[发明专利]光学信息记录媒体及其制造方法有效
| 申请号: | 98109250.0 | 申请日: | 1998-03-31 |
| 公开(公告)号: | CN1198568A | 公开(公告)日: | 1998-11-11 |
| 发明(设计)人: | 音羽真由美;山田升;大田启之;大野锐二;河原克己 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 叶恺东,王岳 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 信息 记录 媒体 及其 制造 方法 | ||
1.一种光学信息记录媒体,具有光学特性可逆变化的信息层、以GeXN和GeXON中选出的任一种为主要成分的含Ge层,其特征在于所述X由从下述元素中选出的至少一种元素构成:IIIa族元素、IVa族元素、Va族元素、VIa族元素、VIIa族元素、VIII族元素、Ib族元素、IIb族元素和C。
2.根据权利要求1的光学信息记录媒体,其特征在于含Ge层接在信息层的至少一面。
3.根据权利要求1的光学信息记录媒体,其特征在于含Ge层接在信息层的两面。
4.根据权利要求3的光学信息记录媒体,其特征在于信息层两面上的含Ge层中的X含有率不同。
5.根据权利要求3的光学信息记录媒体,其特征在于从信息层方向看,位于激光入射侧的含Ge层具有用(Ge1-mXm)aObNc(0<m<1、a>0、b≥0、c>0、a+b+c=100)表示的组成;位于与所述激光入射侧相反的侧的含Ge层具有用(Ge1-nXn)dOeNf(0<n<1、d>0、e≥0、f>0、d+e+f=100)表示的组成;且满足m<n的关系。
6.根据权利要求1的光学信息记录媒体,其特征在于含Ge层中的Ge和X的组成比用Ge1-kXk(0<k≤0.5)表示。
7.根据权利要求1的光学信息记录媒体,其特征在于含Ge层中的(GeX)、O和N的组成比处在(GeX)、O、N三元组成图中的组成点A((GeX)90.0O0.0N10.0)、B((GeX)83.4O13.3N33)、C((GeX)35.0O0.0N65.0)、D((GeX)31.1O55.1N13.8)围成的范围内。
8.根据权利要求7的光学信息记录媒体,其特征在于含Ge层中包含的Ge和X的组成比用Ge1-pXP(0<P≤0.5)表示。
9.根据权利要求1的光学信息记录媒体,其特征在于含Ge层的膜厚大于1nm。
10.根据权利要求1的光学信息记录媒体,其特征在于X包含从Cr、Mo和Mr中选出的至少一种元素。
11.根据权利要求1的光学信息记录媒体,其特征在于X包含从Ti、Zr、Nb和Ta中选出的至少一种元素。
12.根据权利要求1的光学信息记录媒体,其特征在于X包含从Fe、Co和Ni中选出的至少一种元素。
13.根据权利要求1的光学信息记录媒体,其特征在于X包含从Y和La中选出的至少一种元素。
14.根据权利要求1的光学信息记录媒体,其特征在于信息层是从Te、Se和Sb中选出的某一种元素为主要成分的相变材料。
15.根据权利要求1的光学信息记录媒体,其特征在于信息层是以Te、Sb和Ge三种元素为主要成分的相变材料。
16.一种光学信息记录媒体的制造方法,具有光学特性可逆变化的信息层的成膜步骤和以GeXN和GeXON中选出的某一种材料为主要成分的含Ge层的成膜步骤,其特征在于用至少含Ge和X的靶,在含有稀有气体和氮气的混合气体中,用反应性溅射法来制造所述含Ge层;其中所述X是从IIIa族元素、IVa族元素、Va族元素、VIa族元素、VIIa族元素、VII族元素、Ib族元素、IIb族元素和C中选出的至少一种元素。
17.根据权利要求16的光学信息记录媒体的制造方法,其特征在于混合气体还包含氧气。
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