[发明专利]用于加工读/写磁头的工具及其相关方法无效
| 申请号: | 96198000.1 | 申请日: | 1996-10-15 |
| 公开(公告)号: | CN1201548A | 公开(公告)日: | 1998-12-09 |
| 发明(设计)人: | 丹·W·昆塔那;克里斯·布露萨连;小约翰·凯尔;乔治那·尼尔森;乔格·杰迈尔卡;罗伯特·切斯那特;威廉姆·乔布里奇 | 申请(专利权)人: | 昆腾外围设备科罗拉多公司 |
| 主分类号: | G11B5/127 | 分类号: | G11B5/127;B44C1/22;H01L21/00 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 杜日新 |
| 地址: | 美国科*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 工读 磁头 工具 及其 相关 方法 | ||
本发明涉及一种用于加工记录磁头的工具。更确切地说,本发明涉及一种用于按批加工以便在读/写磁头上形成气浮支承表面的新颖和改进的工具以及相关方法。
用于在浮动块上形成气浮支承的常规机加工方法可能已不再使用,因为对于在读/写磁头或浮动块上的甚小尺寸的气浮支承结构要求严格的公差。为了在浮动块上形成气浮支承结构已经研究改进了很多方法,它们需要采用更先进的技术例如当代在集成电路加工中采用的光刻技术。一种方法是等离子加工导轨法即“PDR”加工方法。该PDR加工方法在磁盘驱动器性能特别是在用在磁盘驱动器中的读/写磁头的性能方面的几个关键性改进上是起作用的。
在一个条被分成各个浮动块之前,当各浮动块仍然综合在一起包括在一平直且薄的条中时,要确定在各浮动块上的气浮支承结构形状。然而,当将PDR加工技术应用于各单个条时,还带来一系列的制造问题,因为需要薄膜涂覆(光敏抗蚀剂沉积层)、掩膜对准和蚀刻步骤。一个PDR处理单元效率是很低的,因为单个条操纵是耗时的,各个条会有很高的损坏危险,因为每个都是易碎的,在进行PDR处理时要单独操纵几次,以及导致逐个条形成的气浮支承结构形状在很宽的范围变化。因此,虽然为了形成所需的气浮支承表面PDR加工处理是必须的,由于寿命、成本和效率问题使对于这些薄而窄的条采用PDR加工处理已受到限制。
在本技术领域中还缺少一种以批处理方式用于在多个形成有各个浮动块的条上形成气浮支承结构形状的工具和相关的方法。这样一种工具应能保在很多个条的范围内得到均匀的处理结果、高的产品合格率,以及使由于频繁操纵引起的排行元件损坏的危险降低。
本发明的主要目的是提供一种用于对读/写磁头按批机加工和等离子加工处理的工具。
本发明的另一目的是提供一种工具其能使在具有各浮动块的条上对气浮支承特征部分进行PDR加工处理过程中均匀涂覆光敏抗蚀剂。
本发明的再一目的是提供一种工具,其能在对气浮支承特征部分进行PDR加工处理时群校准和曝光能力。
本发明的再一目的是在读/写磁头上形成气浮支承断面的过程中降低操纵带来的损害和去掉几种操作。
根据如下的介绍和附图将会使本发明的其它目的变得更明显。
在一用于在多个条上形成气浮支承表面的工具中使本发明得以体现,各个条是细长的,并形成有纵向相对的两侧面,第一端和第二端,顶面和底面。各个条每个包括多个单个的浮动块。
该工具包括:一主体构件,具有长度定义了的Y轴方向、宽度定义了x轴方向和厚度定义了的z轴方向。该主体构件的顶面形成有一平台,第一和第二定位面,每个位于在平台的相对侧面上。平台具有的平直上表面形成为一面向上的z轴基础面,平台还形成有Y轴校准基准面。第二定位面形成x轴校准准基准面。
为了加工各个条定位在该工具上,其中平台的上表面结合多个条的下表面,以保证在该工具上沿x轴适当定位。Y轴校准基准面与一锚定的条中的一个纵向侧面结合,以保证沿Y轴适当定位,x轴校准基准面贴合多个条的第二端面,以保证沿x轴的适当定位。定位在平台上表面上的顺序的各个条的一个纵向侧面贴靠先前定位的一个条以维持各个条之间的沿Y轴的适当定位;每一个条的第二端面贴合x轴校准基准面以保证在各个条之间沿x轴适当定位,使得在每一个条中的各浮动块与相邻各个条中对应的浮动块沿Y轴方向定位,以及各个条的顶面处在一共有的平面内。
x轴校准基准面是可选择移动的,以便将各个条选择性地定位在平台上,同时维持在各个条之间的沿y轴的取向。
平台可以形成有多个沿Y轴方向延伸的梁形件。每个梁形件由一个槽隔开并具有一顶端。各梁形件的顶端处在一共有的平面内,用以支承多个条的底面。
一顶板以可松开的方式可与主体构件结合。顶板形成有面向下的平直的z轴基准面,当顶板结合到主体构件上时,其z轴基准面直接朝向在平台上的面向上的z轴基础面,以便当将粘接剂置于主体构件的面向上的z轴基础面和各个条之间时,将各个条的顶面定位在一共有的平面内。
主体构件具有一底面,该底面中又可形成一个腔,其尺寸随平台共同扩展,用于改进对平台的传热特性。
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