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[发明专利]偶氮化合物、油墨组合物、喷墨记录方法及着色体-CN201680054702.5有效
发明人：米田孝;栅木顺哉;大岛贤司;饭野拓 -专利权人：日本化药株式会社
申请日： 2016-09-26 - 公布日： 2020-06-05 - 主分类号： C09B31/30 文献下载
摘要：本发明的偶氮化合物、及含有该偶氮化合物的油墨组合物适合用作喷墨记录用油墨，尤其在记录于喷墨专用纸时耐(臭氧)气体性特别优异。[化1]式(1)中，R1表示C1至C4烷基等，R2表示氰基等，R3及R4分别独立地表示C1至C4烷氧基等，R5至R10分别独立地表示下式(2)所表示的基等，R11至R13分别独立地表示硝基等。[化2]式(2)中，R14为苯胺基等，R15为单‑或二‑C1至C6烷基胺基等。
偶氮化合物油墨组合喷墨记录方法着色

[发明专利]偶氮化合物及含有该化合物的染料型偏振膜和偏振板-CN201580018238.X有效
发明人：樋下田贵大;西口卓斗;中村光则 -专利权人：日本化药株式会社;宝来技术有限公司
申请日： 2015-03-27 - 公布日： 2018-11-02 - 主分类号： C09B31/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种偶氮化合物，其作为偏振性能和耐久性优良并且在可见光区域内的漏色少的偏振板以及使用该偏振板的车载用途用中性灰色偏振板中使用的二色性色素有用。更具体地说，本发明涉及由式(1)表示的偶氮化合物或其盐，式中，R₁～R₄各自独立地表示氢原子、碳原子数1～5的烷基、碳原子数1～5的烷氧基、磺基或具有磺基的碳原子数1～5的烷氧基，X表示具有取代基的氨基、具有取代基的苯甲酰基氨基、具有取代基的苯基氨基、具有取代基的苯基偶氮基或具有取代基的萘并三唑基，m表示3或4，n表示1或2，p表示1、2或3。
偶氮化合物含有染料偏振

[发明专利]偶氮化合物、油墨组合物、记录方法以及着色体-CN201180060006.2有效
发明人：吉本隆志;川口彬;大岛贤司 -专利权人：日本化药株式会社
申请日： 2011-12-14 - 公布日： 2013-10-23 - 主分类号： C09B31/30 文献下载
摘要：在喷墨专用纸上记录的时候，作为耐（臭氧）气性极其优异、印字浓度非常高、无显色性、且彩度低、具有高品位的黑色色相的色素，提供由下式（1）表示的偶氮化合物或其互变异构体、或者它们的盐。另外，提供含有该色素的油墨组合物、尤其是喷墨记录用的黑色油墨组合物。式中，R¹表示（C1～C4）烷基等，R²表示氰基等，R³及R⁴分别独立地表示氢原子、磺基、（C1～C4）烷氧基等，R⁵及R⁷分别独立地表示（C1～C4）烷硫基等，R⁶及R⁸分别独立地表示（C1～C4）烷基羰基氨基，R⁹及R¹⁰分别独立地表示（C1～C4）烷氧基等，R¹¹～R¹³分别独立地表示氢原子、磺基等。
偶氮化合物油墨组合记录方法以及着色

[发明专利]偶氮化合物及其盐、含有它们的染料型偏振膜以及偏振板-CN201280008018.5有效
发明人：樋下田贵大;西口卓斗 -专利权人：日本化药株式会社;宝来技术有限公司
申请日： 2012-02-06 - 公布日： 2013-10-09 - 主分类号： C09B31/30 文献下载
摘要：本发明涉及由下述式(1)表示的偶氮化合物及其盐[式中，A表示具有取代基的萘基，R₁至R₆各自独立地表示氢原子、碳原子数1至5的烷基、碳原子数1至5的烷氧基、磺基、或具有磺基的碳原子数1至5的烷氧基，X表示具有取代基的苯甲酰氨基、具有取代基的苯基氨基、具有取代基的苯基偶氮基、或具有取代基的萘并三唑基]。通过使用本发明的偶氮化合物或其盐，能够提供偏振性能及耐久性优良、并且在可见光区域内漏色少的中性色的偏振板及液晶投影机用彩色偏振板。
偶氮化合物及其含有它们染料偏振以及

[发明专利]偶氮化合物、染料型偏振膜及偏振板-CN201280008020.2有效
发明人：樋下田贵大;西口卓斗 -专利权人：日本化药株式会社;宝来技术有限公司
申请日： 2012-02-06 - 公布日： 2013-10-09 - 主分类号： C09B31/30 文献下载
摘要：本发明涉及由下式(1)[式中，A表示可具有取代基的苯基，R₁至R₆各自独立地表示氢原子、碳原子数1至5的烷基、碳原子数1至5的烷氧基或具有磺基的碳原子数1至5的烷氧基，X表示可具有取代基的苯甲酰氨基、可具有取代基的苯基氨基、可具有取代基的苯基偶氮基或可具有取代基的萘并三唑基]表示的偶氮化合物和/或其盐、包含该偶氮化合物和/或其盐的偏振膜及偏振板，因此，使用上述偶氮化合物的本发明的偏振板具有高偏振率及高对比度，在可见光区域内的漏色也少，光学性能优良，并且耐久性也优良，可广泛应用于液晶投影机等液晶显示装置及其它装置。
偶氮化合物染料偏振

[发明专利]直接耐晒黑G无污染生产工艺-CN200910068318.2有效
发明人：张超水;张宝文;李新勇;王淑娜;李国栋 -专利权人：天津市亚东化工染料厂
申请日： 2009-03-31 - 公布日： 2009-11-18 - 主分类号： C09B31/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种直接耐晒黑G无污染生产工艺，实施步骤如下：先将对硝基苯胺重氮化后，与H-酸经一次酸性偶合。检测H-酸反应完全后加入纯碱调整pH＝8-8.2，进行二次碱性偶合。偶合产物加入硫化钠溶液还原，反应过程温度逐渐上升至t＝38-40℃。还原产物酸析后加入纯碱调介质7.5～8后，用活性碳吸附再过滤，所得滤液重氮化后与间苯二胺进行三次偶合。检测反应至终点后，物料直接送至干燥塔喷雾干燥。本发明中还原后的反应液无需盐析、酸析、过滤，改为活性碳吸附。该过程不产生废液，大大减少了染料生产过程对环境的污染。同时无需处理废水，节约成本。该优化工艺将三次偶合后的反应液直接转入干燥塔喷雾干燥；有效提高染料的收率及着色强度，节能降耗，效果显著。
直接晒黑无污染生产工艺

[发明专利]一种直接混纺藏青D－R染料的制备工艺-CN200810107102.8有效
发明人：张正富;诸金法;仲连兴 -专利权人：吴江梅堰三友染料化工有限公司
申请日： 2008-07-09 - 公布日： 2008-11-19 - 主分类号： C09B31/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种直接混纺藏青D－R染料的制备工艺，主要由重氮化反应、一次偶联反应、二次重氮化反应及二次偶联反应组成。该工艺相比传统工艺革除了中间的提纯步骤，即一次偶联反应的溶液直接进行二次重氮化反应，由于提纯步骤的减少，可以大大减少印染废水排放量、节约能耗、节省工时，具有工艺简便、安全、省钱、实效等优势。
一种直接混纺藏青染料制备工艺