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- [发明专利]一种低温等离子体处理装置及方法-CN201310439012.X有效
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何祝兵;王春柱;苏奇聪
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南方科技大学
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2013-09-24
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2013-12-18
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H05H1/00
- 本发明实施例公开了一种低温等离子体处理装置及方法,其中,一种等离子体处理装置包括:进行等离子体反应的反应室,所述反应室内侧设置有第一电极板和第二电极板,所述第一电极板与所述反应室外壳绝缘,所述第二电极板与所述反应室外壳一起接地;所述反应室设置有进气口,反应室与第一电极板之间设有气体分配器,工作气体通过所述进气口经过所述气体分配器进入所述反应室,所述反应室的两侧设置有反应后气体的出气口;至少两个射频源通过相应的射频源匹配网络,利用馈入元件与第一电极板上的射频馈入点连接,所述第一电极板上的射频馈入点至少为两个。采用本发明,减少驻波和趋肤效应,实现解耦,独立控制等离子体的密度和鞘层电压,简化了传统的射频馈入结构。
- 一种低温等离子体处理装置方法
- [发明专利]一种真空镀膜系统及其真空闸门装置-CN201310422166.8有效
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何祝兵;苏奇聪;王春柱
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南方科技大学
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2013-09-16
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2013-12-18
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C23C14/56
- 本发明公开了一种真空镀膜系统及其真空闸门装置。真空镀膜系统包括真空闸门装置及真空闸门板,真空闸门装置包括支撑座、弹性密封机构、双摇杆机构及旋转驱动件;弹性密封机构包括固定件、金属密封板及弹性组件;双摇杆机构连接在弹性密封机构与旋转驱动件之间。利用双摇杆机构实现弹性密封机构的弧线运动,结构简单,占用空间小,且便于安装及维护;采用简单的旋转驱动装置即可实现真空闸门装置的致动,金属密封板与真空闸门板面面贴合实现密封,提高密封性能;金属密封板具备良好的耐腐蚀和耐高温性能;由于弹性组件的弹性作用与金属密封板的配合具备一定柔性变形补偿作用,从而降低了真空闸门板及密封板的机械精度,降低加工及装配难度。
- 一种真空镀膜系统及其真空闸门装置
- [实用新型]一种智能公交站台-CN201320321000.2有效
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何祝兵;王春柱;苏奇聪;权敦航;周子明
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南方科技大学
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2013-06-05
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2013-11-13
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H02J7/00
- 本实用新型公开一种智能公交站台,其包括:太阳能电池板、支架、中央控制器及信息交互装置,太阳能电池板设置于所述支架上方;中央控制器设置于太阳能电池板下方,中央控制器包括:用于进行电流逆变的并网逆变器、用于储存电能的蓄电池、用于控制所述蓄电池充放电的光伏控制器,用于安装智能电表并从市电电网获得电能的配电柜;信息交互装置镶嵌于所述支架内,其包括显示屏以及进行数据处理收集用户信息的处理器。本实用新型智能公交站台,能够利用太阳能电池板发电,并可将多余的电能储存在蓄电池中或者并入市电电网,节能、环保;同时,该智能公交站台还具有信息交互装置,为用户生活和政府管理提供便利。
- 一种智能公交站台
- [实用新型]一种PECVD装置-CN201320298474.X有效
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何祝兵;王春柱;苏奇聪
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南方科技大学
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2013-05-28
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2013-11-13
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C23C16/513
- 本实用新型公开了一种PECVD装置,包括工艺腔体,以及均设置在所述工艺腔体内的承载架、冷却均热板及至少一个反应室;所述均热为多个,沿竖直向呈层式排布安装至所述承载架;所述反应室水平设置在相邻两个均热之间,且各所述反应室的上下两侧均设置有所述均热。各反应室的上下两侧均设置有均热,通过均热的冷却均热和隔离作用,消除各反应室之间的热量辐射干扰,保证各反应室温度的一致性;同时冷却加热板具有冷却的作用的,避免工艺腔体温度过高,保护工艺腔体的密封结构,又使工艺腔体的温度不致过低,避免浪费加热的能源。
- 一种pecvd装置
- [实用新型]一种PECVD镀膜系统-CN201320237404.3有效
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何祝兵;苏奇聪;王春柱;刘传生
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南方科技大学
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2013-05-06
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2013-11-13
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C23C16/50
- 本实用新型公开了一种PECVD镀膜系统,包括工艺系统、装卸系统及阀门机构;工艺系统包括工艺腔体及工艺反应室;工艺反应室设置在工艺腔体内;装卸系统包括装卸腔体及传输机械手;传输机械手滑动设置在装卸腔体与工艺腔体之间;阀门机构设置在工艺腔体与装卸腔体之间,用于工艺腔体与装卸腔体之间的连通或隔离,通过阀门机构使得传输机械手可以在腔体之间往复运动,同时保证了腔体之间的互相连通以及真空环境的相互独立;装卸腔体同时具备装载腔和中转传输腔的功能,能满足基片上下料以及在腔体之间相互传输的功能;由于只有两个腔体,结构更为简单,使得设备成本低,安装维护简单方便,传输结构简单便易,对机械精度要求低。
- 一种pecvd镀膜系统
- [发明专利]一种PECVD装置-CN201310203771.6有效
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何祝兵;王春柱;苏奇聪
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南方科技大学
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2013-05-28
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2013-09-04
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C23C16/513
- 本发明公开了一种PECVD装置,包括工艺腔体,以及均设置在所述工艺腔体内的承载架、冷却均热板及至少一个反应室;所述均热为多个,沿竖直向呈层式排布安装至所述承载架;所述反应室水平设置在相邻两个均热之间,且各所述反应室的上下两侧均设置有所述均热。各反应室的上下两侧均设置有均热,通过均热的冷却均热和隔离作用,消除各反应室之间的热量辐射干扰,保证各反应室温度的一致性;同时冷却加热板具有冷却的作用的,避免工艺腔体温度过高,保护工艺腔体的密封结构,又使工艺腔体的温度不致过低,避免浪费加热的能源。
- 一种pecvd装置
- [发明专利]一种PECVD镀膜系统-CN201310161928.3有效
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何祝兵;苏奇聪;王春柱;刘传生
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南方科技大学
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2013-05-06
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2013-09-04
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C23C16/44
- 本发明公开了一种PECVD镀膜系统,包括工艺系统、装卸系统及阀门机构;工艺系统包括工艺腔体及工艺反应室;工艺反应室设置在工艺腔体内;装卸系统包括装卸腔体及传输机械手;传输机械手滑动设置在装卸腔体与工艺腔体之间;阀门机构设置在工艺腔体与装卸腔体之间,用于工艺腔体与装卸腔体之间的连通或隔离,通过阀门机构使得传输机械手可以在腔体之间往复运动,同时保证了腔体之间的互相连通以及真空环境的相互独立;装卸腔体同时具备装载腔和中转传输腔的功能,能满足基片上下料以及在腔体之间相互传输的功能;由于只有两个腔体,结构更为简单,使得设备成本低,安装维护简单方便,传输结构简单便易,对机械精度要求低。
- 一种pecvd镀膜系统
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