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[实用新型]一种基于射频匹配器电容校准的蚀刻设备-CN202221590381.X有效
发明人：徐翊翔;段学超;卜凡稳;杨方;廖启程 -专利权人：福建晶安光电有限公司
申请日： 2022-06-23 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型提供一种基于射频匹配器电容校准的蚀刻设备，包括：制程腔体、射频电源、第一匹配器和交互模块。制程腔体包括第一线圈，第一线圈下侧设有单向流通的气体分流盘；气体分流盘下侧是蚀刻仓，由气体分流盘将蚀刻气体引导至蚀刻仓并等离子化，蚀刻仓内设有镂空载盘用于托载衬底片并放置在载台上，用固定组件固定；制程腔体还设有仓门和真空角阀。第一匹配器连接射频电源，为第一线圈提供阻抗匹配，第一匹配器内包括多个电容和数据采集模块。交互模块连接第一匹配器，交互模块屏幕设有多个预设电容参数显示区块和多个实测电容参数显示区块，并连接内置工控机。本实用新型能实时监测射频匹配器电容容量变化、检测电容容量规格以便及时校正。
一种基于射频配器电容校准蚀刻设备

[实用新型]用于改善蚀刻中心片蚀刻率的线圈高度调整装置-CN202222052257.4有效
发明人： 卜凡稳;徐翊翔;段学超;杨方 -专利权人：福建晶安光电有限公司
申请日： 2022-08-04 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于改善蚀刻中心片蚀刻率的线圈高度调整装置，所述线圈高度调整装置包括：内环柱，用于固定在蚀刻机的匹配器上；外环柱，套置在所述内环柱的外部，且所述外环柱与所述内环柱之间可进行电信号传输；升降调节组件，设置在所述内环柱和所述外环柱之间，所述升降调节组件用于使所述外环柱沿所述内环柱的轴向移动，所述升降调节组件与蚀刻机的内线圈连接，且所述内线圈与所述外环柱同步移动。该线圈高度调整装置结构简单，且可方便的调节蚀刻机的内线圈的高度。
用于改善蚀刻中心线圈高度调整装置