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[发明专利]光刻用清洗液-CN200680018671.4无效
发明人： 中山一彦;秀坂慎一 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2006-07-14 - 公布日： 2008-05-21 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻用清洗液，其用于通过光刻技术制造抗蚀图案时，将设置于基板上的抗蚀膜的不需要部分或残留于光致抗蚀剂供应装置中的光致抗蚀剂洗净并去除。作为该清洗液，要求其使用可将不需要的抗蚀剂完全溶解去除后能够迅速干燥的溶剂，并对处理后的抗蚀膜不会产生不良影响，故其成分取决于所使用的抗蚀剂的种类。但是，目前为止尚未知晓对于以丙烯酸系聚合物作为成分的ArF准分子激光用光致抗蚀剂有效的清洗液。本发明提供一种光刻用清洗液，其包含单独的烷氧基羧酸烷基酯，或其与烷氧基苯的混合溶剂，该清洗液可有效去除ArF准分子激光用光致抗蚀剂。
光刻清洗

[发明专利]LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物和抗蚀图的形成方法-CN200380104752.2有效
发明人：片野彰;中山一彦;新仓聪;土井宏介 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2003-12-05 - 公布日： 2006-01-11 - 主分类号： G03F7/023 文献下载
摘要：一种LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物，含有(A)含有使含3，4－二甲苯酚的酚类和醛类进行缩合反应而得到的碱溶性酚醛清漆树脂的碱溶性树脂成分，(B)萘醌二叠氮基酯化物，(C)分子量为1000以下的含酚性羟基化合物，(D)有机溶剂。本发明还提供了使用该组合物的抗蚀图的形成方法。通过本发明，即使在低NA条件下也可获得良好的分辨力。另外，由于NA条件下的线性也良好，所以适合用于系统LCD的制造。
lcd 制造用正型光致抗蚀剂组合抗蚀图形成方法

[发明专利]抗蚀图案的剥离方法-CN200410098395.X无效
发明人：大西启之;中山一彦;高木勇 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2004-12-09 - 公布日： 2005-06-15 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：一种抗蚀图案的剥离方法，具有使用化学放大型正型抗蚀剂组合物在基板上形成抗蚀图案的抗蚀图案形成工序、和使用溶剂将上述抗蚀图案从基板上剥离的剥离工序，其中，作为上述化学放大型正型抗蚀剂组合物，使用将(A)侧链具有羟基的碱可溶性树脂、(B)光酸发生剂、(C)下述通式(I)所示化合物溶解于有机溶剂而形成的组合物，并且，在上述抗蚀图案形成工序和上述剥离工序之间具有在150～400℃的温度下对形成了该抗蚀图案的基板进行加热处理的加热处理工序，H₂C＝CH－O－R¹－O－CH＝CH₂ (I)，式中，R¹表示可以具有取代基的C_1～10的亚烷基等。
图案剥离方法

[发明专利]化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法-CN200410044681.8无效
发明人： 中山一彦;高木勇 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2004-05-19 - 公布日： 2005-02-02 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：一种化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物，是在一个基板上形成集成电路和液晶显示部分的基板制造用的化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物，其特征是：含有(A)树脂成分、(C)通过放射线的照射而产生酸成分的化合物、和有机溶剂，具有通过由所述(C)成分所产生的酸成分的作用而在碱水溶液中的溶解性增大的性质，该光致抗蚀剂组合物中所含的固体成分的、通过凝胶渗透色谱法测定的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)在3000～100000的范围内。根据本发明可提供满足对于在1个基板上形成集成电路和液晶显示部分的系统LCD的制造用所要求的耐热性、分辨力、线性、和DOF特性，同时具有良好的感度的光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法。
化学增幅型正型光致抗蚀剂组合以及图案形成方法

[发明专利]正型抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法-CN200410044710.0无效
发明人： 中山一彦;高木勇 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2004-05-17 - 公布日： 2004-12-01 - 主分类号： G03F7/022 文献下载
摘要：一种抗蚀剂组合物，是具有以下特征的系统LCD用正型抗蚀剂组合物：含有(A)碱溶性树脂、(B)含苯醌二叠氮基化合物、(C)分子量(M)为1000以下的含酚性羟基化合物、以及(D)有机溶剂，该抗蚀剂组合物所含固体成分的通过凝胶渗透色谱法测定的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)在5000～30000的范围内。根据本发明可以提供在不使感度下降的情况下，能够将用于制造在1个基板上形成有集成电路和液晶显示部分的系统LCD时所要求的耐热性、分辨力、线性度、和DOF特性提高的抗蚀剂组合物。
正型抗蚀剂组合以及图案形成方法

[发明专利]LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图形的形成方法-CN200410002210.0有效
发明人：大内康秀;中山一彦;丸山健治;土井宏介 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2004-01-15 - 公布日： 2004-08-11 - 主分类号： G03F7/022 文献下载
摘要：本发明提供一种LCD制造用的抗蚀剂材料，该抗蚀剂材料是LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于，包括(A)碱可溶性树脂，(B)聚苯乙烯换算质均分子量为300－1300的低分子量酚醛清漆树脂和萘醌二叠氮磺酸化合物的、平均酯化率为30－90％的酯化反应生成物，(C)分子量为1000以下的含有酚性羟基的化合物，(D)有机溶剂。根据本发明的抗蚀剂组合物，即使在低NA条件下，也能够以高的析像度形成抗蚀图形，优选线性良好抗蚀剂组合物。
lcd 制造用正型光致抗蚀剂组合以及图形形成方法

[发明专利]正型光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法-CN03154301.4无效
发明人：馆俊聪;中山一彦;土井宏介 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2003-08-14 - 公布日： 2004-03-24 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：一种正型光致抗蚀剂组合物，是用于制造在1个基板上形成有集成电路和液晶显示部分的LCD的正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于，含有从由(A)碱溶性树脂、(B)萘醌二迭氮酯化物、(C)用上述通式(I)表示的化合物组成的组中选择的至少1种含酚性羟基化合物；及(D)有机溶剂[式中，R¹－R⁶分别独立表示氢原子、卤原子、碳数1－6的烷基、或碳数1－6的烷氧基，R7表示氢原子或碳数1－6的烷基，a和b分别独立表示1－3的整数]。根据本发明，可以提供在NA为0.2以下的适于制造系统LCD的低NA条件下也可以形成2.0微米以下的微细抗蚀图案且具有良好线性的抗蚀材料。
正型光致抗蚀剂组合图案形成方法