专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]垂直磁记录盘以及其制造方法-CN201010002057.7无效
  • 园部义明;梅泽祯一郎;鹰巢力 - HOYA株式会社
  • 2005-06-29 - 2010-07-14 - G11B5/66
  • 本发明提供可以通过不引起DC噪声的增大、热稳定性的劣化、记录能力的劣化而提高高密度记录时的S/N比的方式有助于高记录密度化的垂直磁记录盘以及其制造方法。它是在基板1上至少具备磁记录层,并用于垂直磁记录的磁盘10,磁记录层由在含有钴(Co)的晶粒之间含有硅(Si)或硅(Si)的氧化物的颗粒结构的铁磁性层5,含有钴(Co)或Co合金的第1层和含有钯(Pd)或铂(Pt)的第2层的层叠层7,和存在于铁磁性层5和层叠层7之间的衬垫层6构成。当在氩气环境中,在基板1上将铁磁性层5溅射成膜后,在氩气环境中,用比铁磁性层5成膜时的气压低的气压将层叠层7溅射成膜。
  • 垂直记录及其制造方法
  • [发明专利]垂直磁记录盘以及其制造方法-CN200580021380.6有效
  • 园部义明;梅泽祯一郎;鹰巢力 - HOYA株式会社
  • 2005-06-29 - 2007-06-20 - G11B5/66
  • 提供可以通过不引起DC噪声的增大、热稳定性的劣化、记录能力的劣化而提高高密度记录时的S/N比的方式有助于高记录密度化的垂直磁记录盘以及其制造方法。它是在基板1上至少具备磁记录层,并用于垂直磁记录的磁盘10,磁记录层由在含有钴(Co)的晶粒之间含有硅(Si)或硅(Si)的氧化物的颗粒结构的铁磁性层5,含有钴(Co)或Co合金的第1层和含有钯(Pd)或铂(Pt)的第2层的层叠层7,和存在于铁磁性层5和层叠层7之间的衬垫层6构成。当在氩气环境中,在基板1上将铁磁性层5溅射成膜后,在氩气环境中,用比铁磁性层5成膜时的气压低的气压将层叠层7溅射成膜。
  • 垂直记录及其制造方法

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