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[发明专利]用于电子器件的材料-CN202310552689.8在审
发明人： 安雅·雅提斯奇;埃米尔·侯赛因·帕勒姆;托马斯·埃伯利;托比亚斯·格罗斯曼;乔纳斯·瓦伦丁·克罗巴 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2015-06-30 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： C07D403/10 文献下载
摘要：本发明涉及用于电子器件的材料。具体地，本发明涉及化合物、组合物，涉及包含要求保护的化合物和组合物的制剂，和涉及包含要求保护的化合物和组合物的光电器件。
用于电子器件材料

[发明专利]有机功能材料的制剂-CN201780065487.3有效
发明人：格雷·比雷;克里斯托夫·莱昂哈德;曾信荣;曼纽尔·汉布格尔;安雅·雅提斯奇 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2017-10-17 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： C09K11/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种制剂，所述制剂含有至少一种有机功能材料和至少两种不同的有机溶剂，即第一有机溶剂A和第二有机溶剂B制剂，其中第一有机溶剂A具有250‑350℃范围内的沸点和＞15mPas的粘度，第二有机溶剂B具有200‑350℃范围内的沸点和≤10mPas的粘度，所述至少一种有机功能材料在所述第二有机溶剂B中的溶解度是≥5g/l，且第一有机溶剂A的沸点比第二有机溶剂B的沸点高至少10℃。本发明还涉及通过使用这些制剂制备的电致发光器件。
有机功能材料制剂

[发明专利]有机功能材料的制剂-CN201780065480.1有效
发明人：格雷·比雷;克里斯托夫·莱昂哈德;曾信荣;曼纽尔·汉布格尔;安雅·雅提斯奇 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2017-10-17 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： C09K11/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种制剂，所述制剂含有至少一种有机功能材料和至少四种不同的有机溶剂，即第一有机溶剂A、第二有机溶剂B、第三有机溶剂C和第四有机溶剂D，其中所述第一有机溶剂A包含能够接受或给予氢键的基团，所述第二有机溶剂B的沸点在50至350℃的范围内，所述第三有机溶剂C的沸点在100至300℃的范围内，并且所述第四有机溶剂D的沸点在200至400℃的范围内，其以0.01至1体积％的量存在并具有≥15mPas的粘度，所述至少一种有机功能材料在所述第二有机溶剂B中和在所述第四有机溶剂D中的溶解度≥5g/l，所述第三有机溶剂C的沸点比所述第二有机溶剂B的沸点低至少10℃；并且所述第四有机溶剂D的沸点比所述第二有机溶剂B的沸点高至少10℃；以及涉及通过使用这些制剂制备的电致发光器件。
有机功能材料制剂

[发明专利]用于有机电致发光器件的材料-CN201780067373.2有效
发明人：阿米尔·帕勒姆;托马斯·埃伯利;安雅·雅提斯奇;托比亚斯·格罗斯曼;乔纳斯·克罗巴;多米尼克·约斯滕;卡罗琳·维尔 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2017-11-06 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： C07D405/12 文献下载
摘要：本发明涉及被咔唑化合物取代的二苯并呋喃化合物，特别是用作有机电致发光器件中的三重态基质材料。本发明还涉及用于制备根据本发明的化合物的方法和包含所述化合物的电子器件。
用于有机电致发光器件材料

[发明专利]用于有机电致发光器件的材料-CN201880017826.5有效
发明人：阿米尔·帕勒姆;托马斯·埃伯利;安雅·雅提斯奇;托比亚斯·格罗斯曼;乔纳斯·瓦伦丁·克罗巴 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2018-03-12 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： C07D405/14 文献下载
摘要：本发明涉及二苯并呋喃和二苯并噻吩衍生物，其特别是用作有机电致发光器件中的三重态基质材料。本发明还涉及制备本发明化合物的方法，以及包含本发明化合物的电子器件。
用于有机电致发光器件材料

