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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基板处理装置-CN202111331885.X在审
  • 今田祥友 - 东京毅力科创株式会社
  • 2021-11-11 - 2022-05-13 - H01J37/32
  • 提供一种安全且简便地对腔室进行维护的基板处理装置。该基板处理装置包括：腔室；多个单元，布置在所述腔室上；以及升降机构，使所述多个单元升降，其中，所述多个单元中的至少任意一个具有单元侧槽，所述升降机构具有升降机构侧槽，通过将固定部件插入至所述多个单元中的至少任意一个的单元侧槽和所述升降机构侧槽，从而在将所述多个单元固定到所述升降机构的状态下使所述多个单元升降。
  • 处理装置
  • [发明专利]气体供给环和基片处理装置-CN202111146592.4在审
  • 今田祥友 - 东京毅力科创株式会社
  • 2021-09-28 - 2022-04-22 - C23C16/458
  • 本发明提供一种具有多个流路的紧凑的气体供给环和包括该气体供给环的基片处理装置。一种在基片处理装置中使用的气体供给环，具有内周面、外周面、位于内周面与外周面之间的第一面、和位于内周面与外周面之间且位于与第一面相反的一侧的第二面，外周面具有至少1个气体入口，第一面具有与至少1个气体入口连通的外侧凹部，第二面具有与外侧凹部连通的第一中间凹部和第二中间凹部，第一面还具有配置在外侧凹部的内侧的第一内侧凹部～第四内侧凹部，第一内侧凹部和第二内侧凹部与第一中间凹部连通，第三内侧凹部和第四内侧凹部与第二中间凹部连通，内周面具有多个气体出口，各气体出口与第一内侧凹部～第四内侧凹部中的任意1个连通。
  • 气体供给处理装置
  • [发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法-CN201911378065.9在审
  • 藤井徹;今田祥友;大槻兴平 - 东京毅力科创株式会社
  • 2019-12-27 - 2020-07-07 - H01J37/32
  • 本发明提供一种等离子体处理装置和等离子体处理方法，防止上部电极周边的结露。等离子体处理装置具备处理容器、载置台、上部电极、等离子体处理部、罩构件、冷却部以及气体供给部。载置台配置于处理容器内，作为下部电极发挥功能。上部电极作为载置台的相向电极发挥功能。等离子体处理部通过向载置台和上部电极中的至少任一方供给高频电力来将处理容器内的气体等离子体化，通过等离子体对载置台上的被处理体进行处理。罩构件从上方覆盖上部电极。冷却部设置于罩构件内，使用温度比处理容器的外部气体的露点温度低的制冷剂来冷却上部电极，气体供给部向由罩构件和上部电极覆盖的空间内供给露点温度比外部气体的露点温度低的低露点气体。
  • 等离子体处理装置方法
  •  1 
  • 共 3 条
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