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[发明专利]多孔质聚酰亚胺膜坯膜、其制造方法及组合物-CN201910087385.2有效
发明人：石川薰;西端巳季夫;川村芳次;中尾浩章 -专利权人： 东京应化工业株式会社;JFE化学株式会社
申请日： 2019-01-29 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： C08L79/08 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供抗拉强度及弯曲强度优异的多孔质聚酰亚胺膜坯膜、其制造方法、及可合适地用于其制造的组合物。本发明的解决手段为由ASTM标准D638规定的抗拉强度为45MPa以上的多孔质聚酰亚胺膜坯膜。所述多孔质聚酰亚胺膜坯膜包含：含有下述式(1‑1)表示的结构单元及下述式(1‑2)表示的结构单元的聚酰亚胺。上述式中，A11及A12各自独立地表示由包含芳香族四羧酸酐的酸酐衍生的4价的芳香族基团，B11及B12各自独立地表示由芳香族二胺衍生的2价的二胺残基，选自由A12及B12组成的组中的至少1个在其结构中包含2价的间隔基团。
多孔聚酰亚胺膜坯膜制造方法组合

[发明专利]清漆组合物、聚酰亚胺多孔质膜的前体膜及其制造方法、以及聚酰亚胺多孔质膜的制造方法-CN202010570916.6有效
发明人：石川薰;野口拓也 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2020-06-19 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： C09D179/08 文献下载
摘要：本发明提供：即使包含水也能形成厚度、组成均匀的涂布膜、并且组成均匀的用于形成聚酰亚胺多孔质膜的包含微粒的清漆组合物及其制造方法；使用该清漆组合物的聚酰亚胺多孔质膜的前体膜的制造方法；聚酰亚胺多孔质膜的前体膜和使用其的聚酰亚胺多孔质膜的制造方法。在形成包含聚酰胺酸(A)、有机微粒(B)和溶剂(S)的前述清漆组合物时，向清漆组合物中添加碱性化合物(C)，并且，使用包含规定量的水(S‑I)和有机溶剂(S‑II)的溶剂(S)，或者，作为溶剂(S)，将水(S‑i)及/或水溶性有机溶剂(S‑ii)、与水溶性有机溶剂(S‑ii)以外的有机溶剂(S‑iii)组合使用，并且，使水(S‑i)及水溶性有机溶剂(S‑ii)的使用量的总量在特定的范围内。
清漆组合聚酰亚胺多孔质膜前体膜及其制造方法以及

[发明专利]硅蚀刻液、硅蚀刻方法以及硅鳍片结构体的制造方法-CN202010581674.0有效
发明人：钟明谚;高滨昌 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2020-06-23 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C09K13/00 文献下载
摘要：本发明涉及硅蚀刻液、硅蚀刻方法以及硅鳍片结构体的制造方法。一种蚀刻液，含有：(A)成分：以通式(A‑1)表示的季铵碱；(C)成分：非离子表面活性剂，(C)成分的HLB值为12以上15以下。式(A‑1)中，R1～R4分别独立地为1价烃基。其中，R1～R4所含的碳原子的合计为10以上。【化1】
蚀刻方法以及硅鳍片结构制造

[发明专利]感光性组合物、感光性干膜、带镀覆用铸模的基板的制造方法及镀覆造形物的制造方法-CN202180045119.9在审
发明人：岸本友辅;片山翔太 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2021-06-07 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种能够形成尺寸均匀的镀覆造形物的、可利用光刻法形成镀覆用的铸模的化学放大型感光性组合物、具备由该化学放大型感光性组合物构成的感光性层的感光性干膜、使用所述化学放大型正型感光性组合物的带镀覆用铸模的基板的制造方法、使用通过上述方法制造的带铸模基板的镀覆造形物的制造方法。在包含利用活性光线或放射线的照射而产生酸的产酸剂(A)的化学放大型感光性组合物中掺混包含特定结构的香豆素化合物的香豆素化合物(C)。
感光性组合镀覆铸模制造方法造形

[发明专利]保护膜的形成方法、半导体芯片的制造方法及涂布液的制备方法-CN202210884323.6在审
发明人：大久保明日香 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2022-07-25 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： C08J5/18 文献下载
摘要：本发明涉及保护膜的形成方法、半导体芯片的制造方法及涂布液的制备方法。提供：在半导体晶片的切割中在半导体晶片的表面形成保护膜的保护膜的形成方法，即使在制造保护膜形成剂后时间经过也能抑制形成的保护膜的异物；采用该保护膜的形成方法的半导体芯片的制造方法；和可用于前述保护膜的形成方法的涂布液的制备方法。在半导体晶片的切割中在半导体晶片的表面形成保护膜的保护膜的形成方法，其具有：保护膜形成剂准备工序，准备保护膜形成剂，其包含水溶性树脂、吸光剂和溶剂，溶剂包含水，且固态成分浓度为20质量％以上；涂布液制备工序，对保护膜形成剂进行稀释制备涂布液；和保护膜形成工序，将涂布液涂布于半导体晶片上形成保护膜。
保护膜形成方法半导体芯片制造涂布液制备

