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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]导电氧化层的沉积装置及方法-CN201610515099.8有效
发明人：朴完雨;吴芝瑛;黃秉檍;李政洛;崔时爀 -专利权人：亚威科股份有限公司
申请日： 2016-07-01 - 公布日： 2018-12-18 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供如下的导电氧化层的沉积装置及方法，包括：第一工艺腔室，与供应第一工艺气体的第一气体供应部连接，并且具有从第一电力供应部施加DC或DC脉冲电压的第一目标及与第一微波生成部连接的第一导波管；及第二工艺腔室，与供应第二工艺气体的第二气体供应部连接，并且具有从第二电力供应部施加DC或DC脉冲电压的第二目标及与第二微波生成部连接的第二导波管。所述第一微波生成部被设定为施加可将所述第一工艺气体等离子放电的功率。
工艺气体微波导电氧化层电力供应部气体供应部沉积装置工艺腔室脉冲电压导波管施加等离子放电

[发明专利]反应性溅射装置-CN201610100959.1有效
发明人：尹炳汉;吴芝瑛;黄在君 -专利权人：亚威科股份有限公司
申请日： 2016-02-24 - 公布日： 2018-07-24 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种反应性溅射装置，包括：基板搬送部，搬送基板；及工序腔室，对通过所述基板搬送部搬送的基板，执行反应性溅射工序，所述工序腔室，包括：2个以上的第1阴极模块，用于在通过所述基板搬送部搬送的基板的第1区域上蒸镀第1氧化物薄膜；及1个以上的第2阴极模块，用于在通过所述基板搬送部搬送的所述基板的第1区域中一部分之外的第2区域上蒸镀第2氧化物薄膜。
反应溅射装置

[发明专利]蒸镀装置-CN201610323551.0在审
发明人：黃秉檍;吴芝瑛;朴完雨;金钟学 -专利权人：亚威科股份有限公司
申请日： 2016-05-16 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及利用微波的蒸镀装置。根据本发明的利用微波的蒸镀装置，向照射微波的导波模块与靶材之间供应气体，来分隔设置有导波模块的腔室的区域与设置有靶材的腔室的区域。如此，抑制靶材物质向导波模块侧移动，因此抑制靶材物质蒸镀于导波模块侧。从而，防止因为靶材物质蒸镀于导波模块侧而产生的颗粒Particle)与电弧(Arcing)现象使待蒸镀于基板的膜受损，因此具有能够提高膜质量的效果。另外，由于用于去除蒸镀于导波模块的靶材物质的维护作业周期变长，因此可具有节省成本的效果。
装置

[发明专利]磁体单元和包含所述磁体单元的溅射设备-CN201410143737.9无效
发明人： 吴芝瑛;千庸焕;黄秉寿 -专利权人：亚威科股份有限公司
申请日： 2014-04-10 - 公布日： 2014-10-29 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种磁体单元，包含至少一个磁体单元，所述至少一个磁体单元分别包含第一磁体和与所述第一磁体分开且设置在所述第一磁体外部的第二磁体，其中所述第一磁体和所述第二磁体具有彼此不同的极性，且所述磁体单元具有约1∶0.5到约1∶2的所述第一磁体与所述第二磁体之间产生的跑道的宽度与所述跑道与邻近磁场的另一跑道之间的距离的比率；且提供一种包含所述磁体单元的溅射设备。
磁体单元包含溅射设备

[发明专利]磁体单元和包含所述磁体单元的溅射设备-CN201410143705.9无效
发明人： 吴芝瑛;千庸焕 -专利权人：亚威科股份有限公司
申请日： 2014-04-10 - 公布日： 2014-10-29 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种磁体单元，包含：卡箍；第一磁体，经设置以在所述卡箍上具有直线形状；以及第二磁体，设置在所述卡箍上以围绕所述第一磁体，其中所述第一磁体与所述第二磁体之间的间隔和角度中的至少一个在至少两个区域中不同；且提供一种包含所述磁体单元的溅射设备。
磁体单元包含溅射设备

[发明专利]基板处理装置及其真空形成方法-CN201010532704.5无效
发明人： 吴芝瑛;李仁河;朴完雨;黄在君 -专利权人：亚威科股份有限公司
申请日： 2010-10-29 - 公布日： 2011-06-08 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理装置，包括：多个工作线，其分别包括设置于真空腔体与空气之间的第1预真空腔体及第2预真空腔体；泵部，用于形成该第1预真空腔体及第2预真空腔体内部的真空状态；及，平衡阀，其设置于该第1预真空腔体与第2预真空腔体之间，用于均化该第1预真空腔体与该第2预真空腔体之间的真空度，该基板处理装置可以通过缩短预真空腔体的真空形成时间来缩短整个工程时间，并可以防止在预真空腔体的真空及大气压状态转换过程中基板受损的现象。
处理装置及其真空形成方法

[发明专利]磁石单元及包括其的喷镀装置-CN201010532693.0无效
发明人： 吴芝瑛;李仁河;朴完雨;黄在君 -专利权人：亚威科股份有限公司
申请日： 2010-10-29 - 公布日： 2011-06-08 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种磁石单元及包括其的喷镀装置，该磁石单元包括至少一个中央磁石和围绕该中央磁石周边的至少一个周边磁石，该中央磁石及该周边磁石中至少一个磁石在该中央磁石的长度方向或者在垂直于该长度方向的方向上往返移动。
磁石单元包括装置

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