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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]光掩模图案的校正方法-CN200710105045.5有效
发明人： 吴得鸿;杨春晖;黄胜元;黄家纬;蔡佩儒 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2007-05-22 - 公布日： 2008-11-26 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：一种光掩模图案的校正方法，对布局图案中的接触窗或管洞所在的布局区域，进行聚焦曝光矩阵与叠对变异的验证以产生一提示信息，并根据提示信息来修正光掩模中的布局图案以避免接触窗或管洞外露于金属层、多晶硅层或扩散层的情况发生。
光掩模图案校正方法

[发明专利]形成光致抗蚀剂图案的方法-CN200510097897.5无效
发明人： 吴得鸿;张圣岳;吴承翰 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2005-09-02 - 公布日： 2007-03-07 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种于衬底上形成光致抗蚀剂图案的方法，本方法包括于衬底上形成光致抗蚀剂层，提供光掩模且光掩模上包括主要图案以及辅助图案，进行曝光步骤，使主要图案及辅助图案转移至光致抗蚀剂层中，分别形成相对应的光致抗蚀剂主要图案和光致抗蚀剂辅助图案，以及进行紧缩步骤，去除衬底上的光致抗蚀剂辅助图案并缩小光致抗蚀剂主要图案的线宽，使光学接近效应减低，工艺窗口加大。
形成光致抗蚀剂图案方法

[发明专利]缩小关键尺寸的方法-CN200610059186.3无效
发明人：张圣岳;吴得鸿;黄国俊 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2006-03-15 - 公布日： 2006-11-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种缩小关键尺寸的方法，其是对于光致抗蚀剂层进行一曝光工艺以及一显影工艺，其特征在于：于曝光工艺与显影工艺之间进行一光学修剪曝光工艺或是于曝光工艺之前，先进行此一光学修剪曝光工艺。其中光学修剪曝光工艺是采用一全开光掩模对光致抗蚀剂层进行曝光，而全开光掩模的透过率大于0。由于本发明采用光学修剪曝光工艺，可以大幅地缩小光致抗蚀剂层的关键尺寸，且不会影响光致抗蚀剂层的性质，因此有利于后续的工艺。
缩小关键尺寸方法

[发明专利]光致抗蚀剂图案的形成方法以及修整方法-CN200410082014.9无效
发明人： 吴得鸿;张圣岳;黄正惠 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2004-12-22 - 公布日： 2006-07-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种形成光致抗蚀剂图案的方法，此方法是首先在衬底上形成光致抗蚀剂层，之后对光致抗蚀剂层进行一曝光工艺。接着，进行一显影工艺以使光致抗蚀剂层形成一图案化光致抗蚀剂层。然后，对此图案化光致抗蚀剂层进行多重修整步骤，其中此多重修整步骤包括进行至少一次的碱性溶液处理步骤以及/或是至少一次的中性溶液处理步骤，以改善光致抗蚀剂图案的轮廓粗糙度、特征尺寸均匀度以及特征尺寸缩小化。
光致抗蚀剂图案形成方法以及修整

[发明专利]图案化光阻层的形成方法及其制造设备-CN200410006619.X无效
发明人：林陵杰;吴得鸿;黄国俊 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2004-02-25 - 公布日： 2005-08-31 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种图案化光阻层的形成方法，适于形成与一膜层对准的一图案化光阻层，此图案化光阻层的形成方法包括下列步骤：(a)在一基材上形成一光阻层；(b)对光阻层进行曝光；(c)测量光阻层的曝光位置与上述膜层之间的重叠误差；(d)根据重叠误差判断光阻层的曝光位置是否适当；以及(e)当光阻层的曝光位置适当时，对光阻层进行显影。另外，还提出一种图案化光阻层的制造设备，其利用上述的形成方法来实时反馈重叠测量结果，以减少图案化光阻层的制造时间以及再加工时间。
图案化光阻层形成方法及其制造设备

[发明专利]叠合标记及其应用方法-CN02140130.6有效
发明人： 吴得鸿;谢荣裕;张秀满 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2002-07-02 - 公布日： 2003-06-04 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种可同时侦测对准精度、焦距值、水平与像差的叠合标记及其应用方法，在曝光区域的角落形成包括四个内测试条与四个外测试条的叠合标记，其中内测试条还分为锯齿状部位与条状部位；而外测试条则为前层已蚀刻的条状图案。其配置为内测试条与外测试条均围成矩形，每一个测试条为矩形的一边，且两两不相连，其中，每两个对边的内测试条的锯齿状部位具相同的相对位置；外测试条围成的矩形包围内测试条围成的矩形外。进行侦测时，会有测试束扫描过分为两区域的扫描区域，其一包括外测试条与内测试条锯齿状部位；另一包括外测试条与内测试条条状部位。
叠合标记及其应用方法

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