[发明专利]改善了亚饱和下的分配性能的流体分配材料无效

申请号：	99805872.6	申请日：	1999-03-12
公开（公告）号：	CN1299261A	公开（公告）日：	2001-06-13
发明（设计）人：	弗雷德·德萨伊;托马斯·A·德斯马雷斯;布鲁诺·J·埃恩斯珀格;马蒂厄斯·施米特	申请（专利权）人：	宝洁公司
主分类号：	A61F13/15	分类号：	A61F13/15
代理公司：	柳沈知识产权律师事务所	代理人：	封新琴
地址：	美国俄亥俄***	国省代码：	暂无信息
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摘要：
搜索关键词：	改善饱和分配性能流体材料
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【权利要求书】：

1、一种流体处理元件，该元件具有其0cm高度处容量的50％的毛细解吸高度(CSDH 50)，还具有100％饱和时的液体渗透率k(100)和50％饱和时的渗透率k(50)，其特征在于CSDH50值约小于150厘米，还在于k(100)的值大于约1达西，k(50)的值是k(100)值的约14％以上。

2、根据权利要求1的流体处理元件，其中元件的k(100)值大于约2达西。

3、根据权利要求1的流体处理元件，其中元件的k(100)值大于约8达西。

4、根据权利要求1的流体处理元件，其中元件的k(100)值大于约100达西。

5、根据权利要求1至4中任一项的流体处理元件，其中元件的k(50)值是k(100)的约18％以上。

6、根据权利要求5的流体处理元件，其中元件的k(50)值是k(100)的约25％以上。

7、根据权利要求6的流体处理元件，其中元件的k(50)值是k(100)的约35％以上。

8、根据权利要求1至7中任一项的流体处理元件，其中元件在其饱和度的30％下的渗透率k(30)是k(100)的约3.5％以上。

9、根据权利要求8的流体处理元件，其中元件的k(30)值是k(100)的约5％以上。

10、根据权利要求9的流体处理元件，其中元件的k(30)值是k(100)的约10％以上。

11、根据权利要求1至10中任一项的流体处理元件，其中元件的CSDH50值小于约100cm。

12、根据权利要求11的流体处理元件，其中元件的CSDH50值小于约75cm。

13、根据权利要求12的流体处理元件，其中元件的CSDH50值小于约50cm。

14、一种流体处理元件，该元件具有毛细解吸高度(CSDH50)，还具有100％饱和时的渗透率k(100)和50％饱和时的渗透率k(50)，其特征在于CSDH50值约小于150厘米，还在于在100％饱和下的渗透率k(100)的值大于约1达西，在50％饱和下的渗透率k(50)的值是k(100)值的约14％以上，还在于在本文所述的垂直芯吸试验中在15厘米芯吸高度下的通量至少为0.045克/平方厘米/秒。

15、根据权利要求14的流体处理元件，其在15厘米芯吸高度下的通量至少为0.06克/平方厘米/秒。

16、根据权利要求14的流体处理元件，其在15厘米芯吸高度下的通量至少为0.1克/平方厘米/秒。

17、根据权利要求14的流体处理元件，其中元件的k(100)值大于约2达西。

18、根据权利要求14的流体处理元件，其中元件的k(100)值大于约8达西。

19、根据权利要求14的流体处理元件，其中元件的k(100)值大于约100达西。

20、根据权利要求14至19中任一项的流体处理元件，其中元件的k(50)值是k(100)的约18％以上。

21、根据权利要求20的流体处理元件，其中元件的k(50)值是k(100)的约25％以上。

22、根据权利要求20的流体处理元件，其中元件的k(50)值是k(100)的约35％以上。

23、根据权利要求14至22中任一项的流体处理元件，其中元件在其饱和度的30％下的渗透率k(30)是k(100)的约3.5％以上。

24、根据权利要求23的流体处理元件，其中元件的k(30)值是k(100)的约5％以上。

25、根据权利要求23的流体处理元件，其中元件的k(30)值是k(100)的约10％以上。

26、根据权利要求14至25中任一项的流体处理元件，其中元件的CSDH50值小于约100cm。