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[发明专利]EPI中的多区域点加热-CN201880069406.1有效
发明人： 刘树坤;科吉·纳卡尼施;中川俊行;朱作明;叶祉渊;约瑟夫·M·拉内什;尼欧·谬;埃罗尔·安东尼奥·C·桑切斯;舒伯特·S·楚 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-10-04 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式大体涉及用于半导体处理的设备和方法，更具体地，涉及热处理腔室。热处理腔室包括基板支撑件、设置在基板支撑件上方或下方的第一多个加热元件、和设置在基板支撑件上方的点加热模块。点加热模块用于在处理期间对设置在基板支撑件上的基板上的冷区域提供局部加热。基板的局部加热改善了温度分布，这进而改善了沉积均匀性。
epi 中的区域加热

[发明专利]具有空间分布的气体通道的气流控制衬垫-CN202010034452.7有效
发明人：穆罕默德·图格鲁利·萨米尔;刘树坤 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-04-21 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式提供一种衬垫组件，所述衬垫组件包括多个各自分开的气体通道。所述衬垫组件能实现遍及待处理的基板上的流动参数的可保持性，这些流动参数诸如速度、密度、方向和空间位置。可利用根据本公开内容的实施方式的衬垫组件，对遍及待处理的基板上的处理气体进行特别地调整，以适用于单独的工艺。
具有空间分布气体通道气流控制衬垫

[发明专利]外延沉积腔室-CN202280007026.1在审
发明人： 刘树坤;布赖恩·海斯·伯罗斯;叶祉渊;理查德·O·柯林斯;朱恩乐;丹尼·D·王;沙尼什·奈利卡;中川敏之;阿布舍克·杜贝;阿拉·莫拉迪亚;卡蒂克·布彭德拉·仙 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2022-01-20 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： C30B25/08 文献下载
摘要：本文描述了一种处理腔室，该处理腔室包括腔室主体，此腔室主体具有设置在底板上方的顶板，其中底盘和注入器环设置在该顶板与该底板之间。上下夹环分别将上部和底板固定到位。上加热模块耦接至顶板上的上夹环。下加热模块耦接至底板下方的下夹环。
外延沉积

[发明专利]通过脉冲或轮廓点加热执行的外延（EPI）厚度调节-CN201980009926.8有效
发明人： 刘树坤;叶祉渊;朱作明;尼欧·谬;埃罗尔·安东尼奥·C·桑切斯;舒伯特·楚 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-02-12 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本文描述的实施方式提供处理腔室，该处理腔室包含：用于处理容积的外壳；外壳内的可旋转支撑件，该支撑件具有延伸到外壳外部的轴，其中该轴具有位于处理容积外部的信号特征；外壳内的能量模块，其中该轴延伸通过该能量模块、耦合到外壳的一个或多个定向能量源；及邻近该信号特征定位的一个或多个信号器，每个信号器耦合到定向能量源中的至少一个。
通过脉冲轮廓加热执行外延 epi 厚度调节

[发明专利]用于改善的热均匀性与轮廓控制的线性灯阵列-CN202310059752.4在审
发明人：布莱恩·伯罗斯;刘树坤;叶祉渊 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-10-22 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： H05B3/00 文献下载
摘要：本文提供了用于在处理腔室中使用的上反射器组件的方法和设备。在一些实施方式中，一种用于在处理腔室中使用的上反射器组件包括：反射器安装环；及上反射器板，耦接到反射器安装环，并具有上表面和下表面，其中下表面包括多个线性通道，多个线性基本彼此平行地延伸跨过下表面，且其中上反射器板包括空气冷却狭槽，空气冷却狭槽从上表面延伸到下表面。
用于改善均匀轮廓控制线性阵列

[发明专利]多层EPI腔室主体-CN202180055701.3在审
发明人： 刘树坤;叶祉渊;理查德·O·柯林斯;布赖恩·海斯·伯罗斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-11-30 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： C30B25/14 文献下载
摘要：本文所公开的设备关于用于在热沉积腔室(诸如外延沉积腔室)内使用的腔室主体设计。腔室主体为分段式腔室主体设计，并包括注入环和基座板。基座板包括基板传送通道和穿过其中设置的一个或多个排气通道。注入环包括穿过其中设置的多个气体注入通道。注入环设置在基座板的顶部分并附接到基座板。一个或多个排气通道和气体注入通道彼此相对设置。一个或多个密封密封槽形成在基座板和注入环两者中，以使注入环和基座板能够彼此以及密封处理腔室内的其他部件。
多层 epi 主体

