[发明专利]X射线管内电子流的控制方法和实施该方法的X射线装置

权利要求书

1．一种X射线管内电子流的控制方法，所述电子流是处在X射线管内的一个电子发射极和一个阳极之间的电子束，所述电子发射极在X射线管工作期间被持续加热，并且为所述电子发射极配有相应的聚焦电极，其中的电子束打在阳极的一个焦点上，而且在所述电子发射极和阳极之间加有射线管电压，其中加在聚焦电极上的电位以一个脉冲频率在根据所需焦点尺寸和/或射线管电压选择的一个导通电压和一个能切断通向阳极的电子流的截止电压之间变化，其中为了控制所述电子流，对脉冲宽度进行调制。

2．如权利要求1所述的方法，其中，加在聚焦电极上的并在所述导通电压和所述截止电压之间变化的电位的脉冲频率大于1kHz。

3．如权利要求2所述的方法，其中，所述脉冲频率在1-10kHz之间。

4．如权利要求1至3中任一项所述的方法，其中，加在聚焦电极上的并在所述导通电压和所述截止电压(U_s)之间变化的电位的脉冲频率的脉冲上升时间小于100μs。

5．如权利要求4所述的方法，其中，所述脉冲上升时间小于10μs。

6．如上述任一项权利要求所述的方法，其中，根据连接在X射线管后面的一个探测系统的摄像频率对加在聚焦电极上的并在所述导通电压和所述截止电压之间变化的电位的脉冲频率进行选择。

7．如上述任一项权利要求所述的方法，其中，加在聚焦电极上的并在所述导通电压和所述截止电压之间变化的电位的脉冲频率与连接在X射线管后面的所述探测系统的摄像操作同步。

8．如权利要求7所述的方法，其中，脉冲工作状态使用一个PLL同步。

9．一种X射线装置，其具有一个X射线管，所述X射线管内具有一个在X射线管工作期间被持续加热并配有相应聚焦电极(3)的电子发射极(2)，并且还具有一个阳极(4)，处在所述电子发射极(2)和所述阳极(4)之间的电子流是以电子束(5)的形式流动的，所述电子束(5)打在阳极(4)的一个焦点上，而且在所述电子发射极(2)和阳极(4)之间加有射线管电压(U_R)，此外还具有一个控制装置(10)，通过该装置使加在聚焦电极(3)上的电位(U_F)以一个脉冲频率在根据所需焦点尺寸和/或射线管电压(U_R)选择的一个导通电压(U_d)和一个能切断通向阳极的电子流的截止电压(U_s)之间变化，并且为了控制所述电子流，对脉冲宽度进行调制。

10．如权利要求9所述的X射线装置，其中备有一个存储器，其中存储根据所需焦点尺寸和/或射线管电压(U_R)变化的导通电压(U_d)的值。

11．如权利要求9或10所述的X射线装置，其中，所述X射线管的聚焦电极(3)基本呈环形，并且电子发射极(2)和聚焦电极(3)同心布置。

12．如权利要求9至11中任一项所述的X射线装置，其中，所述控制装置(10)使加在聚焦电极(3)上的电位(U_F)以一个大于1kHz的脉冲频率脉动。

13．如权利要求12所述的X射线装置，其中，所述脉冲频率在1-10kHz之间。

14．如权利要求9至13中任一项所述的X射线装置，其中，所述控制装置(10)使加在聚焦电极(3)上的电位(U_F)在所述导通电压(U_d)和所述截止电压(U_s)之间变化的脉冲上升时间小于100μs。

15．如权利要求14所述的X射线装置，其中，所述脉冲上升时间小于10μs。

16．如权利要求9至15中任一项所述的X射线装置，其中，所述控制装置(10)使加在聚焦电极(3)上的电位(U_F)在所述导通电压(U_d)和所述截止电压(U_s)之间脉动变化的脉冲频率，根据连接在X射线管(1)后面的探测系统(9)的摄像频率由所述控制装置(10)进行调整。