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- [发明专利]显示装置制造用光掩模以及显示装置的制造方法-CN201810208726.2有效
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今敷修久
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HOYA株式会社
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2018-03-14
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2023-09-12
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G03F1/54
- 本发明提供一种在显示装置的制造所应用的曝光条件下，能够兼顾优异的分辨性与生产效率的光掩模。光掩模所具备的转印用图案是用于在被转印体上形成孔的孔图案，其具有露出透明基板的直径W1的透光部；包围透光部的宽度R的遮光缘部；以及包围遮光缘部的相移部。相移部与透光部的相对于曝光用光的代表波长的光的相位差为大致180度。在透射位于透光部的一侧的相移部的曝光用光形成于被转印体上的光强度分布中，从相移部与遮光缘部的边界位置朝向遮光缘部侧，将直至第一波谷的最小值点B1的距离设为d1，将直至第二波谷的最小值点B2的距离设为d2，此时，满足(d1－0.5×W1)≤R≤(d2－0.5×W1)的条件。
- 显示装置制造用光以及方法
- [发明专利]显示装置制造用光掩模、以及显示装置的制造方法-CN202310372114.8在审
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今敷修久
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HOYA株式会社
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2018-03-07
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2023-07-28
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G03F1/26
- 本发明提供一种显示装置制造用光掩模，其能够在被转印体上稳定地形成微细的孔图案。该显示装置制造用光掩模构成为在透明基板上具有转印用图案，转印用图案包括：由四边形的透光部构成的主图案；由配置于主图案的周边的相移部构成的辅助图案；以及形成于主图案和辅助图案以外的范围的低透光部，当在主图案的周边定义包围主图案的、规定宽度的正八边形带时，辅助图案构成正八边形带的至少局部，将转印用图案所包括的多个主图案之一设为第一主图案，与第一主图案不同的第二主图案配置于接近第一主图案的位置，在构成包围第一主图案的正八边形带的八个区块中的、面对第二主图案侧的至少一个区块具有缺失的辅助图案配置于第一主图案的周边。
- 显示装置制造用光以及方法
- [发明专利]显示装置制造用光掩模、以及显示装置的制造方法-CN201810185361.6有效
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今敷修久
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HOYA株式会社
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2018-03-07
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2023-05-02
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G03F1/26
- 本发明提供一种显示装置制造用光掩模，其能够在被转印体上稳定地形成微细的孔图案。该显示装置制造用光掩模构成为在透明基板上具有转印用图案，转印用图案包括：由四边形的透光部构成的主图案；由配置于主图案的周边的相移部构成的辅助图案；以及形成于主图案和辅助图案以外的范围的低透光部，当在主图案的周边定义包围主图案的、规定宽度的正八边形带时，辅助图案构成正八边形带的至少局部，将转印用图案所包括的多个主图案之一设为第一主图案，与第一主图案不同的第二主图案配置于接近第一主图案的位置，在构成包围第一主图案的正八边形带的八个区块中的、面对第二主图案侧的至少一个区块具有缺失的辅助图案配置于第一主图案的周边。
- 显示装置制造用光以及方法
- [发明专利]光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法-CN202010141996.3在审
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今敷修久
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HOYA株式会社
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2020-03-04
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2020-09-15
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G03F1/72
- 提供光掩模的修正方法、光掩模的制造方法、光掩模和显示装置的制造方法，提供即使辅助图案产生缺陷也不发生显示装置等电子器件的制造成品率或生产效率降低的光掩模的修正方法。转印用图案通过曝光而在被转印体上形成具有期望CD值的孔图案，包含由透光部构成的主图案(11)；配置在主图案(11)附近且具有利用曝光分辨不出的宽度且具有相移作用的辅助图案(12)；和在主图案(11)和辅助图案(12)以外的区域形成的低透光部(13)。通过进行下述步骤修正光掩模：确定步骤，辅助图案(12)产生了缺陷时，通过增减主图案(11)CD值，确定在被转印体上具有期望CD值的修正转印用图案的形状；和修正步骤，基于确定步骤中得到的形状，实施增减主图案(11)的CD值来修正为主图案(111)的修正加工。
- 光掩模修正方法制造以及显示装置
- [发明专利]光掩模和显示装置的制造方法-CN201911133180.X在审
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今敷修久;吉川裕;菅原浩幸
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HOYA株式会社
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2015-09-25
