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[发明专利]等离子体发生装置及设置有该装置的工件处理装置-CN200780033765.3无效
发明人：松内秀高;岩崎龙一;万川宏史;增田滋;三毛正明;李相勋 -专利权人：诺日士钢机株式会社;阿玛仁特技术有限公司
申请日： 2007-09-12 - 公布日： 2009-08-26 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体发生装置，包括：微波发生部，产生微波；波导管，用于传送所述微波；多个等离子体发生喷嘴，在微波传导方向上彼此相隔地安装到所述波导管上，用于接收所述微波并基于该微波的能量产生并喷射等离子体气体；以及多个短柱，对应于等离子体发生喷嘴的一部分或全部，分别被以相隔规定的距离、且沿微波传导方向位于后面的位置，设置在所述波导管上。
等离子体发生装置设置工件处理

[发明专利]等离子体生成装置和使用该装置的工件处理装置-CN200810100192.8无效
发明人：三毛正明;万川宏史;增田滋;林博史 -专利权人：诺日士钢机株式会社
申请日： 2008-05-28 - 公布日： 2008-12-03 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供等离子体生成装置和使用该装置的工件处理装置。所述等离子体生成装置在等离子体生成喷嘴(31)的前端安装有适配器(38)，把所述点状吹出口变换成长形的吹出口(387)，而且还设置有罩构件(93)，覆盖多个等离子体生成喷嘴(31)，在该罩构件(93)和工件之间形成窄小的空间，使从吹出口吹出并碰到工件后被弹回的等离子体，再次被推回，滞留在所述空间内。因此，可以对大面积的工件进行均匀的等离子体照射，并且通过所述空间抑制等离子体冷却，使等离子体存在比较长的时间(消失的比例变小)，可以提高照射效率。
等离子体生成装置使用工件处理

[发明专利]工件处理装置-CN200810099703.9无效
发明人：岩崎龙一;万川宏史;增田滋;林博史;三毛正明 -专利权人：诺日士钢机株式会社
申请日： 2008-05-21 - 公布日： 2008-11-26 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种工件处理装置(S)，包括：等离子体发生装置(6)，具有将提供的规定气体等离子体化的等离子体发生部(18)，并从所述等离子体发生部(18)放出等离子体化的气体；输送装置(2)，在所述等离子体发生部(18)的下方支撑作为处理对象的工件(W)；通过对所述工件(W)照射等离子体化的气体，执行规定的处理；所述工件处理装置(S)还包括安装框(4)，用于安装所述等离子体发生装置(6)，以使所述等离子体发生部(18)位于工件(W)上方。而且，所述等离子体发生装置(6)相对于所述安装框(4)安装成可以从使所述等离子体发生部(18)配置在工件(W)上方的安装位置沿水平方向拉出。
工件处理装置

[发明专利]等离子体发生装置及使用这种装置的工件处理装置-CN200710148035.X无效
发明人：新井清孝;万川宏史;松内秀高;岩崎龙一;吉田和弘;增田滋;林博史;三毛正明 -专利权人：诺日士钢机株式会社
申请日： 2007-08-29 - 公布日： 2008-03-05 - 主分类号： H05H1/30 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体发生装置以及使用这种装置的工件处理装置，该等离子体发生装置包括：微波发生部，生成微波；气体供给部，提供等离子体化的气体；等离子体发生喷嘴，包括接收上述微波的内侧电极、以及同心配置在该内侧电极外侧的外侧电极，并根据上述微波的能量，将上述气体等离子体化后从前端喷出；以及适配器，安装在上述等离子体发生喷嘴的前端，其中，上述等离子体发生喷嘴使上述内侧电极与外侧电极之间产生辉光放电，生成等离子体，并通过向这两个电极之间供应上述气体，在常压下把等离子体化的气体从两个电极之间的环状排出口喷射出来，上述适配器把上述环状排出口变换成长形的排出口。
等离子体发生装置使用这种工件处理

[发明专利]等离子体发生装置和工件处理装置-CN200710079921.1无效
发明人：松内秀高;岩崎龙一;万川宏史;增田滋;林博史;三毛正明 -专利权人：诺日士钢机株式会社
申请日： 2007-02-17 - 公布日： 2007-08-29 - 主分类号： H05H1/30 文献下载
摘要：本发明的等离子体发生装置包括：微波发生部，生成微波；供气部，提供等离子体化的气体；等离子体发生喷嘴，包含接收所述微波的接收构件，并根据接收到的微波的能量，使所述气体等离子体化后喷出；以及光检测单元，检测所述等离子体化的气体发出的光，生成电信息。
等离子体发生装置工件处理

[发明专利]等离子体发生装置和工件处理装置-CN200710002873.6无效
发明人：吉田和弘;岩崎龙一;万川宏史 -专利权人：诺日士钢机株式会社
申请日： 2007-02-08 - 公布日： 2007-08-29 - 主分类号： H05H1/30 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体发生装置以及使用该等离子体发生装置的工件处理装置。所述等离子体发生装置包括：装置主体，具有微波发生部以及等离子体发生喷嘴，该微波发生部产生微波，该喷嘴基于所述微波的能量产生并喷出等离子体化的气体；微波接收部，接收从所述装置主体泄漏的微波；以及控制部，一旦用所述接收部接收到微波，就使所述微波发生部停止产生微波。
等离子体发生装置工件处理