[发明专利]量度地层密度及地层光电因素的方法和仪器无效

专利信息
申请号: 98104498.0 申请日: 1998-02-19
公开(公告)号: CN1192535A 公开(公告)日: 1998-09-09
发明(设计)人: C·斯托勒;D·C·麦基翁;N·I·威杰西埃凯拉;P·D·赖特;U·达斯古普塔 申请(专利权)人: 施卢默格海外有限公司
主分类号: G01V5/00 分类号: G01V5/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 叶恺东,王岳
地址: 巴拿马*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 量度 地层 密度 光电 因素 方法 仪器
【权利要求书】:

1.一种测定钻孔周围地层的性质仪器,其特征在于,包括:

a)可辐照该有γ射线发射地层的源头;

b)短、中和长距的探测器,位于该仪器内,与该γ射线发射源头的距离,按序顺序加大。该等探测器有能力产生讯号,指示出每个探测器探测到的γ射线发射能量;

c)包括所述γ射线源头和探测器的装置;该装置有能力在不协调的钻孔环境中操作,并保持机械特性;

d)据探测器讯号计算地层密度的装置;及

e)根据该探测器讯号计算该土地层光电因素的装置。

2.如权利要求1所述的仪器,其特征在于,第一、第二及第三个探测器,均需独特的予以对准,使每个探测器能从不同的深度范围,探测γ射线。

3.如权利要求1所述的仪器,其特征在于,所述短、中及长间距探测器,在地层内须有不同的调查深度;该等深度根据探测器与γ射线源头的距离大小有所增加。

4.如权利要求1所述的仪器,其特征在于,还包括设置在源头与探测器之间的屏蔽,用以防止γ射线直接从源头射入探测器,以屏蔽探测器周围的部分,屏蔽发射在钻孔中的γ射线。

5.如权利要求2所述的仪器,其特征在于,其特征在于,所述γ射线发射源头应予对直,使该源头放射的γ射线发射进入该地层时,其角度调向,最好是能加强发射趋往工具探测器的方向。

6.一种测定钻孔周围地层性质的方法;其特征在于,包括以下步骤:

a)对准发射源头和短、中及长距探测器,使该源头的发射进入该地层时,其角度调向,最好是能加强发散趋往位于该钻孔的发射探测器方向,这些探测器的位置,使其与发射源头的距离顺次增加;

b)从该发射源头,辐照该有γ射线的地层;

c)从该每个探测器探测到的γ射线,产生γ射线光谱;

d)从每个探测器光谱计算明显的密度;及

e)从每个探测器光谱量度光电效应。

7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,还包括计算包括探测器与源头的仪器与钻孔壁之间的间隙距离的步骤,以形成所有三个探测器的光谱。

8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,还包括补偿该光电效应的步骤,以说明该仪器的间隙。

9.如权利要求7所述的方法,其特征在于,地层密度、间隙、及地层光电效应,应由一密度、间隙、及光电效应的前向模式,及前向模式随后的逆转予以计算。

10.如权利要求6所述的方法,其特征在于,还包括在步骤(e)之前,有一个充分发挥中间探测器准直的步骤,以改善中间探测器对地层光电效应的应答。

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