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[发明专利]涂布器、涂布装置和涂布方法-CN201510593961.2有效
发明人：堀内展雄;伊藤祯彦 -专利权人：东丽工程株式会社
申请日： 2015-09-17 - 公布日： 2019-06-21 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：涂布器、涂布装置和涂布方法。提供一种涂布器，能够迅速地将积存在涂布器内的气泡排出到外部。本发明的涂布器具有：第1供给口(31)，其供给涂布液；第1歧管(11)，其与第1供给口(31)连接；喷出缝(22)，其喷出涂布液；第2歧管(12)，其与喷出缝(22)连接；以及连结节流流路(21)，其连结第1歧管(11)和第2歧管(12)，第1歧管(11)连接有将积存在第1歧管(11)内的气泡排出到外部的第1排出口(41)，第2歧管(12)连接有供给涂布液的第2供给口(32)和将积存在第2歧管(12)内的气泡排出到外部的第2排出口(42)。
涂布器装置方法

[发明专利]涂布器和涂布装置-CN201780037579.0在审
发明人：堀内展雄;伊藤祯彦;谷野圣;西野聪 -专利权人：东丽工程株式会社
申请日： 2017-05-24 - 公布日： 2019-02-05 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：提供涂布器，其具有：提供口，其提供涂布液；缝，其喷出涂布液，形成为在一个方向上较长；多个歧管，它们至少包含与所述提供口连接的上游侧歧管以及与所述缝连接的下游侧歧管，形成为在所述一个方向上较长；以及节流流路，其在所述一个方向上较长，将相邻的所述歧管之间连接起来，所述提供口与所述上游侧歧管在所述一个方向的中央连接，关于所述上游侧歧管的与所述一个方向垂直的截面上的截面积，所述一个方向的端部处的该截面积小于该一个方向的中央部处的该截面积，在将所述上游侧歧管与该上游侧歧管的相邻的所述歧管之间连接起来的所述节流流路中，所述端部处的流路长度大于等于所述中央部处的流路长度。
歧管流路上游涂布器涂布液中央部节流方向垂直涂布装置中央连接喷出

[发明专利]涂布器以及涂布装置-CN201410204719.7有效
发明人：林田健儿;谷野圣;川竹洋;堀内展雄;伊藤祯彦 -专利权人：东丽工程株式会社
申请日： 2014-05-15 - 公布日： 2017-10-24 - 主分类号： B05C5/00 文献下载
摘要：本发明提供一种涂布器以及涂布装置，能够迅速排出涂布器(3)的上侧歧管(11)和下侧歧管(12)内的空气。所述涂布器包括流入口(18)，用于流入涂布液；排出细缝(21)，用于排出涂布液，所述排出细缝在一个方向上长长地形成且在与所述一个方向垂直的方向上狭窄地形成。所述涂布器进一步包括上侧歧管，与流入口连接；下侧歧管，与排出细缝连接；节流流路(22)，连接上侧歧管与下侧歧管的同时在一个方向上长长地形成且在与一个方向垂直的方向上狭窄地形成；排气孔(32)，在包含该节流流路与下侧歧管的境界(40)的区域(A)上开口。
涂布器以及装置

[发明专利]减压干燥装置和基板处理系统-CN201610090240.4在审
发明人： 伊藤祯彦;池森一博 -专利权人：东丽工程株式会社
申请日： 2016-02-17 - 公布日： 2016-09-07 - 主分类号： F26B5/04 文献下载
摘要：提供一种减压干燥装置和基板处理系统。在具有多级腔室式减压干燥装置的片状基板用干燥装置中，利用单一的真空泵应对所有腔室的减压动作。减压干燥装置具有：多个减压用腔室；单一的真空泵，该真空泵的进气口经由配管与各腔室连接；阀，其控制各腔室的排气和减压状态，且与所述各腔室对应地分别设置于所述配管；以及控制装置，其根据预先设定的减压序列控制各阀。
减压干燥装置处理系统

[发明专利]金属件清洗方法及涂敷装置-CN201210241658.2有效
发明人：林田健儿;川竹洋;堀内展雄;伊藤祯彦;釜谷学 -专利权人：东丽株式会社;东丽工程株式会社
申请日： 2012-07-12 - 公布日： 2013-01-16 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本发明的目的在于在金属件（3）中，能够使现有技术中由于振动波（基于振动波的空穴现象）的传播不充分而残留的粘着物浮起，在短时间内得到期望的清洗结果，其中该金属件（3）内形成有在该金属件（3）宽度方向上长、且在该金属件（3）的前端开口的缝隙（7）。本发明提供的金属件的清洗方法包括：使金属件前端（9）浸渍在清洗槽（11）内的施加了振动波的清洗液（L）中，使该清洗液（L）通过缝隙（7）向金属件内部流入；由此状态，使气体在缝隙（7）的宽度方向的全长通过缝隙（7）流入金属件内部；其后，使金属件前端（9）浸渍在清洗槽（11）内的施加了振动波的清洗液（L）中，使该清洗液L通过缝隙（7）向金属件内部流入。
金属件清洗方法装置

