专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]具有高密度存储电容器的晶体管的制造-CN201580027420.1在审
  • 金天弘;冯子青;徐在亨;塔利斯·扬·张 - 追踪有限公司
  • 2015-05-07 - 2017-03-22 - H01L27/12
  • 本发明提供用于在衬底上制造TFT和存储电容器的设备和方法。在一个方面中,设备包含TFT和存储电容器,其中所述TFT包含第一金属层、第二金属层和半导体层,其中所述半导体层受第一蚀刻终止层和第二蚀刻终止层保护。所述存储电容器包含作为在所述第一金属层与所述第二金属层之间的电介质的所述第二蚀刻终止层。在另一方面中,设备包含TFT和存储电容器,其中所述TFT包含第一金属层、电介质层和半导体层,其中所述半导体层受蚀刻终止层保护。所述存储电容器包含作为在所述第一金属层与所述半导体层之间的电介质的所述电介质层。
  • 具有高密度存储电容器晶体管制造
  • [发明专利]多栅极薄膜晶体管-CN201380038720.0有效
  • 约翰·贤哲·洪;金天弘;冯子青 - 高通MEMS科技公司
  • 2013-07-12 - 2016-10-26 - H01L29/786
  • 本发明提供多栅极晶体管、结构、装置、设备、系统及有关工艺的实施方案。在一个方面中,一种装置包含布置在衬底之上的薄膜半导体层。漏极及源极耦合到所述半导体层。所述装置还包含第一栅极、第二栅极及第三栅极,其皆邻近所述半导体层而布置且经配置以分别接收第一控制信号、第二控制信号及第三控制信号。介电层使所述栅极与所述半导体层及彼此绝缘。在第一模式中,所述第一栅极、所述第二栅极及所述第三栅极经配置以使得电荷存储在邻近所述第二栅极的所述半导体层的区中的势阱中。在第二模式中,所述第一栅电极、所述第二栅电极及所述第三栅电极经配置以使得所述所存储电荷穿过邻近所述第三栅电极的所述半导体层的所述区转移且穿过所述源极转移到负荷。
  • 栅极薄膜晶体管

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