[发明专利]通过以水平旋转运动移动束的点加热-CN202310043962.4在审
发明人： 刘树坤;中川敏行;叶祉渊 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-05-10 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式总体涉及用于半导体处理的设备和方法，更特定言之，涉及热工艺腔室。在一个或多个实施方式中，工艺腔室包含第一窗、第二窗、设置在第一窗与第二窗之间的基板支撑件，和设置在第一窗上方且经配置为经由第一窗提供辐射能量的机动可旋转辐射点加热源。
通过水平旋转运动移动加热

[发明专利]诊断服务自动化测试方法、设备及存储介质-CN202211526182.7在审
发明人：宋权龙;刘树坤;邓永光 -专利权人：深圳市航盛电子股份有限公司
申请日： 2022-11-28 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G05B23/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种诊断服务自动化测试方法、设备及存储介质，该方法包括：响应前端通过浏览器触发的诊断服务测试请求，调用对应的测试用例；根据测试用例生成测试指令；将测试指令通过PCAN工具发送给测试机，由测试机执行与测试用例对应的操作；获取测试机返回的响应数据；根据响应数据得到诊断服务测试结果。本发明测试工作均通过浏览器就能完成，界面简单，容易操作，编写测试用例效率高，且便于管理，复用性高，支持不同项目测试，解决了诊断测试19服务时的不同场景需求，极大的提升了UDS诊断测试的效率和准确性。
诊断服务自动化测试方法设备存储介质

[发明专利]用于EPI腔室的原位温度映射-CN202180031822.4在审
发明人：阿拉·莫拉迪亚;朱作明;帕特里夏·M·刘;刘树坤;芙洛拉·芳-松·张;朱恩乐;叶祉渊 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-08-17 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供用于在外延腔室中处理半导体基板的方法和设备，所述方法和设备被构造成用以针对基板和内部腔室部件两者来映射温度分布。在一个实施方式中，半导体处理腔室具有主体，该主体具有界定内部空间的天花板和下部分。基板支撑件设置于该内部空间中。安装板在内部空间外部耦接至天花板。移动组件耦接至安装板。传感器耦接至该移动组件并且相对于该天花板是可移动的。该传感器被构造成用以检测该内部空间中的温度位置。
用于 epi 原位温度映射

[发明专利]热批处理腔室-CN202180032885.1在审
发明人：阿德尔·乔治·塔诺;舒伯特·S·楚;刘树坤;卡蒂克·布彭德拉·仙;朱作明;阿拉·莫拉迪亚;苏拉吉特·库马尔;斯里尼瓦萨·兰加帕;秦嘉政;维希瓦·库马尔·帕迪 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-07-12 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供批处理腔室及在批处理腔室中使用的处理配件。处理配件包括外衬垫、内衬垫、及顶板与底板，外衬垫具有上外衬垫与下外衬垫，顶板与底板附接于内衬垫的内表面。顶板与底板和内衬垫一起形成围护件，并且在围护件内设置盒。包括隔板的盒被构造成用以在隔板上保存多个基板。内衬垫具有入口开口与出口开口，入口开口设置在内衬垫的注入侧上并且被构造成用以与处理腔室的气体注入组件流体连通，出口开口设置在内衬垫的排出侧上并且被构造成用以与处理腔室的排气组件流体连通。围护件的内表面包括被构造成用以引起在围护件内的黑体辐射的材料。
批处理

[发明专利]具有全晶片激光加热的外延腔室-CN202180033318.8在审
发明人： 刘树坤;阿德尔·乔治·塔诺;帕特里克·C·杰尼斯;叶祉渊 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-08-11 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：公开一种用于在热处理腔室内加热基板的设备。该设备包括腔室主体、气体进口、气体出口、上窗、下窗、基板支撑件和上部加热装置。上部加热装置是激光加热装置，并且包括一个或多个激光组件。激光组件包括光源、冷却板、光纤和照射窗。
具有晶片激光加热外延

