ppm或10ppm以下。
化学大型正性光致抗蚀剂组合图案形成方法

[发明专利]化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物-CN200510067313.X无效
发明人： 宫城贤;馆俊聪;新仓聪 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2005-04-18 - 公布日： 2005-11-02 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供高温加热处理时抗蚀剂图案形状不变形，升华物的产生也少，耐热性优异的光致抗蚀剂组合物。所述化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物，含有(A)树脂成分、(C)通过放射线的照射产生酸成分的化合物、和有机溶剂，具有通过由所述(C)成分产生的酸成分的作用，对于碱水溶液的溶解性增大的性质，其中，所述(A)成分含有树脂成分(a1)，树脂成分(a1)是用酸解离性溶解抑制基将碱可溶性酚醛清漆树脂的全部酚性羟基的一部分保护，对形成的碱难溶性或不溶性的树脂实施将低分子量体分离去除的处理而得到的。
化学增幅型正型光致抗蚀剂组合

[发明专利]化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物-CN200510064839.2无效
发明人： 宫城贤;馆俊聪;丸山健治;高木勇 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2005-04-06 - 公布日： 2005-10-12 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明涉及一种化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于：其含有树脂成分(A)和通过放射线的照射产生酸成分的化合物(C)以及有机溶剂，通过由前述(C)成分所产生的酸成分的作用，该组合物具有对碱性水溶液溶解性增大的性质，其中前述(A)成分含有下述酚醛清漆树脂(a1)的所有酚性羟基中的一部分通过酸解离性溶解抑制基保护而形成的碱难溶性或不溶性树脂成分，所述酚醛清漆树脂(a1)是通过使芳香族羟基化合物与至少含有甲醛和羟基取代芳香醛的醛类缩合反应而得到的酚醛清漆树脂。
化学增幅型正型光致抗蚀剂组合

[发明专利]基板的粘附方法-CN200410082279.9有效
发明人：宫成淳;土井宏介;宫城贤;稻尾吉浩;三隅浩一 -专利权人：东京応化工业株式会社
申请日： 2004-12-01 - 公布日： 2005-08-17 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供：在对半导体晶片等基板薄板化时，难以产生基板的裂纹或缺口的基板粘附方法。解决课题的方法为：在半导体晶片W的电路(元件)形成面涂敷粘合剂液，预干燥该粘合剂液以降低流动性，可以维持粘合剂层1的形状。使用烤箱预干燥例如在80℃下加热5分钟。粘合剂层1的厚度由在半导体晶片W的表面形成的电路的凹凸来决定。然后，在形成规定厚度的粘合剂层1的半导体晶片W上粘附支承板2。
粘附方法

[发明专利]LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物和抗蚀图的形成方法-CN200310101490.6无效
发明人：片野彰;馆俊聪;宫城贤 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2003-10-21 - 公布日： 2004-05-19 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种即使在低NA条件下，也可以高清晰度形成抗蚀图的，LCD制造用的抗蚀剂材料。本发明的抗蚀剂材料，是含有(A)由对于23℃的2.38重量％的氢氧化四甲基铵水溶液的碱溶解性在100～400nm/秒范围内的酚醛树脂形成的碱可溶性树脂，(B)通过放射线照射产生酸的化合物以及(C)交联性聚乙烯醚化合物的LCD制造用正型抗蚀剂组合物。
lcd 制造用正型光致抗蚀剂组合抗蚀图形成方法

[发明专利]正型光致抗蚀剂组合物与抗蚀剂图案的形成方法-CN03148995.8无效
发明人：久保敦子;大内康秀;宫城贤 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2003-07-03 - 公布日： 2004-01-21 - 主分类号： G03F7/022 文献下载
摘要：本发明提供一种适用于系统液晶显示器(LCD)的制造且线性优异并可以形成微细抗蚀剂图案的材料以及使用此材料的抗蚀剂图案形成方法。本发明正型光致抗蚀剂组合物用于制造1块基板上形成集成电路和液晶显示元件部分的基板，其特征在于含有(A)碱溶性树脂、(B)萘醌二迭氮酯化合物、(C)特定结构的含酚性羟基的化合物以及(D)有机溶剂。本发明的抗蚀剂图案形成方法的特征在于，包括：用该正型抗蚀剂组合物在基板上形成抗蚀剂涂膜的工序、用画有用于形成集成电路用抗蚀剂图案的掩膜图案和用于形成液晶显示部分用抗蚀剂图案的掩膜图案的掩膜，进行选择性曝光，同时形成集成电路用抗蚀剂图案和液晶显示部分用抗蚀剂图案的工序。
正型光致抗蚀剂组合抗蚀剂图案形成方法

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