[发明专利]涂布装置和涂布方法-CN201210046849.3有效
发明人：西元美纪;伊藤祯彦;内山悟 -专利权人：东丽工程株式会社
申请日： 2012-02-28 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：本发明提供一种涂布装置和涂布方法，虽然在通过光学涂布机进行涂布之前用多个清扫部件擦拭排出口对于获得稳定的涂布膜来说是有效的方法，但每次更换喷嘴时更换清扫部件并使它与各排出口吻合，这要花费时间，本发明的涂布装置包括：清扫单元，通过被支撑部件支撑的清扫部件进行清扫；θ平台，在所述擦拭方向上能够放置多个所述清扫单元，并具有垂直于其上面的旋转轴；擦拭单元，包括支撑所述θ平台的台座；在所述清扫单元的所述支撑部件和所述θ平台上形成有用于夹持高度调节部件的高度调节面。
装置方法

[发明专利]清扫部件、涂布器的清扫方法、清扫装置以及显示器用部件的制造方法-CN201210034636.9有效
发明人：北村义之;谷义则;西元美纪;伊藤祯彦;内山悟;山田浩志 -专利权人：东丽工程株式会社
申请日： 2012-02-16 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： C03C17/00 文献下载
摘要：本发明涉及清扫部件和涂布器的清扫方法、清扫装置以及显示器用部件的制造方法，该清扫部件在清扫时通过提高从涂布器去除的涂布液沿着清扫部件流出的速度，使该涂布液不再附着在涂布器上，且由于涂布液或清洗用溶剂等不残留而不会导致涂布膜厚度异常或涂布膜面的缺陷，该清扫部件具有相对而置的第一面和第二面、且一边与在涂布器的一个方向上延伸的排出口的排出口面和该排出口面的两个邻接面接触一边在该一个方向上滑动，由此对该排出口面和该两个邻接面进行清扫，并且包括：清扫部，设置在第一面侧上，并与排出口面和两个邻接面同时接触；多个流出路径面，以清扫部为起点，一直延伸到第二面侧；其中，在流出路径面上，在第二面侧设置有切槽。
清扫部件涂布器方法装置以及显示器用制造

[发明专利]涂布液供给装置、涂布液供给方法以及缓冲箱-CN201110042101.1有效
发明人：林敏;内泻外茂夫;上林宏和;伊藤祯彦 -专利权人：东丽工程株式会社
申请日： 2011-02-22 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：本发明提供涂布液供给装置、涂布液供给方法以及缓冲箱，其中能够避免涂布液被白白废弃，且能够抑制气泡混入到所供给的涂布液内。所述涂布液供给装置，包括存储涂布液的涂布液箱和暂时存储涂布液的缓冲箱，其中，通过加压涂布液箱使涂布液箱的涂布液供给到缓冲箱，且从缓冲箱输送涂布液，该装置还包括对涂布液箱内的涂布液残余量进行检测的残余量检测装置，通过该残余量检测装置，当检测出涂布液箱内的涂布液残余量很少时，进行停止从缓冲箱输送涂布液的液体输送停止动作，然后在停止从缓冲箱输送涂布液的动作状态下，进行将涂布液箱内的残留涂布液输送到缓冲箱的残余液体输送动作，然后进行更换涂布液箱的箱体更换动作。
涂布液供给装置方法以及缓冲

[发明专利]基板处理系统及基板处理方法-CN200910178719.3有效
发明人：中泽源伸;福岛雄悟;釜谷学;伊藤祯彦 -专利权人：东丽工程株式会社
申请日： 2009-09-28 - 公布日： 2010-06-02 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理系统(1)，其容易对联合涂敷装置(3)与搬出装置(5)的动作时机进行控制，并能够缩短时间。具有：涂敷装置(3)，其具有为了交接涂敷了涂敷液的基板(W)而在载置该基板(W)的状态下上下动作的销(14)；搬出装置(5)，其具有为了搬出所述基板(W)而相对于涂敷装置(3)进行接近远离移动的手部(31)。涂敷装置(3)与搬出装置(5)之间由通信线(L5)进行信号的发送接收。基于通过通信线(L5)在涂敷装置(3)与搬出装置(5)之间发送的信号，通过在用于交接基板(W)的销(14)的动作结束前使手部(31)开始移动，而使销(14)的动作与手部(31)的移动并行。
处理系统方法

[发明专利]涂敷装置及其基板保持方法-CN200810178115.4有效
发明人：森俊裕;伊藤祯彦 -专利权人：东丽工程株式会社
申请日： 2008-11-19 - 公布日： 2009-05-27 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：一种将吸附基板的吸引力设定成不会产生涂敷不均的程度时也能够抑制涂敷装置作业周期长期化的涂敷装置及其基板保持方法。这种涂敷装置具备：在工作台的表面形成的吸引孔中产生吸引力、将基板吸附保持在工作台的表面的基板保持装置和相对于基板相对移动且喷出涂敷液的涂敷单元，基板保持装置具有通过调节对基板附加的压力从而能够调节对基板的吸引力的压力调节部，该压力调节部能够调节成初始压和保持压，初始压是吸附刚刚载置在工作台的表面的基板，保持压是在利用该初始压吸附基板后、维持基板保持在工作台的表面的状态，该保持压设定成小于所述初始压。
装置及其保持方法

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