[发明专利]在批次热处理腔室中的晶片边缘温度校正-CN202180032252.0在审
发明人：卡蒂克·布彭德拉·仙;舒伯特·S·楚;阿德尔·乔治·塔诺;阿拉·莫拉迪亚;尼欧·O·谬;苏拉吉特·库马尔;朱作明;布赖恩·海斯·伯罗斯;维希瓦·库马尔·帕迪;刘树坤;斯里尼瓦萨·兰加帕 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-07-16 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于处理腔室中的处理套组，该处理套组包括：外衬套；内衬套，被配置为与处理腔室的气体注入组件及气体排放组件流体连通；第一环形反射器，设置在该外衬套与该内衬套之间；顶板及底板，附接于该内衬套的内表面，该顶板及底板与内衬套一起形成外壳；盒匣，设置在外壳之内，该盒匣包含被配置为在其上保持多个基板的多个搁架；及边缘温度校正元件，设置在该内衬套与第一环形反射器之间。
批次热处理中的晶片边缘温度校正

[实用新型]一种便于清渣的锅炉出渣清理装置-CN202221505207.0有效
发明人： 刘树坤 -专利权人：阿克苏阳光热力有限公司
申请日： 2022-06-16 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： F23J1/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种便于清渣的锅炉出渣清理装置，属于锅炉技术领域，包括底座，所述底座的上表面固定放置有收集箱，所述底座上表面位于收集箱的一侧固定安装有支架，所述支架的一侧转动安装有竖向螺杆，所述支架的顶部固定安装有用于驱动竖向螺杆转动的第一电机，所述竖向螺杆的表面螺纹连接有横架，所述横架的底部转动安装有横向螺杆，所述横架底部的一端固定安装有用于驱动横向螺杆转动的第二电机，所述横向螺杆的表面螺纹安装有推板。本申请技术方案通过收集箱、横架、横向螺杆、第二电机和推板的设置，可使推板将锅炉内的灰渣推出，落入到收集箱内进行收集，实现灰渣的快速清理，省时省力，提高清理效率。
一种便于锅炉清理装置

[实用新型]一种水冷式电动机外壳结构分析测试设备-CN202221417602.3有效
发明人：陈友鹏;陈洁;邓汝荣;吴天明;刘树坤;曾诗琪;张耀城;陈嘉杰;张杨浩 -专利权人：广州南洋理工职业学院
申请日： 2022-06-08 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： G01N3/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种水冷式电动机外壳结构分析测试设备，包括底板与顶板，所述底板的上表面设置有放置台；本实用需要对水冷式电动机外壳进行压力承受度检测时，将水冷式电动机外壳放置在放置台上，通过操作控制台将液压推杆带动装夹机构向下移动，当弧形支撑板接触电动机外壳时，由于向下的压力弧形支撑板上端的支撑杆带动齿排转动，齿排带动第一弧形板向里侧转动，由于第一弧形板的两端与第一转动轴的距离差距较大，第一弧形板的上端移动距离较大，此时第一弧形板上的第二转动轴推动钢索，钢索拉动两组第二弧形板夹紧水冷电机外壳，至此实现对水冷式电动机的装夹，省略了工作人员对电机外壳的手动固定。
一种水冷电动机外壳结构分析测试设备

[实用新型]一种矿冶炉高效增温装置-CN202220303131.7有效
发明人： 刘树坤 -专利权人： 刘树坤
申请日： 2022-02-15 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： C21B13/00 文献下载
摘要：一种矿冶炉高效增温装置，包括：炉体，其特征在于，炉体两侧壁上均固定安装有支撑架，每个支撑架顶端和底部均固定安装有风机，风机的输出端设有移动机构，每个支撑架的内部均滑动连接有两个活动架，每个活动架，第一转动杆的底部贯穿两个活动架，第一转动杆上设有调节机构。本实用新型的有益效果是：送风效率高，使炉体内的温度能更快达到目标温度，提高工作效率，送风管的移动使用机械结构驱动，节省人力、操作方便，加大了送风过程的安全性。
一种矿冶高效增温装置

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