[发明专利]电子器件的制备方法-CN201780075083.2有效
发明人：格雷·比雷;克里斯托夫·莱昂哈德;曾信荣;曼纽尔·汉布格尔;比特·布克哈特;卡特娅·马里亚·沙伊布勒;安雅·雅提斯奇 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2017-12-04 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： H10K99/00 文献下载
摘要：本发明涉及制备诸如有机电致发光器件(OLED)的电子器件的方法，其中以动力学受控的方式从溶液形成具有界面的两个相邻的功能层。所述方法特别适合于通过印刷或涂覆工艺快速且有效地来生产电子器件。本发明另外涉及通过所述方法可获得的电子器件。
电子器件制备方法

[发明专利]用于有机电致发光器件的材料-CN201880058903.1有效
发明人：阿米尔·帕勒姆;乔纳斯·克罗巴;延斯·恩格哈特;安雅·雅提斯奇;克里斯蒂安·艾克霍夫;克里斯蒂安·埃伦赖希 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2018-09-10 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： C07F5/02 文献下载
摘要：本发明涉及环状硼二氮杂环戊熳，特别是用作有机电致发光器件中的三重态基质材料。本发明还涉及一种制备根据本发明的化合物的方法，并涉及包含这些化合物的电子器件。
用于有机电致发光器件材料

[发明专利]作为用于有机电子制剂的溶剂的含芳族基团的酯-CN202010164966.4有效
发明人：加埃勒·贝亚拉;克里斯托夫·莱昂哈德;曾信荣;伊里娜·马丁诺娃;奥雷莉·吕德曼;埃德加·克吕热;安雅·雅提斯奇;曼纽尔·汉布格尔;陈莉惠;帕维尔·麦斯凯万茨;菲利普·爱德华·马伊;丹尼尔·瓦尔克 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2016-11-15 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： H10K71/15 文献下载
摘要：本发明涉及一种作为用于有机电子制剂的溶剂的含芳族基团的酯。具体地，本发明涉及一种用于制造有机电子器件(OLED)的制剂，所述制剂包含(A)至少一种含有芳族基团的特定酯溶剂和(B)至少一种选自以下的有机功能材料：有机导体、有机半导体、有机荧光化合物、有机磷光化合物、有机光吸收化合物、有机光敏化合物、有机光敏化剂和其它的有机光活性化合物，所述其它的有机光活性化合物选自过渡金属、稀土金属、镧系元素和锕系元素的有机金属络合物。
作为用于有机电子制剂溶剂含芳族基团

[发明专利]形成电子器件的有机元件的方法-CN201880006574.6有效
发明人：曾信荣;托尔斯滕·申克;彼得·莱弗莫尔;安雅·雅提斯奇 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2018-01-29 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H10K71/13 文献下载
摘要：本发明涉及一种形成具有至少两种不同像素类型的电子器件的有机元件的方法，所述像素类型包括第一像素类型(像素A)和第二像素类型(像素B)，其中像素A的至少一个层和像素B的一个层是通过同时施加油墨来沉积的，其特征在于，同时沉积的用于制造像素A的层的油墨和用于制造像素B的层的油墨是不同的，并且通过沉积用于制造像素A的层的油墨而获得的层和通过沉积用于制造像素B的层的油墨而获得的层随后被干燥，其中同时沉积并通过用于制造像素A的层和像素B的层的两种不同油墨而获得的两个层的干燥时间的相对差值(t1‑t2/t1)为至多0.5，其中t1是一种像素类型的层的干燥时间，t2是另一种像素类型的层的干燥时间，并且t1大于或等于t2。
形成电子器件有机元件方法

[发明专利]形成有机电致发光(EL)元件的方法-CN201880006632.5有效
发明人：曾信荣;托尔斯滕·申克;彼得·莱弗莫尔;安雅·雅提斯奇 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2018-01-29 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H10K71/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种形成具有至少一种像素类型的有机EL元件的方法，所述有机EL元件包括至少三个不同的层，包括空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)和发光层(EML)，其特征在于至少一种像素类型的HIL、HTL和EML是通过沉积油墨获得的，其中所述层在所述沉积步骤之后在第一退火步骤、第二退火步骤和第三退火步骤中退火，并且第一退火步骤和第二退火步骤的退火温度差值低于35℃，优选低于30℃，更优选低于25℃，并且第三退火步骤的退火温度至多高于第一退火步骤和/或第二退火步骤的退火温度5℃，优选地第三退火步骤的退火温度等于或低于第一退火步骤和第二退火步骤的退火温度，其中第一退火步骤在第二退火步骤之前进行并且第二退火步骤在第三退火步骤之前进行。
形成有机电致发光 el 元件方法

