专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种锂离子电池用球形钛酸锂的制备方法-CN200910070696.4有效
  • 徐宁;吕菲;邢彦博;吴孟涛 - 天津巴莫科技股份有限公司
  • 2009-09-29 - 2010-03-03 - C01G23/00
  • 一种锂离子电池用球形钛酸锂的制备方法。其是以锂盐和二氧化钛作为原料经过二次焙烧而制得具有球形外部结构的钛酸锂颗粒。本发明提供的锂离子电池用球形钛酸锂的制备方法是利用控制制备过程中前驱体的粒度、O/W体系的油水比例、乳化剂种类和用量的选择以及二次烧结温度时间等因素的方法而制备出具有球形外部结构的钛酸锂颗粒,由于球形钛酸锂能够避免一次颗粒的团聚现象,因此流动性及可加工性能好,振实密度高,并且可以有效提高一次颗粒与导电剂以及电解液的接触面积,因此由其制成的电池循环内阻低,所以能够提高材料的循环性能和倍率性能。另外,球形外部结构还易于实现掺杂或包覆碳,以提高产品的导电性,因此应用价值高。
  • 一种锂离子电池球形钛酸锂制备方法
  • [发明专利]一种提供子任务向导信息的方法及装置-CN200810091117.X有效
  • 杨瑞;李智昊;吕菲 - 西门子公司
  • 2008-04-02 - 2009-10-07 - G06F9/44
  • 本发明公开了一种提供子任务向导信息的方法,包括:在一项任务启动时,确定该项任务的子任务与子任务向导信息的对应关系,并提供用户界面;然后,根据用户在用户界面中选择的子任务,产生包含所述子任务的标识的指示;最后,根据所述指示中的标识,提供相应子任务的子任务向导信息。本发明还公开了一种提供子任务向导信息的装置,包括:向导模块和用户界面模块。将本发明技术方案应用于软件产品中,能够提高用户使用软件的便捷程度,并能够为用户提供一个全局观,使用户明了当前任务的所有子任务、当前子任务与其他子任务的上下文关系。
  • 一种提供任务向导信息方法装置
  • [发明专利]锂离子电池用碳包覆型钛酸锂的制备方法-CN200810152012.0无效
  • 徐宁;吕菲;李磊;吴孟涛 - 天津巴莫科技股份有限公司
  • 2008-10-06 - 2009-03-04 - H01M4/04
  • 本发明公开了一种锂离子电池用碳包覆型钛酸锂的制备方法,包括:1)按比例称取锂盐和二氧化钛,加入分散剂,球磨法充分混合,然后真空烘干制得前驱体;2)将制得的前驱体在750~1000℃下焙烧8~20h,制得钛酸锂;3)通过浸渍蒸干法将碳源物质包覆在制得的钛酸锂表面;4)将包覆有碳源物质的钛酸锂置于管式炉中,在惰性气体保护下,在750~1000℃下焙烧0.5~5h,得到碳包覆型钛酸锂。本发明的制备方法通过碳包覆材料的热解反应在钛酸锂表面形成化学包覆碳,这种包覆碳与钛酸锂材料表面接触更牢固紧密,从而大大改善了材料的电子导电能力,有效提高了材料的倍率充放电性能。
  • 锂离子电池用碳包覆型钛酸锂制备方法
  • [发明专利]一种机械化学抛光方法-CN200410096844.7无效
  • 徐永宽;刘春香;杨洪星;吕菲 - 中国电子科技集团公司第四十六研究所
  • 2004-12-08 - 2006-06-14 - C23F3/00
  • 本发明公开了一种机械化学抛光方法。该方法包括以下步骤:(1)将晶片放在抛光机上进行常规机械化学抛光,包括初试轻压和重压阶段;(2)在重压抛光结束后进入最终轻压阶段,停止抛光液供给,供给一定流量的清洗溶液,直到抛光结束。所用清洗溶液为水溶液,溶剂包含表面活性剂,浓度最好控制在10ppm到20%之间。清洗溶液还可包含pH值调节剂或者氧化剂,各成分的浓度都控制在10ppm到20%之间为好。清洗溶液可减小抛光布与晶片的摩擦力,从而减少晶片飞片现象,也降低了出现晶片划道的几率。本发明还提高晶片的亲水性,去除抛光液颗粒更有效,并有利于后续清洗效果。
  • 一种机械化学抛光方法
  • [发明专利]一种砷化镓晶片清洗方法-CN200410096843.2无效
  • 徐永宽;杨洪星;刘春香;吕菲 - 中国电子科技集团公司第四十六研究所
  • 2004-12-08 - 2006-06-14 - H01L21/302
  • 本发明公开了一种砷化镓晶片清洗方法,包括以下基本步骤:(1)采用第一溶液进行第一次兆声清洗;(2)第一次漂洗;(3)第一次干燥处理;(4)用紫外臭氧清洗机清洗;(5)采用第二溶液进行第二次兆声清洗;(6)第二次漂洗;(7)第二次干燥处理。第一溶液为碱性水溶液,对砷化镓有轻微腐蚀作用;第二溶液为酸性水溶液,对砷化镓的氧化层有腐蚀作用。本发明通过步骤(1)可去除大部分颗粒,通过步骤(4)可将有机物基本去除,通过步骤(5)可彻底将吸附的颗粒和金属离子去除,并在砷化镓表面形成富砷表面,可以直接进行外延生长。采用本发明方法清洗砷化镓抛光片,不会出现破坏抛光表面的现象。
  • 一种砷化镓晶片清洗方法

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