专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]硅基电光调制器的补偿掺杂方法及其硅基电光调制器-CN202211396933.8在审
  • 史弘康;方舟;李磊;张晓波;陈泽 - 希烽光电科技(南京)有限公司
  • 2022-11-09 - 2023-02-03 - G02B6/134
  • 本发明公开了一种硅基电光调制器的补偿掺杂方法,使用III‑V族元素离子垂直注入的方法进行主掺杂构造P‑N结,通过斜向离子注入的方式进行调制区补偿掺杂;本发明还公开一种硅基电光调制器,包括依次堆叠的硅衬底、隐埋氧化硅层、顶层硅波导调制区和顶层覆盖氧化硅层,顶层硅波导调制区的硅波导沿第一方向依次包括n型重掺杂区、n型主掺杂区、p型主掺杂区和p型重掺杂区,其中补偿掺杂后形成的n‑型轻掺杂区和p‑型轻掺杂区分别位于波导脊区两侧上方。优点,波导调制区补偿掺杂降低此类硅基电光调制器的插入损耗,且不会明显影响调制器的调制效率;斜向离子注入显著减少制作掩膜和对准校正的次数,降低制作成本,减小对准误差,有助于提高器件的良率。
  • 电光调制器补偿掺杂方法及其

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