[发明专利]具有可溶性基团的有机化合物-CN202211193351.X在审
发明人：埃米尔·侯赛因·帕勒姆;菲利普·施特塞尔;克里斯托夫·普夫卢姆;安雅·雅提斯奇;约阿希姆·凯泽;埃瓦尔德·艾德特;多米尼克·约斯滕 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2015-11-18 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： C07C255/58 文献下载
摘要：本发明涉及一种具有可溶性基团的有机化合物。具体地，本发明涉及可溶性有机化合物、包含所述化合物的组合物、包含所述化合物或组合物的制剂、和电子器件。
具有可溶性基团有机化合物

[发明专利]具有二氮杂二苯并呋喃或二氮杂二苯并噻吩结构的化合物-CN202210840037.X在审
发明人：阿米尔·帕勒姆;托马斯·埃伯利;安雅·雅提斯奇;托比亚斯·格罗斯曼;乔纳斯·克罗巴 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2017-09-28 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： C07D491/048 文献下载
摘要：本发明涉及一种具有二氮杂二苯并呋喃或二氮杂二苯并噻吩结构的化合物。具体地，本发明涉及特别是用于电子器件中的被咔唑、芴、菲、苯并呋喃和/或苯并噻吩基团取代的二氮杂二苯并呋喃或二氮杂二苯并噻吩衍生物。本发明还涉及制备根据本发明的化合物的方法和包括这些化合物的电子器件。
具有二氮杂二苯呋喃噻吩结构化合物

[发明专利]具有二氮杂二苯并呋喃或二氮杂二苯并噻吩结构的化合物-CN202210824054.4在审
发明人：阿米尔·帕勒姆;托马斯·埃伯利;安雅·雅提斯奇;托比亚斯·格罗斯曼;乔纳斯·克罗巴 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2017-09-28 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： C07D491/048 文献下载
摘要：本发明涉及一种具有二氮杂二苯并呋喃或二氮杂二苯并噻吩结构的化合物。具体地，本发明涉及特别是用于电子器件中的被咔唑、芴、菲、苯并呋喃和/或苯并噻吩基团取代的二氮杂二苯并呋喃或二氮杂二苯并噻吩衍生物。本发明还涉及制备根据本发明的化合物的方法和包括这些化合物的电子器件。
具有二氮杂二苯呋喃噻吩结构化合物

[发明专利]具有二氮杂二苯并呋喃或二氮杂二苯并噻吩结构的化合物-CN202210824596.1在审
发明人：阿米尔·帕勒姆;托马斯·埃伯利;安雅·雅提斯奇;托比亚斯·格罗斯曼;乔纳斯·克罗巴 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2017-09-28 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： C07D491/048 文献下载
摘要：本发明涉及一种具有二氮杂二苯并呋喃或二氮杂二苯并噻吩结构的化合物。具体地，本发明涉及特别是用于电子器件中的被咔唑、芴、菲、苯并呋喃和/或苯并噻吩基团取代的二氮杂二苯并呋喃或二氮杂二苯并噻吩衍生物。本发明还涉及制备根据本发明的化合物的方法和包括这些化合物的电子器件。
具有二氮杂二苯呋喃噻吩结构化合物

[发明专利]具有二氮杂二苯并呋喃或二氮杂二苯并噻吩结构的咔唑-CN201780059195.9有效
发明人：阿米尔·帕勒姆;托马斯·埃伯利;安雅·雅提斯奇;托比亚斯·格罗斯曼;乔纳斯·克罗巴 -专利权人：默克专利有限公司
申请日： 2017-09-27 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： C07D491/04 文献下载
摘要：本发明涉及特别用于电子器件中的被咔唑结构取代的二氮杂二苯并呋喃或二氮杂二苯并噻吩衍生物。本发明还涉及用于制造根据本发明的化合物的方法和包含所述化合物的电子器件。
具有二氮杂二苯呋喃噻吩结构

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