[发明专利]覆层用组合物及金属/树脂接合部件的制造方法-CN201980024859.7有效
发明人：细谷守;岩井武;藤本隆史;前田知宏 -专利权人： 东京应化工业株式会社;辉创株式会社
申请日： 2019-04-03 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： B29C65/16 文献下载
摘要：本发明提供一种在接合金属基材与树脂部件时，使用含有金属粉末、粘合剂与有机溶剂的覆层用组合物。并且使用具有以下工序的金属/树脂接合部件的制造方法：在金属基材的至少一部分涂布该覆层用组合物的工序；对金属基材中的该覆层用组合物的涂布部照射激光的工序；在金属基材中的激光照射部上配置树脂部件的工序；加热激光照射部与树脂部件的界面从而将金属基材与树脂部件接合的工序。
覆层组合金属树脂接合部件制造方法

[发明专利]固化性组合物、固化物、固化膜、显示面板、及固化膜的制造方法-CN202210930952.8在审
发明人：浦川一树;盐田大 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2022-08-04 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： C09D163/00 文献下载
摘要：本发明涉及固化性组合物、固化物、固化膜、显示面板、及固化膜的制造方法。本发明的课题是提供能够形成兼具透明性的高度、被加热时的透明性的降低难度、和优异的耐有机溶剂性的固化物的固化性组合物、该固化性组合物的固化物、以及使用该固化性组合物的固化膜的制造方法。本发明的解决手段为：在包含聚合性化合物(A)、含有氧化钛微粒(B1)的金属氧化物微粒(B)、引发剂(C)、和溶剂(S)的固化性组合物中，使用具有含自由基聚合性基团的基团或含阳离子聚合性基团的基团、并且具有芴骨架的聚合性芴化合物(A1)作为聚合性化合物(A)，使用热敏性引发剂(C1)作为引发剂(C)。
固化组合显示面板制造方法

[发明专利]靶标粒子的分离方法及系统-CN202180036613.9在审
发明人：大坂享史 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2021-05-14 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C12M1/26 文献下载
摘要：使用粒子捕捉设备(1)，具备下述工序：导入工序，将包含靶标粒子(CT)及非靶标粒子(CA)～(CC)的流体从流入路(18)导入腔室(20)内；浓缩工序，使流体的至少一部分通过第一排出路(8)而排出，从而由过滤器(12)浓缩靶标粒子(CT)、和非靶标粒子的至少一部分(CA)；分离工序，利用吸引手段(30)将滤出的非靶标粒子(CA)从靶标粒子(CT)分离；和容纳工序，将靶标粒子(CT)容纳于凹坑。
靶标粒子分离方法系统

[发明专利]正型感光性树脂组合物、金属布线的制造方法及层叠体-CN201710643741.5有效
发明人：铃木茂 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2017-07-31 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明涉及正型感光性树脂组合物、金属布线的制造方法及层叠体。本发明的课题在于提供：正型感光性树脂组合物，其用于形成有机膜，所述有机膜在对金属膜进行蚀刻而形成金属布线时作为蚀刻掩模使用，并且在已固化的状态下作为被覆经蚀刻而形成的金属布线的永久膜使用，所述永久膜均匀地被覆金属布线的整个面，并且不被覆金属布线以外的部位；金属布线的制造方法，其使用该正型感光性树脂组合物；及层叠体，其具有使该正型感光性树脂组合物固化而形成的永久膜和金属布线。本发明使用下述正型感光性树脂组合物来形成经图案化的上述有机膜，所述正型感光性树脂组合物包含(A)Novolac树脂、(B)含有醌二叠氮基的化合物、和(C)着色剂。
感光性树脂组合金属布线制造方法层叠

[发明专利]气体分离方法及气体分离膜-CN201880054160.0有效
发明人：野口拓也;先崎尊博;绪方寿幸;国武丰喜;藤川茂纪;有吉美帆 -专利权人： 东京应化工业株式会社;株式会社纳米膜技术
申请日： 2018-08-03 - 公布日： 2023-01-20 - 主分类号： B01D53/22 文献下载
摘要：本发明提供在气体分离膜的两面的压力差为1个大气压以下那样的平稳条件下，能良好地分离混合气体中的微量成分的气体分离方法，和在该气体分离方法中适宜使用的气体分离膜。在使用气体分离膜、从包含浓度为1000质量ppm以下的特定的气体(A)的混合气体中使气体(A)选择性透过的气体分离方法中，通过使用膜厚为1μm以下的极薄的气体分离膜，从而在气体分离膜的两面的压力差为1个大气压以下那样的平稳条件下，良好地分离气体(A)。
气体分离方法

