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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]暂存与回流框架基板系统-CN202220051615.7有效
  • 周坤麟 - 叙丰企业股份有限公司
  • 2022-01-10 - 2022-06-14 - B65G47/90
  • 本实用新型提供一种暂存与回流框架基板系统，其包含基板框架、基板装卸站、第一输送单元以及第二输送单元。基板框架适于装载基板。基板装卸站包括机械手臂、出入料单元以及回料单元，基板框架适于结合于出入料单元及回料单元，机械手臂适于将基板放入或卸除于基板框架。第一输送单元连接于出入料单元且适于输送基板框架。第二输送单元连接于第一输送单元与回料单元之间，以将基板框架输送回回料单元。借此在基板装卸站装卸基板。
  • 暂存回流框架系统
  • [实用新型]双流体系统-CN202220104432.7有效
  • 周坤麟 - 叙丰企业股份有限公司
  • 2022-01-14 - 2022-06-03 - H05K3/00
  • 本实用新型提供一种双流体系统，其包含管路框架、供气管路结构、多个喷嘴以及多个液体管路。供气管路结构固定于管路框架并用于引入气体。喷嘴连接于供气管路结构。液体管路分别连接于喷嘴，以将液体提供给喷嘴，借此使喷嘴喷洒出混合有液体与气体的喷雾。本实用新型的双流体系统，因可喷洒出混合有液体与气体的喷雾，所以可在进行蚀刻显影时充分散布到预计要被清除光刻胶上，且在清洗时充分渗透到基板的表面上所残留的光刻胶，以尽量将光刻胶清除，从而避免对于基板的电性产生影响。
  • 双流体系
  • [实用新型]基板挂篮检测机台-CN202121227032.7有效
  • 周坤麟 - 叙丰企业股份有限公司
  • 2021-06-02 - 2021-11-12 - G01M13/00
  • 本实用新型公开一种基板挂篮检测机台，包含挂篮输送平台、挂篮盖体检测部、挂篮盖体开合部、挂篮框体检测部及外框架。挂篮输送平台具有挂篮输送通道，挂篮盖体检测部位于挂篮输送通道的上游，挂篮盖体检测部具有两个第一挂篮位置检测单元及两个挂篮盖体盖合检测单元，挂篮盖体开合部位于挂篮输送通道的中游，挂篮盖体开合部具有两个挂篮盖体开合单元，挂篮框体检测部位于挂篮输送通道的下游，挂篮框体检测部具有基板容置槽检测单元及三个第二挂篮位置检测单元，挂篮输送平台、挂篮盖体检测部、挂篮盖体开合部及挂篮框体检测部设置于外框架。本实用新型的基板挂篮检测机台用于提升基板后续制程的合格率及效率。
  • 挂篮检测机台
  • [实用新型]插框设备-CN202120267827.4有效
  • 周坤麟 - 叙丰企业股份有限公司
  • 2021-01-29 - 2021-11-09 - H05K3/00
  • 本实用新型提供一种插框设备，用于将多个基板插入容置框中，插框设备包括：输送轨道、容置框、升降插框机构及控制机构，容置框包括框架、两个侧插槽构件及多个底插槽构件，底插槽构件呈长条状，平行设置于框架的底面，升降插框机构包括动力构件、插框载件及至少一个夹爪，动力构件动力使插框载件垂直往复移动，夹爪设置于插框载件的底部并位置对应于底插槽构件之间的空隙，控制机构控制控制输送轨道输送容置框至预定位置，以及控制动力构件垂直往复移动插框载件。本申请的插框设备解决了现有技术中基板因翘曲而插框失败的问题。
  • 设备
  • [实用新型]垂直框架清洗设备-CN202120649232.5有效
  • 周坤麟 - 叙丰企业股份有限公司
  • 2021-03-30 - 2021-10-15 - H05K3/00
  • 本实用新型提供一种垂直框架清洗设备，包括框架、入料模块、清洗模块、暂存模块以及出料模块。框架包括架体以及固持部；入料模块包括第一基板提取单元、第一开框机构以及第一输送单元；清洗模块包括出液单元、干燥单元以及第二输送单元，出液单元包括多个出液件，干燥单元包括多个干燥件，其中出液单元以及干燥单元配置于框架移动路径的两侧；暂存模块包括多个暂存部、滑轨、活动部以及第三输送单元，滑轨配置于暂存部之间，活动部滑设于滑轨上；出料模块包括第二基板提取单元、第二开框机构以及第四输送单元。
  • 垂直框架清洗设备
  • [实用新型]基板制程用的框架-CN202020237707.5有效
  • 周坤麟 - 叙丰企业股份有限公司
  • 2020-03-02 - 2020-10-30 - B25J15/08
  • 本实用新型提供一种基板制程用的框架，其包括两个夹具，呈相对向设置；四个动力机构，夹具的两端分别设有动力机构，动力机构包括壳体、齿条、齿轮、弹性组件及驱动组件，齿条与齿轮相互啮合且设于壳体中，齿轮的一侧连接夹具的一端，弹性组件抵顶于齿条与壳体之间，驱动组件设于齿轮的另一侧或齿条，驱动组件露出壳体外；两个第一连杆，呈相对向设置，第一连杆的两端分别设有动力机构，第一连杆位于两个夹具之间。由此，本实用新型可作为基板的传输使用，且由动力机构驱动夹具，使夹具稳固夹持基板或释放基板，而达到便于传输基板至后续制程的功效。
