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[发明专利]校平维持力提升的高性能掩膜对准器用工作台校平装置-CN201611092835.X在审
发明人：李坤哲;闵兴基;李俊亨;全在根 -专利权人：美达思系统株式会社
申请日： 2016-12-02 - 公布日： 2018-03-06 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明涉及校平维持力提升的高性能掩膜对准器用工作台校平装置，尤其涉及稳固已完成校平的晶片工作台并防止校平歪曲的新概念技术。根据已公开的校平装置，其作为局部施压于校平杆的侧面的方法，固定已完成校平的晶片工作台，由此，因上述校平杆沿着上下左右移动而产生的偏差(错误)，导致校平歪曲，并且由于上述校平杆的固定力弱，会产生滑动，从而只能相应地减少能够实现最大校平的晶片(样品)的重量。本发明是为了消除这种问题而提出的解决方案，其特征在于，强调如下技术当插入于校平杆的外侧的锁环保持倾斜状态时，锁环的内周面施压于校平杆的两侧并进行固定和锁定，而当上述锁环保持水平状态时，锁环的内周面与校平杆相隔开并解除锁定。
维持提升性能对准器用工作台平装

[发明专利]步进扫描曝光机-CN201580000661.7有效
发明人：李坤哲;闵兴基;李俊亨;全在根 -专利权人：美达思系统株式会社
申请日： 2015-05-20 - 公布日： 2018-01-16 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明涉及步进扫描曝光机，尤其，本发明涉及曝光模块以扫描方式连续或反复进行步进移送，使得无法通过一次曝光作业来形成电路图案的大规格的整个被曝光体(膜、晶片等)均匀地曝光的新概念技术。本发明的特征在于，使被曝光体吸附于向外部引出的托盘之后，可向掩膜架的下侧进入上述托盘，在上述掩膜架的上端装载玻璃底座，形成有电路图案的底片以吸附的方式固定于上述玻璃底座，一边使上述掩膜架上下移动，一边调节上述玻璃底座及被曝光体之间的间隙，并使位于上述掩膜架的上部的曝光模块一边向横向以扫描方式连续地移送或反复进行步进移动，一边进行曝光。
步进扫描曝光

[发明专利]烧饭机及其控制方法-CN96121875.4无效
发明人：李应燮;全在根 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 1996-12-05 - 公布日： 1997-08-06 - 主分类号： A47J27/00 文献下载
摘要：本发明提供一种可进行清洗的烧饭机及其控制方法，容易对内锅和清洗部件进行清扫，结构简单，制造容易，可增加机械的安全性和耐久性。该烧饭机包括控制器，键输入部，储米容器，计量器，淘米装置，烧饭保温装置。
烧饭及其控制方法

[发明专利]饭的组织感评价方法及其装置-CN95121707.0在审
发明人：尹云重;全在根 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 1995-12-28 - 公布日： 1997-01-01 - 主分类号： G01N33/02 文献下载
摘要：一种饭的组织感评价方法，该方法由试件成型阶段、试件切断阶段、试件支承阶段和试件测定阶段组成，上述试件成型阶段，把饭盛在展开的一对半圆状的内周面上端后，折叠压缩成为圆筒状；上述试件切断阶段。把成型的试件切断成具有既定大小和重量的多个饭块试件；上述试件支承阶段，分别以既定的间隔装插多个饭块试件之后迅速测定组织感，同时，直到对这些饭块试件的测定完了为止。测定条件都保持一致，上述试件测定阶段，向多个饭块试件加力，分别测定饭的组织感。
组织评价方法及其装置