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[实用新型]加热装置及真空镀膜机-CN202221099452.6有效
发明人：张健宁;夏健全;吴洽 -专利权人：中山凯旋真空科技股份有限公司
申请日： 2022-05-09 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种加热装置及真空镀膜机，其包括：真空仓、加热机构和电连接器；加热机构包括设置于真空仓内的固定座和电发热件，固定座连接于真空仓的内壁，电发热件安装于固定座；电连接器设置于真空仓的外壁，电连接器与真空室连通，电连接器与电发热件电连接，电连接器和真空仓的外壁之间设置有密封结构。电发热件整体均安装于真空仓内，并利用设置于真空仓外壁的电连接器实现与外部的电连接。由于电发热器完全设置于真空仓内，并且电连接器与真空仓之间通过密封结构进行密封，因此无需对电发热器的端部进行密封处理，进而得以使得对电发热件的固定和连接处理变得更加顺利、简便。
加热装置真空镀膜

[实用新型]离子轰击装置及真空镀膜生产线-CN202221100259.X有效
发明人：张健宁;夏健全;吴洽 -专利权人：中山凯旋真空科技股份有限公司
申请日： 2022-05-09 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： H01J37/30 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种离子轰击装置及真空镀膜生产线，其包括：壳体、轰击板、电连接器和绝缘结构，壳体内部设置有腔体；轰击板安装于所述腔体内，所述轰击板上设置有接线座；电连接器设置于所述壳体，所述腔体内设置有导线，所述接线座与所述电连接器通过所述导线电连接；绝缘结构设置于所述轰击板和所述壳体之间并能够对二者进行绝缘处理。轰击板相比于现有的轰击棒，在其平面一侧不仅拥有更大的有效轰击面积，并且可以直接确定轰击的方向，因此可以有效地提高原子离化的速度，并减少能量的逸散，进而大大提高镀膜的作业效率。
离子轰击装置真空镀膜生产线

[发明专利]在高分子聚合物表面形成金属色薄膜的方法-CN202110928273.2在审
发明人：李晓刚;章艺锋;夏健全;马华 -专利权人：中山凯旋真空科技股份有限公司
申请日： 2021-08-13 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种在高分子聚合物表面形成金属色薄膜的方法，包括以下步骤：制作打底层：将高分子聚合物放入磁控溅射镀膜设备中，充入氩气和氧气，利用硅靶材反应，通过磁控溅射在高分子聚合物的镀膜表面沉积形成二氧化硅膜层；制作金属层：利用金属靶材反应，通过磁控溅射的方式在二氧化硅膜层上沉积形成金属膜层；制作保护层：充入氩气和氧气，利用硅靶材反应，通过磁控溅射的方式在金属膜层上沉积形成二氧化硅膜层。本发明利用硅原子与高分子聚合物的镀膜表面形成键合，从而提高打底层与高分子聚合物的镀膜表面的结合力，并在金属层上形成二氧化硅膜层作为保护层，以对金属层进行保护，实现较好的耐磨性能、抗冷热循环冲击性、抗侵蚀能力。
高分子聚合物表面形成金属色薄膜方法