  • 基板制程用框架
  • [实用新型]薄膜卸除装置-CN201921035181.6有效
  • 周坤麟 - 叙丰企业股份有限公司
  • 2019-07-02 - 2020-03-13 - B65B69/00
  • 本申请提供一种薄膜卸除装置，其包含：第一驱动机构、第二驱动机构、第一升降机构与第二升降机构、上吸附平台与下吸附平台。所述第一驱动机构连接所述第一升降机构，所述第二驱动机构连接所述第二升降机构。所述第一升降机构枢接于所述上吸附平台的第一侧。所述第二升降机构横向滑动及枢接于所述上吸附平台的第二侧。所述下吸附平台位于所述上吸附平台的下方。本申请的薄膜卸除装置可先使薄膜的一侧与基板的一侧分离再完全取下整片薄膜，以降低薄膜与基板分离的困难度以及损坏薄膜的风险。
  • 薄膜卸除装置
  • [实用新型]承载于承载板的可挠性基板的剥离装置的快拆模块-CN201721495564.2有效
  • 周坤麟 - 叙丰企业股份有限公司
  • 2017-11-10 - 2018-05-18 - H05K3/00
  • 本实用新型提供一种承载于承载板的可挠性基板的剥离装置的快拆模块，包含固定座、剥离组件及吸附组件；固定座具有可拆式固定单元，且固定座具有固定座通气孔，剥离组件设于固定座的底面，且与固定座相互连通，吸附组件设于剥离组件的底面，且与剥离组件相互连通。借此，可使固定座以可拆式固定单元与相关的抽气设备相互结合进行使用，并于剥离不同尺寸的可挠性基板时，由可拆式固定单元将快拆模块加以卸除，以便进行快拆模块的拆换，而达到易于卸除、便于拆换以及节省设备成本的功效。
  • 承载可挠性基板剥离装置模块
  • [实用新型]透明薄板的清洁装置-CN201720546034.X有效
  • 周坤麟 - 叙丰企业股份有限公司
  • 2017-05-17 - 2017-12-12 - B08B1/02
  • 本实用新型公开了一种透明薄板的清洁装置，包含具有第一浸泡槽、第二浸泡槽、第一沾取轮、第二沾取轮、清洁轮及夹制轮的清洁单元、输送单元以及至少一个吸水单元；分别设于该清洁单元两侧的输送单元；以及设于该清洁单元至少一侧的吸水单元。由此，可使第一沾取轮沾取第一浸泡槽中的清洁液至清洁轮，而当透明薄板由一侧的输送单元通过清洁轮与夹制轮输送至另一侧的输送单元时，以清洁轮对透明薄板进行清洁的动作，并以第二沾取轮配合第二浸泡槽对使用后的清洁轮进行清洁，且由吸水单元吸取清洁过程中喷溅的液体，而达到快速清洁以及提升清洁质量的功效。
  • 透明薄板清洁装置
  • [发明专利]曝光设备的光源模块-CN201410383379.9在审
  • 周坤麟;何立克 - 叙丰企业股份有限公司
  • 2014-08-06 - 2016-02-17 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种曝光设备的光源模块，包含基座、第一透镜、光源单元、第二透镜及第一调整件或第二调整件，基座具有容置槽；第一透镜设置于基座的容置槽的开口上；光源单元设置于容置槽的底面，光源单元具有电路板及设置于电路板上的LED；第二透镜设置于LED上，第二透镜的面积小于第一透镜；第一调整件连接第一透镜与基座，第二调整件连接第二透镜与基座；其中，光源单元的LED发出的光线经由第二透镜折射后再被该第一透镜折射而呈平行光射出，进而使曝光平面上的曝光区域接收到均匀分布的光强度。
  • 曝光设备光源模块
  • [发明专利]感光基板的曝光方法-CN201410382647.5在审
  • 周坤麟;何立克 - 叙丰企业股份有限公司
  • 2014-08-06 - 2016-02-17 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种感光基板的曝光方法，首先提供平面发光源，其具有至少三个发光体；之后提供底片，面向该平面发光源的照射面；接着提供感光基板，贴合该底片且面向该照射面，该底片位于该照射面与该感光基板之间；之后使该平面发光源在其所在平面相对于该底片及该感光基板做平移，或使该底片及该感光基板在其所在平面相对于该平面发光源做平移。借此，本发明的感光基板的曝光方法可使感光基板均匀曝光。
  • 感光曝光方法
  • [实用新型]夹持式轨道机构及载物设备-CN201520618385.8有效
  • 周坤麟 - 叙丰企业股份有限公司
  • 2015-08-17 - 2015-12-16 - B65G35/06
  • 本实用新型公开了一种夹持式轨道机构及载物设备。该夹持式轨道机构包括一导轨及至少一滚轮组。该导轨具有一凸型导引部，且该凸型导引部具有一导引部中心轴；及该滚轮组具有一第一滚轮及一第二滚轮，该导轨的凸型导引部被夹持于该第一滚轮及该第二滚轮之间，使该滚轮组于该导轨上沿该导引部中心轴滚动。借此，通过将该导轨的凸型导引部夹持于该第一滚轮及该第二滚轮之间的设计，纵使该夹持式轨道机构的外部部件具有因制作所产生的公差或是组装瑕疵等问题，仍可达到使该载物设备顺利移动运作的功效。
  • 夹持轨道机构设备
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