[发明专利]感光性组合物-CN202210701371.7在审
发明人：佐藤梓实 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2022-06-20 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： G03F7/027 文献下载
摘要：本发明涉及感光性组合物。本发明的课题是提供用于在透镜的周缘形成遮光层的感光性组合物、使用该感光性组合物的光学元件的制造方法、和光学元件，所述感光性组合物能够通过涂布于透镜并将所形成的涂布膜以位置选择性方式进行曝光及显影从而形成具有优异的遮光性的遮光层，并且能够抑制未曝光部的透镜的透过率的降低。本发明的解决手段为使用下述感光性组合物，其为用于在透镜的周缘形成遮光层的感光性组合物，所述感光性组合物包含碱溶性树脂(A)、光聚合性单体(B)、光聚合引发剂(C)、和遮光剂(D)，遮光剂(D)包含实施了导入酸性基团的处理的炭黑(D1)。
感光性组合

[发明专利]粒子捕获设备-CN201780075186.9有效
发明人：铃木康夫;室田敦史;大坂享史;绪方寿幸 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： C12M1/00 文献下载
摘要：粒子捕获设备，其具备第1基板、和以与第1基板的一侧平行地相对的方式配置的第2基板，第1基板具备多个在第1基板的另一侧开口、且具有可捕获1个粒子的大小的凹部，凹部具备将一侧与另一侧连通、且具有粒子的分散介质可移动的大小的连通孔，第1基板与第2基板之间形成有将第1基板的连通孔作为分散介质的流入口、且将第1基板的一侧的端部作为分散介质的流出口的流路，连通孔的总开口面积为1mm2以上且小于10mm2、且流出口处的流路的截面积为连通孔的总开口面积的0.8倍以上，或者，连通孔的总开口面积为10mm2以上且1000mm2以下、且流出口处的流路的截面积为连通孔的总开口面积的0.1倍以上。
粒子捕获设备

[发明专利]正型光致抗蚀剂组合物-CN201611043624.7有效
发明人：增田靖男;黑岩靖司 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2016-11-21 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供正型光致抗蚀剂组合物、具备包含该正型光致抗蚀剂组合物的感光膜的带感光膜的基板、以及使用该正型光致抗蚀剂组合物的图案化的抗蚀剂膜的形成方法。在包含(A)线型酚醛树脂和(B)感光剂、或者包含含有萘醌二叠氮基的(A’)线型酚醛树脂的正型感光性组合物中，使(A)线型酚醛树脂中含有规定量的可溶于pH12的碱性水溶液的规定结构的(A1)线型酚醛树脂、或者使用来自包含规定量该(A1)线型酚醛树脂的(A)线型酚醛树脂的(A’)线型酚醛树脂。
正型光致抗蚀剂组合

[发明专利]电磁波吸收体及电磁波吸收体形成用糊剂-CN202180034239.9在审
发明人：大越慎一;生井飞鸟;吉清麻里绘;原正之;浅井隆宏 -专利权人：国立大学法人东京大学;东京应化工业株式会社
申请日： 2021-05-13 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： H05K9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够兼顾高频带中的良好的电磁波吸收特性与良好的散热性的电磁波吸收体、和适合用于该电磁波吸收体的制造的电磁波吸收体形成用糊剂。在电磁波吸收体中，设置由电磁波吸收材料与导热性材料构成的复合层，在电磁波吸收材料中含有ε型氧化铁，所述ε型氧化铁是从ε‑Fe2O3晶体以及晶体和空间群与ε‑Fe2O3相同且ε‑Fe2O3晶体的Fe位点的一部分被Fe以外的元素M取代而得的、以式ε‑MxFe2‑xO3表示而所述x超过0小于2的晶体中选择的1种以上。
电磁波吸收体形成用糊剂

[发明专利]感光性树脂组合物-CN202210406833.2在审
发明人：海老泽和明 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2022-04-18 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：本发明提供一种能够通过应用光刻法形成介电损耗角正切较低的图案化的树脂膜的感光性树脂组合物、具有由该感光性树脂组合物构成的感光性层的感光性干膜、所述感光性干膜的制造方法、使用所述感光性树脂组合物的图案化的树脂膜的制造方法。在包含树脂与感光剂的感光性树脂组合物中，将从包含源自具有芳香族基的特定结构的二胺化合物的结构单元的聚酰亚胺树脂、聚酰胺酸、聚酰胺树脂、聚苯并噁唑树脂、及聚苯并噁唑树脂前体构成的组中选择的至少1种作为树脂使用。
感光性树脂组合