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2020-02-21
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G03F1/32
- 本发明提供光掩模和显示装置的制造方法。本发明得到有利地适合于显示装置制造用掩模的曝光环境、能够稳定地转印微细图案的优异的光掩模及其制造方法。一种光掩模，其具备形成在透明基板上的转印用图案，其中，所述转印用图案具有径为W1(μm)的主图案、配置在所述主图案的附近且宽度为d(μm)的辅助图案、以及配置在形成有所述主图案和所述辅助图案的区域以外的低透光部，透射所述主图案与所述辅助图案的代表波长的相位差大致为180度，径W1、宽度d、所述辅助图案的透射率T1(％)、所述低透光部的透射率T3(％)以及所述主图案的中心与所述辅助图案的宽度方向的中心的距离P(μm)具有规定的关系。
- 光掩模显示装置制造方法
- [发明专利]光掩模和显示装置的制造方法-CN201510624801.X有效
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今敷修久;吉川裕;菅原浩幸
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HOYA株式会社
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2015-09-25
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2019-12-20
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G03F1/32
- 本发明提供光掩模和显示装置的制造方法。本发明得到有利地适合于显示装置制造用掩模的曝光环境、能够稳定地转印微细图案的优异的光掩模及其制造方法。一种光掩模，其具备形成在透明基板上的转印用图案，其中，所述转印用图案具有径为W1(μm)的主图案、配置在所述主图案的附近且宽度为d(μm)的辅助图案、以及配置在形成有所述主图案和所述辅助图案的区域以外的低透光部，透射所述主图案与所述辅助图案的代表波长的相位差大致为180度，径W1、宽度d、所述辅助图案的透射率T1(％)、所述低透光部的透射率T3(％)以及所述主图案的中心与所述辅助图案的宽度方向的中心的距离P(μm)具有规定的关系。
- 光掩模显示装置制造方法
- [发明专利]光掩模、光掩模的制造方法以及图案的转印方法-CN201510763096.1有效
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今敷修久
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HOYA株式会社
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2013-05-30
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2019-12-10
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G03F1/28
- 本发明获得能够可靠精致地转印细微图案的光掩模、转印方法、以及平板显示器的制造方法。是在透明基板上形成了包括至少对曝光光的一部分进行遮挡的遮光部、和上述透明基板露出的透光部的转印用图案的光掩模，上述遮光部具有以规定宽度沿上述遮光部的外周形成的边缘区域、和在上述遮光部中形成于上述边缘区域以外的部分的中央区域，上述中央区域形成为相对于透过上述透光部的上述曝光光所包含的代表波长的光具有大致180度的相移量，上述边缘区域形成为与上述中央区域相比，相对于上述代表波长的光的相移量小，并且在上述边缘区域形成有相对于上述代表波长的光具有50％以下的透过率的光学膜。
- 光掩模制造方法以及图案
- [发明专利]显示装置制造用光掩模和图案转印方法-CN201310512860.9有效
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今敷修久
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HOYA株式会社
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2013-10-25
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2014-05-07
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G03F1/38
- 本发明提供显示装置制造用光掩模和图案转印方法。在具有转印用图案的显示装置制造用光掩模中，所述转印用图案具有：主图案，其由透光部构成，直径为4μm以下；以及辅助图案，其配置在所述主图案的周边，具有无法通过曝光来分辨的宽度，由透光部构成，在透射所述主图案的曝光光与透射所述辅助图案的曝光光之间，彼此间实质上不存在相位差，当设所述主图案的中心与所述辅助图案的宽度的中心之间的距离为间距P（μm）时，所述间距P被设定为，使得由于透射所述主图案的曝光光与透射所述辅助图案的曝光光产生的光的干涉而产生的±1阶的衍射光入射到用于所述曝光的曝光机的光学系统。
- 显示装置制造用光图案方法
- [发明专利]光掩模、光掩模的制造方法以及图案的转印方法-CN201310208301.9有效
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今敷修久
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HOYA株式会社
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2013-05-30
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2013-12-18
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G03F1/28
- 本发明获得能够可靠精致地转印细微图案的光掩模、转印方法、以及平板显示器的制造方法。是在透明基板上形成了包括至少对曝光光的一部分进行遮挡的遮光部、和上述透明基板露出的透光部的转印用图案的光掩模，上述遮光部具有以规定宽度沿上述遮光部的外周形成的边缘区域、和在上述遮光部中形成于上述边缘区域以外的部分的中央区域，上述中央区域形成为相对于透过上述透光部的上述曝光光所包含的代表波长的光具有大致180度的相移量，上述边缘区域形成为与上述中央区域相比，相对于上述代表波长的光的相移量小，并且在上述边缘区域形成有相对于上述代表波长的光具有50％以下的透过率的光学膜。
- 光掩模制造方法以及图案
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