专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]加工系统-CN202080104817.7在审
  • 佐藤真路 - 株式会社尼康
  • 2020-07-29 - 2023-05-16 - B23K26/02
  • 一种加工系统,经由照射光学系统将加工光照射至物体以对物体进行加工,所述加工系统包括:照射装置,具有照射光学系统中的至少末端光学元件;移动装置,使照射装置移动;第一测量装置,配置于照射装置且测量物体的位置;第二测量装置,经由末端光学元件来测量物体的位置;以及第三测量装置,从离开照射装置的位置朝向照射装置照射测量光,检测测量光以测量照射装置的位置。
  • 加工系统
  • [发明专利]处理系统-CN202080057800.0在审
  • 佐藤真路 - 株式会社尼康
  • 2020-08-27 - 2022-03-22 - B23K26/00
  • 一种处理系统,其是将来自加工光源的加工光照射至物体的至少一部分而对所述物体进行加工处理的处理系统,包括:合成光学系统,将来自测量光源的测量光的光路与来自所述加工光源的所述加工光的光路合成;照射光学系统,将来自所述合成光学系统的所述加工光及所述测量光照射至所述物体;位置变更装置,变更所述物体与来自所述照射光学系统的所述加工光的聚光位置之间的相对位置关系;光接收装置,经由所述照射光学系统来接收通过照射至所述物体的表面的所述测量光而产生的光;及控制装置,使用来自所述光接收装置的输出,来控制所述位置变更装置。
  • 处理系统
  • [发明专利]加工装置-CN202080056385.7在审
  • 佐藤真路 - 株式会社尼康
  • 2020-08-06 - 2022-03-18 - B23K26/00
  • 加工装置是通过将来自加工光源的加工光照射至物体来加工物体的加工装置,包括:合成光学系统,将来自加工光源的加工光的光路与来自测量光源的第一测量光的光路合成;照射光学系统,将经由合成光学系统的加工光及第一测量光照射至物体;位置变更装置,变更照射光学系统相对于物体的位置;拍摄装置,其位置与照射光学系统一起变更,拍摄物体;以及检测装置,经由照射光学系统及合成光学系统,来检测第二测量光,所述第二测量光通过经由照射光学系统照射至物体的第一测量光而自物体产生。
  • 加工装置
  • [发明专利]液浸部件及曝光装置-CN201811255979.1有效
  • 佐藤真路 - 株式会社尼康
  • 2013-12-25 - 2021-06-11 - G03F7/20
  • 液浸部件在液浸曝光装置中使用,能够在与射出曝光用光的光学部件的射出面相对的物体的表面上形成液浸空间。液浸部件具有:第1部件,其包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分,在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部、及配置在第1开口部的周围的至少一部分上且能够与物体的表面相对的第1液体供给部;和第2部件,其具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部,能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动。
  • 部件曝光装置
  • [发明专利]曝光装置、曝光方法、器件制造方法、程序及记录介质-CN201810132545.6有效
  • 佐藤真路 - 株式会社尼康
  • 2013-10-08 - 2020-06-02 - G03F7/20
  • 曝光装置具有:包括配置在光学部件周围的至少一部分中的第1部件、和配置在光学部件周围的一部分中的第2部件,并能够形成液体的液浸空间的液浸部件;能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置;和控制驱动装置的控制装置。控制装置以使得第2部件的第1动作与第2部件的第2动作不同的方式控制驱动装置,所述第2部件的第1动作是从包含在同一列中的第1曝光区域的曝光结束起到第2曝光区域的曝光开始为止的、在衬底的第1移动期间中的第2部件的第1动作,所述第2部件的第2动作是从某列的第3曝光区域的曝光结束起到另一列的第4曝光区域的曝光开始为止的、在衬底的第2移动期间中的第2部件的第2动作。
  • 曝光装置方法器件制造程序记录介质
  • [发明专利]液浸部件及曝光装置-CN201380073365.0有效
  • 佐藤真路 - 株式会社尼康
  • 2013-12-25 - 2018-12-04 - H01L21/027
  • 液浸部件在液浸曝光装置中使用,能够在与射出曝光用光的光学部件的射出面相对的物体的表面上形成液浸空间。液浸部件具有:第1部件,其包含配置在曝光用光的光路周围的第1部分,在第1部分上设有能够供曝光用光通过的第1开口部、及配置在第1开口部的周围的至少一部分上且能够与物体的表面相对的第1液体供给部;和第2部件,其具有能够与物体的表面相对的第1液体回收部,能够相对于光路在第1部分的外侧相对于第1部件移动。
  • 部件曝光装置
  • [发明专利]具备防振装置的曝光装置-CN201380063011.8有效
  • 佐藤真路 - 株式会社尼康
  • 2013-10-08 - 2018-09-21 - H01L21/027
  • 一种曝光装置,经由光学部件(13)与基板(P)之间的液体(LQ)以曝光用光对基板进行曝光,该曝光装置具备装置框架(8B)、包括光学部件的光学系统、包括配置于光学部件周围的至少一部分的第1部件(21)和配置于光学部件周围的至少一部分的第2部件(22)并且能够形成液浸空间的液浸部件(5)、能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置(56),和防振装置(55),经由防振装置(55)将第1部件支承于装置框架。
  • 具备装置曝光

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