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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]磁性膜成膜装置及磁性膜成膜方法-CN201780003366.6有效
发明人：小林洋介;岩井治宪;藤长徹志;井堀敦仁;谷典明 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2017-02-27 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：成膜装置具备：靶材(31)，包含磁性材料；搬送部(14)，支承基板(S)使基板(S)位于配置区域(R)，配置区域(R)是与靶材(31)相对的区域；以及第一磁场形成部(20)，相对于配置区域(R)位于靶材(31)的相反侧，对配置区域(R)在靶材(31)所在的一侧形成平行于摇动方向(Ds)的水平磁场(HM)，并在摇动方向(Ds)的至少配置区域(R)的一端与另一端之间沿着摇动方向(Ds)使水平磁场(HM)摇动，摇动方向(Ds)是沿着基板(S)的一个方向。
磁性膜成膜装置方法

[发明专利]基板处理装置-CN201680004832.8有效
发明人：藤长徹志;井堀敦仁;松本昌弘;谷典明;岩井治宪;岩田贤二;佐藤良直 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2016-06-08 - 公布日： 2019-10-22 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：基板处理装置，具备：阳极单元(17)，包含第一板(23)和第二板(24)。第一板(23)包含多个第一贯穿孔(23a)，通过使气体穿过第一贯穿孔流动，从而使气体往第一板(23)的面方向扩散。第二板(24)包含比第一贯穿孔(23a)大的多个第二贯穿孔(24a)。第二板(24)使穿过第一贯穿孔(23a)的气体穿过多个第二贯穿孔(24a)，从而在第二板(24)与阴极载台之间流动。第二贯穿孔(24a)具有使各第二贯穿孔的内部的等离子发光强度高于在第二板(24)与阴极载台之间产生的等离子的发光强度的形状。
处理装置

[发明专利]触摸面板、触摸面板的制造方法以及光学薄膜-CN201580022405.8有效
发明人：原田学;柳坪秀典;井堀敦仁;铃木寿弘;松本昌弘;谷典明;久保昌司 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2015-04-28 - 公布日： 2019-07-19 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明的触摸面板具有：触摸面板基板；盖基板，重叠于所述触摸面板而设置；以及连接部，包括从所述盖基板侧向所述触摸面板基板侧层压而成的散射层，并在所述触摸面板基板与所述盖基板之间设置于除了显示区域之外的区域。
触摸面板制造方法以及光学薄膜

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201580038502.6有效
发明人：藤长徹志;井堀敦仁;松本昌弘;谷典明;岩井治宪 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2015-07-28 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：基板处理装置(10)具备：等离子生成部，其在配置基板(1)的等离子生成空间生成工艺气体的等离子；冷却部(20)，其隔着冷却空间(55)与基板相对，并具有向冷却空间供给工艺气体的供给口(26)；工艺气体供给部(30)，其向冷却部(20)供给工艺气体；以及连通部(56)，其连通冷却空间(55)和等离子生成空间，用于将被供给到冷却空间的工艺气体供给到等离子生成空间。
处理装置以及方法

[发明专利]触摸面板、触摸面板的制造方法、光学薄膜基板及其制造方法-CN201480003204.9有效
发明人：原田学;井堀敦仁;铃木寿弘;柳坪秀典;松本昌弘;久保昌司;新井真 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2014-07-10 - 公布日： 2018-01-12 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明的触摸面板包括盖基板；连接部，设置在所述盖基板上的除显示区域之外的区域，包括色彩层、和由以金属层与比所述金属层更厚的介电体层交替层压的方式构成的多层结构体形成的屏蔽层；以及触摸面板基板，以介入所述连接部的方式与所述盖基板对置配置。
触摸面板制造方法光学薄膜及其

[发明专利]基板处理装置-CN201580038441.3在审
发明人：藤长徹志;井堀敦仁;松本昌弘;谷典明;岩井治宪 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2015-07-23 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：基板处理装置(10)具备溅射装置(70)。溅射装置具备溅射腔室；两个靶材(72)，其设于溅射腔室内，用于通过溅射在基板(15)的两个成膜面(15a、15b)上形成薄膜；以及搬送机构，其沿设于溅射腔室内的搬送路(32)搬送基板。两个靶材中的一个在搬送方向的前级上以与基板的两个成膜面中的一个相对的方式配置在搬送路的一侧。两个靶材中的另一个在搬送方向的后级上以与基板的两个成膜面中的另一个相对的方式配置在搬送路的另一侧。
处理装置

[发明专利]薄型电路板处理装置-CN201480003237.3有效
发明人：藤长徹志;松本昌弘;新井真;真濑江理子;岩井治宪;高桥康司;井堀敦仁 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2014-01-28 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：薄型电路板处理装置(10)具备处理薄型电路板(S)的电路板处理部(20A；20B)；以及在电路板处理部(20A；20B)处理薄型电路板(S)时冷却薄型电路板(S)的冷却部(31；101)。冷却部(31；101)由静电卡盘(31)或气体冷却部(101)构成，静电卡盘(31)通过吸附由电路板处理部(20A；20B)所处理的薄型电路板(S)的处理面相反侧的面来冷却薄型电路板(S)，气体冷却部(101)通过供应气体给由电路板处理部(20A；20B)所处理的薄型电路板(S)的处理面相反侧的面来冷却薄型电路板(S)。
电路板处理装置

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