[发明专利]在3－异噻唑酮配制剂中防止沉淀的方法

权利要求书

1.一种组合物，包括：a)0.1～20wt％的3-异噻唑酮；b)0.1～25wt％的金属硝酸盐；c)0.1～100ppm的Cu²⁺离子及d)一种溶剂。

2.权利要求1中所要求的组合物，其中，Cu²⁺离子的含量为1～10ppm。

3.权利要求2中所要求的组合物，其中Cu²⁺离子的含量为1～5ppm。

4.权利要求1～3中任何一项所要求的组合物，其中3-异噻唑酮包括5-氯-2-甲基-3-异噻唑酮，2-甲基-3-异噻唑酮4，5-二氯-2-甲基-3-异噻唑酮，2-正辛基-3-异噻唑酮或4，5-二氯-2-辛基-3-异噻唑酮。

5.权利要求4中所要求的组合物，其中3-异噻唑酮包括一种比例为3∶1的5-氯-2-甲基-3-异噻唑酮：2-甲基-3-异噻唑酮的混合物。

6.权利要求1中所要求的组合物，其中金属硝酸盐是硝酸镁。

7.权利要求1中所要求的组分，其中Cu²⁺离子是硝酸铜。

8.权利要求1中所要求的组分，包括12～16wt％的3-异噻唑酮，12～25wt％的硝酸镁及1～5ppm的Cu²⁺离子。

9.减少或防止在含0.1～20wt％的3-异噻唑酮和0.1～25wt％的金属硝酸盐的配制剂中形成沉淀的方法，包括向其中掺入1～100ppm的Cu²⁺离子。

10.Cu²⁺离子在减少或防止在含0.1～20wt％的3-异噻唑酮和0.1～25wt％的金属硝酸盐的配制剂中形成沉淀方面的用途。