[发明专利]有可调喷射器的等离子喷管和使用该喷管的气体分析仪

权利要求书

1一种等离子喷管，它用于激励气体以便对该气体进行分析，所述喷管包括：一喷射器(12)，它具有呈总管形式的结构，以便与一气源相连，该气源用于提供要加以分析的气体；以及，一外部柱形套管(14、42)，它具有双层壁面(28/30、42A/42B)、与所述喷射器(12)相共轴并且在该套管的连续内部与外部壁面〔SiC〕之间限定了一柱形环状通道(32)，该通道用于提供等离子气体，所述套管用于与相应的供给源相连，以便在所述套管(14、42)的出口处生成等离子(P)；所述喷管的特征在于：前述喷射器的直径是可变的。

2如权利要求1的等离子喷管，其特征在于，所述喷射器的直径是可变的，该直径通过采用下列结构而具有至少两个值，所述结构是：喷射器由至少两个共轴的导管即一个是外部导管(20)且至少另一个是内部导管(90)构成，所述至少一个内部导管能在外部导管内垂直滑动(91/92/93)。

3如权利要求2的等离子喷管，其特征在于，该等离子喷管包括作用于微型缸(92)的气动驱动装置(91)，所述微型缸的活塞杆与一连接件(93)相连，而连接件本身则连接于内部导管(90)，从而能使得所说的至少〔lacuna〕内部导管在所述外部导管内滑动。

4如前述权利要求之一的等离子喷管，其特征在于，所述喷射器的直径在1至3mm的范围内，最好在1.8至2.3mm的范围内。

5如权利要求1至3中的一个的等离子喷管，其特征在于，所述喷射器的直径在0.8至2mm的范围内，最好在1.3至1.7mm的范围内。

6如前述权利要求之一的等离子喷管，其特征在于，所述喷射器包括一辅助外侧导管(22)，它与上述总管相共轴并限定了两个共轴的通道即内部和外部共轴通道，这两个通道中的一个用于将要加以分析的气体提供给喷管，另一个用于将用来在等离子中引导要加以分析的气体的气体提供给所述喷管。

7如前述权利要求之一的等离子喷管，其特征在于，所述套管(14)的外部壁面(30)构成了上述喷管(10)的外部壁面。

8如前述权利要求之一的等离子喷管，其特征在于，所述等离子气体和/或所述引导气体包括氩和/或氦。

9如前述权利要求之一的等离子喷管，其特征在于，所述喷管还包括一中间导管(40)，它与上述套管(42)相共轴，并且位于该套管的外部壁面(42A)与内部壁面(42B)之间，所述中间导管(40)与所述套管的外部壁面(42A)限定了一通道(45)，它用于提供气体，该气体用于将所述套管的外部壁面(42A)的内表面与固体沉积物隔离开。

10如权利要求9的等离子喷管，其特征在于，所述用于提供隔离气体的通道(45)构成了这样一种通道，它用于提供包含化合物的气体，所述化合物适于与易于沉积在所述套管外部壁面(42A)上的固体沉积物相反应，以便形成挥发性化合物。

11一种气体分析仪，其特征在于，该气体分析仪包括：如权利要求1至10中任何一个的等离子喷管(54)，它与用来提供要加以分析的气体(G)的气源相连，并与用来提供等离子气体的气源相连而且如果需要的话还与用来在等离子(P)中引导要加以分析的气体(G)的气体源相连，所述等离子则在前述等离子气体内生成在所述喷管(54)的出口处；以及，光学检测装置(58)，它们能测定等离子(P)中存在的杂质所发射的光强(I)并与一处理器(60)相连，该处理器包括这样的装置，它用于根据所述光强(I)的测定值和至少一个预定的参照值来计算出杂质的浓度，所述预定参照值存储在与上述处理器(60)相联的存储器(84)中，并且可通过预先校准而获得。

12如权利要求11的分析仪，其特征在于，所述分析仪包括一用于生成标准样本的装置(75)，该装置包括：

-由一种或多种元素的溶解盐溶液构成的溶液源(80)；

-一喷雾装置(78)；

-一溶剂分离装置(76)；

所述生成装置(75)的一个出口与用来将要加以分析的气体提供给所述喷管的通道相连。